CN206515299U - 相控阵检测平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及相控阵检测领域，特别是一种相控阵检测平台，其包括：支撑架，所述支撑架上设置有水循环装置；延迟块，所述延迟块内安装有探头，所述延迟块内设置有水流通道，所述水流通道的进口和所述水循环装置连通，所述通道的出口位于延迟块外端表面，所述延迟块外端表面为所述延迟块上位于探头前方的外表面，本实用新型的发明目的在于提供一种克服接触法检测和水浸法检测的缺点，能够使操作人员更方便、高效进行超声波检测，同时耗水量比水浸法检测低的相控阵检测平台。

Description

相控阵检测平台

技术领域

本实用新型涉及相控阵检测领域，特别是一种相控阵检测平台。

背景技术

现有技术中，对复合材料的检测一般采用超声相控阵检测技术。

一般有两种方法：

A、接触法检测：将零件放置于桌面，检测前先在零件上表面喷洒水，再将探头至于零件表面，要求检测时探头表面与零件表面完全贴合，并在之间形成一层均匀的水膜，检测过程中需防止水流入零件下表面。

存在问题：

第一条：检测员不能边洒水边手持探头进行检测，随时需要停下来洒水；

第二条：当零件上表面为凸面时，水会向下流淌置桌面，桌面的积水会和零件下表面接触，导致检测信号混乱，产生无效信号，检测人员需要随时停下来擦拭桌面和零件下表面的积水。

第三条：当零件上表面为非平面时，探头表面（探头表面为平面）无法完全贴合零件表面，之间的间隙需要用水膜来填充，由于水有流动性，检测时通常一人洒水一人检测，而洒水过多又会导致积水流入桌面，引发第二条问题；

B、水浸法检测：将零件和探头完全浸泡至水槽中，解决上诉接触法检测的三条问题，但预将零件浸泡入水槽，则需制作大于零件尺寸的水槽，零件越大水槽越大，当水槽大到一定层度时，检测人员无法站在槽边触及中间的区域，除非穿上防水服，站在水槽中才能进行检测。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型的发明目的在于提供一种克服接触法检测和水浸法检测的缺点，能够使操作人员更方便、高效进行超声波检测，同时耗水量比水浸法检测低的相控阵检测平台。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

一种相控阵检测平台，其包括：

支撑架，所述支撑架上设置有水循环装置；

延迟块，所述延迟块内安装有探头，所述延迟块内设置有水流通道，所述水流通道的进口和所述水循环装置连通，所述通道的出口位于延迟块外端表面，所述延迟块外端表面为所述延迟块上位于探头前方的外表面。

这样设置，不需要像接触法检测那样进行“洒水”的工作，使操作人员更方便、高效进行超声波检测，同时耗水量比水浸法检测低很多。

作为本实用新型的优选方案，所述支撑架包括支架和格栅，所述水循环装置设置在支架上，所述格栅横向设置在支架上表面方并与支架上表面间具备间隙，水会向下流淌后会从格栅漏下，不会和零件下表面接触，导致检测信号混乱。

作为本实用新型的优选方案，所述水循环装置包括蓄水槽，所述蓄水槽设置在支架上，所述蓄水槽的开口和支架上表面连接且平滑过渡，一体设计，满足功能的情况下更节约材料。

作为本实用新型的优选方案，所述水循环装置还包括水泵，所述水泵设置在所述水槽底部，所述水泵上连通有水循环管，水循环管的出口端与延迟块内的所述水流通道连通。

作为本实用新型的优选方案，所述水槽侧面的上部设置有溢流管。

作为本实用新型的优选方案，所述水槽底部设置有排水管。

作为本实用新型的优选方案，所述支架顶部设置有资料架。

作为本实用新型的优选方案，所述支架顶部还设置有键盘架，所述键盘架位于所述资料架下方。

作为本实用新型的优选方案，所述键盘架可抽拉地安装于支架上。

作为本实用新型的优选方案，所述支架上还设置有给所述水槽供水的自来水管，所述自来水管与外部水流连通。

本实用新型的有益效果是：

克服接触法检测和水浸法检测的缺点，能够使操作人员更方便、高效进行超声波检测，同时耗水量比水浸法检测低。

附图说明

图1是本实用新型的轴测图（未画出延迟块部分）；

图2是本实用新型的正视图（未画出延迟块部分）；

图3是本实用新型的侧视图（未画出延迟块部分）；

图4是本实用新型的延迟块部分结构示意图；

图中标记：1-资料架，2-蓄水槽，3-键盘架，4-格栅，5-自来水管，6-溢流管，7-排水管，8-水循环管，9-线缆口，10-支架，11-水泵，12-延迟块，13-延迟块进水口，14-水流通道，15-延迟块出水口。

