CN206467284U - 用于磁控溅射的载具 - Google Patents

用于磁控溅射的载具 Download PDF

Info

Publication number
CN206467284U
CN206467284U CN201621018285.2U CN201621018285U CN206467284U CN 206467284 U CN206467284 U CN 206467284U CN 201621018285 U CN201621018285 U CN 201621018285U CN 206467284 U CN206467284 U CN 206467284U
Authority
CN
China
Prior art keywords
bottom plate
buckle
cover plate
hole
lug boss
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201621018285.2U
Other languages
English (en)
Inventor
吴惠明
郝立鹏
杜成锐
葛青
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kersen Technology Dongtai Co Ltd
Original Assignee
Kersen Technology Dongtai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kersen Technology Dongtai Co Ltd filed Critical Kersen Technology Dongtai Co Ltd
Priority to CN201621018285.2U priority Critical patent/CN206467284U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN206467284U publication Critical patent/CN206467284U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型公开一种用于磁控溅射的载具,包括挂杆管、固定螺丝、套管、挂件盘、盖板、底板、挂孔和拉簧;所述底板上表面具有若干供定位手机指纹环的凸起部和位于底板侧端面的下卡槽,所述盖板5包括开有若干个供凸起部嵌入的让位通孔、和位于上盖板侧端面的上卡槽,所述上盖板与底板之间通过至少2对定位通孔和定位凸点连接;所述拉簧包括弹簧和分别位于弹簧两端的第一卡扣、第二卡扣,所述弹簧与第一卡扣或者第二卡扣之间设置有一拉手部。本实用新型可以最大程度利用镀膜机的空间,降低生产成本,节约人力,提高工作效率。