具体实施方式

下面结合实施例及具体实施方式对本实用新型作进一步的详细描述。但不应将此理解为本实用新型上述主题的范围仅限于以下的实施例，凡基于本实用新型的发明内容所实现的技术均属于本实用新型的范围。

实施例1

如图1-4，一种相控阵检测平台，其包括：

支撑架，所述支撑架上设置有水循环装置；

延迟块12，所述延迟块12内安装有探头，所述延迟块12内设置有水流通道14，所述水流通道14的进口（即所述延迟块进水口13）和所述水循环装置连通，所述通道的出口（即所述延迟块出水口15）位于延迟块12外端表面，所述延迟块12外端表面为所述延迟块12上位于探头前方的外表面。

本实施例中，所述支撑架包括支架10和格栅4，所述格栅4材料为玻璃钢，所述水循环装置设置在支架10上，所述格栅4横向设置在支架10上表面方并与支架10上表面间具备间隙，所述支架10顶部设置有资料架1和键盘架3，所述键盘架3位于所述资料架1下方，所述键盘架3可抽拉地安装于支架10上。

本实施例中，所述水循环装置包括蓄水槽2、水泵11，所述蓄水槽2设置在支架10上，所述蓄水槽2的开口和支架10上表面连接且平滑过渡，所述水泵11设置在所述水槽底部，所述水泵11上连通有水循环管8，水循环管8的出口端与延迟块12内的所述水流通道14连通，所述水槽侧面的上部设置有溢流管6和线缆口9，所述水泵11的电缆穿过线缆口9连接外部电源，所述水槽底部设置有排水管7，所述支架10上还设置有给所述水槽供水的自来水管5，所述自来水管5与外部水流连通。

检测时，将零件放置于装有玻璃钢格栅4上，将内置水流通道14的延迟块12中安装探头，并将延迟块12放置于零件上表面，打开插座电源，水泵11运转，水通过水循环管8流入延迟块进水口13，随后沿着延迟块12中的水循环管8从延迟块出水口15中流出，到达零件上表面，并与延迟块12间产生水膜；当零件上表面为凸面时，可通过调节水循环管8的阀门（或在延迟块12中增设水路）增大水流量，确保水膜的形成，流往桌面的积水会通过玻璃钢格栅4流入蓄水槽2重复利用，桌面和零件下表面也不会产生积水，检测后，关闭电源，水泵11停止运转，打开排水管7排水。

Claims (10)

1.一种相控阵检测平台，其特征在于，包括：

支撑架，所述支撑架上设置有水循环装置；

延迟块，所述延迟块内安装有探头，所述延迟块内设置有水流通道，所述水流通道的进口和所述水循环装置连通，所述通道的出口位于延迟块外端表面，所述延迟块外端表面为所述延迟块上位于探头前方的外表面。

2.根据权利要求1所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述支撑架包括支架和格栅，所述水循环装置设置在支架上，所述格栅横向设置在支架上表面方并与支架上表面间具备间隙。

3.根据权利要求2所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述水循环装置包括蓄水槽，所述蓄水槽设置在支架上，所述蓄水槽的开口和支架上表面连接且平滑过渡。

4.根据权利要求3所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述水循环装置还包括水泵，所述水泵设置在所述水槽底部，所述水泵上连通有水循环管，水循环管的出口端与延迟块内的所述水流通道连通。

5.根据权利要求4所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述水槽侧面的上部设置有溢流管。

6.根据权利要求5所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述水槽底部设置有排水管。

7.根据权利要求6所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述支架顶部设置有资料架。

8.根据权利要求7所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述支架顶部还设置有键盘架，所述键盘架位于所述资料架下方。

9.根据权利要求8所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述键盘架可抽拉地安装于支架上。

10.根据权利要求9所述的相控阵检测平台，其特征在于，所述支架上还设置有给所述水槽供水的自来水管，所述自来水管与外部水流连通。