Description

用于磁控溅射的载具
技术领域
本实用新型涉及一种用于磁控溅射的载具,涉及手机pvd加工领域。
背景技术
目前,镀膜工艺广泛应用于光学、半导体等诸多领域。现有镀膜工艺通常以物理蒸镀法(PhysicsVaporDeposition,PVD)为主。其操作方法一般是将待镀膜工件洗净后置于一支撑机构上,送入镀膜机进行加热及抽真空。在待镀膜工件周围环境形成高真空状态后,加热薄膜材料,以将薄膜材料由固态转化为气态或离子态,并由蒸发源穿越空间,抵达待镀膜工件表面,在表面上沉积而逐渐形成薄膜。
然而,现有的大多数支撑机构的结构对工件放置方式限制较大,且镀膜机因高真空且高温的限制难以加装其它动力装置以驱动支撑机构在镀膜过程中带动工件移动或转动,使得在镀膜过程中,一般仅能从一个方向对工件进行镀膜,从而使得工件表面会出现色差、镀层厚度不均匀等现象,影响镀膜品质。
发明内容
本实用新型目的是提供一种用于磁控溅射的载具,该用于磁控溅射的载具可以最大程度利用真空镀膜机的空间,实现一个镀膜周期产出多组产品,降低生产成本,且挂具在镀膜机内可同时自转公转,可从多个方向对工件进行镀膜,有效避免出现色差、镀层厚度不均匀等现象,使得镀膜更加的稳定均匀,提高产品镀层性能。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种用于磁控溅射的载具,包括挂杆管、固定螺丝、套管、挂件盘、盖板、底板、挂孔和拉簧,此套管套装于挂杆管上,相邻挂件盘之间设置有所述套管,固定螺丝安装在挂杆管两端;
所述底板上表面具有若干供定位手机指纹环的凸起部和位于底板侧端面的下卡槽,所述盖板包括开有若干个供凸起部嵌入的让位通孔、和位于上盖板侧端面的上卡槽,所述上盖板与底板之间通过至少2对定位通孔和定位凸点连接;
所述挂孔固定在底板下表面,所述拉簧包括弹簧和分别位于弹簧两端的第一卡扣、第二卡扣,所述弹簧与第一卡扣或者第二卡扣之间设置有一拉手部,所述拉簧安装于底板的下表面,且其第一卡扣、第二卡扣卡接于在上盖板的上卡槽和底板的下卡槽内,从而将盖板和底板定位在一起;
所述挂件盘进一步包括外圈、内圈和若干挂钩,外圈、内圈之间通过连筋连接,所述若干挂钩沿外圈外侧面周向均匀分布,套管套装于挂杆管上。
上述技术方案中进一步改进的方案如下:
1. 上述方案中,所述让位通孔形状为圆形,所述凸起部形状为方形,此让位通孔和凸起部的数目相等。
2. 上述方案中,所述上卡槽、下卡槽数目为12个,均匀分布在上盖板和底板两侧。
3. 上述方案中,所述凸起部数目为21个,呈3列7行排列,此凸起部和让位通孔一一对应。
4. 上述方案中,所述挂孔以焊接的方式固定在底板背面中间。
5. 上述方案中,所述挂孔位于底板的中上部。
6. 上述方案中,所述上盖板与底板之间具有3对定位通孔和定位凸点,其中2对位于上部,另一对位于下部。
7. 上述方案中,所述挂杆管两端有螺旋状螺纹。
8. 上述方案中,所述挂钩位于连筋延伸方向。
9. 上述方案中,所述挂钩数目为8~10个。
10. 上述方案中,所述挂钩数目为9个。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
本实用新型用于磁控溅射的载具,可以在镀膜机内同时实现自转公转,从多个方向对工件进行镀膜,有效避免出现色差、镀层厚度不均匀等现象,使得镀膜更加的稳定均匀,提高产品镀层性能,降低生产成本。
1. 本实用新型用于磁控溅射的载具,所述底板上表面具有若干供定位手机指纹环的凸起部,所述盖板包括开有若干个供凸起部嵌入的让位通孔,一个治具可以同时加工多个产品,最大程度利用真空镀膜机的空间,降低了生产成本。
2. 所述挂件盘进一步包括外圈、内圈和若干挂钩,外圈、内圈之间通过连筋连接,所述若干挂钩沿外圈外侧面周向均匀分布,挂键盘可以在镀膜机内同时实现自转公转,从多个方向对工件进行镀膜,有效避免出现色差、镀层厚度不均匀等现象,使得镀膜更加的稳定均匀,提高产品镀层性能。
3. 本实用新型用于磁控溅射的载具,套管套装于挂杆管上,相邻挂件盘之间设置有所述套管,固定螺丝安装在挂杆管两端,一根挂杆管上可以安装多个挂件盘,实现一个镀膜周期产出多组产品,最大程度利用镀膜机的空间,降低生产成本。
4. 本实用新型用于磁控溅射的载具,所述拉簧包括弹簧和分别位于弹簧两端的第一卡扣、第二卡扣,所述弹簧与第一卡扣或者第二卡扣之间设置有一拉手部,方便通过拉手部将第一卡扣和第二卡扣快速卡接于上卡槽和底板下卡槽内,节约人力,提高工作效率。
附图说明
附图1为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图一;
附图2为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图二;
附图3为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图三;
附图4为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图四;
附图5为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图五;
附图6为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图六;
附图7为本实用新型用于磁控溅射的载具结构示意图七。
以上附图中:1、挂杆管;2、固定螺丝;3、套管;4、挂件盘;41、挂钩;42、外圈;43、内圈;44、连筋;5、盖板;6、底板;7、挂孔;8、拉簧;105、让位通孔;106、凸起部;107、定位通孔;108、定位凸点;109、上卡槽110、下卡槽;111、弹簧;112、第一卡扣;113、第二卡扣;114、拉手部。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
实施例1:一种用于磁控溅射的载具,包括挂杆管1、固定螺丝2、套管3、挂件盘4、盖板5、底板6、挂孔7和拉簧8,套管3套装于挂杆管1上,相邻挂件盘4之间设置有所述套管3,固定螺丝2安装在挂杆管1两端;
所述底板6上表面具有若干供定位手机指纹环的凸起部106和位于底板6侧端面的下卡槽110,所述盖板5包括开有若干个供凸起部106嵌入的让位通孔105、和位于上盖板5侧端面的上卡槽109,所述上盖板5与底板6之间通过至少2对定位通孔107和定位凸点108连接;
所述挂孔7固定在底板下表面,所述拉簧8包括弹簧111和分别位于弹簧111两端的第一卡扣112、第二卡扣113,所述弹簧111与第一卡扣112或者第二卡扣113之间设置有一拉手部114,所述拉簧8安装于底板6的下表面,且其第一卡扣112、第二卡扣113卡接于在上盖板5的上卡槽109和底板6的下卡槽110内,从而将盖板5和底板6定位在一起;
所述挂件盘4进一步包括外圈42、内圈43和若干挂钩41,外圈42、内圈43之间通过连筋44连接,所述若干挂钩41沿外圈42外侧面周向均匀分布。
上述让位通孔105形状为圆形,所述凸起部106形状为方形,此让位通孔105和凸起部106的数目相等;上述上卡槽、下卡槽109,110数目为12个,均匀分布在上盖板5和底板6两侧;上述凸起部106数目为21个,呈3列7行排列,此凸起部106和让位通孔105一一对应。
实施例2:一种用于磁控溅射的载具,包括挂杆管1、固定螺丝2、套管3、挂件盘4、盖板5、底板6、挂孔7和拉簧8,此套管3套装于挂杆管1上,相邻挂件盘4之间设置有所述套管3,固定螺丝2安装在挂杆管1两端;
所述底板6上表面具有若干供定位手机指纹环的凸起部106和位于底板6侧端面的下卡槽110,所述盖板5包括开有若干个供凸起部106嵌入的让位通孔105、和位于上盖板5侧端面的上卡槽109,所述上盖板5与底板6之间通过至少2对定位通孔107和定位凸点108连接;
所述挂孔7固定在底板下表面,所述拉簧8包括弹簧111和分别位于弹簧111两端的第一卡扣112、第二卡扣113,所述弹簧111与第一卡扣112或者第二卡扣113之间设置有一拉手部114,所述拉簧8安装于底板6的下表面,且其第一卡扣112、第二卡扣113卡接于在上盖板5的上卡槽109和底板6的下卡槽110内,从而将盖板5和底板6定位在一起;
所述挂件盘4进一步包括外圈42、内圈43和若干挂钩41,外圈42、内圈43之间通过连筋44连接,所述若干挂钩41沿外圈42外侧面周向均匀分布。
上述挂孔7以焊接的方式固定在底板背面中间;上述挂孔7位于底板的中上部;上述上盖板5与底板6之间具有3对定位通孔和定位凸点,其中2对位于上部,另一对位于下部;上述挂杆管1两端有螺旋状螺纹;上述挂钩41位于连筋44延伸方向;上述挂钩41数目为8~10个;上述挂钩41数目为9个。
采用用于磁控溅射的载具时,可以最大程度利用镀膜机的空间,实现一个镀膜周期产出多组产品,降低生产成本,且挂具在镀膜机内可同时自转公转,可从多个方向对工件进行镀膜,有效避免出现色差、镀层厚度不均匀等现象,使得镀膜更加的稳定均匀,提高产品镀层性能。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种用于磁控溅射的载具,其特征在于:包括挂杆管(1)、固定螺丝(2)、套管(3)、挂件盘(4)、盖板(5)、底板(6)、挂孔(7)和拉簧(8),此套管(3)套装于挂杆管(1)上,相邻所述挂件盘(4)之间设置有所述套管(3),固定螺丝(2)安装在挂杆管(1)两端;
所述底板(6)上表面具有若干供定位手机指纹环的凸起部(106)和位于底板(6)侧端面的下卡槽(110),所述盖板(5)包括开有若干个供凸起部(106)嵌入的让位通孔(105)、和位于上盖板(5)侧端面的上卡槽(109),所述上盖板(5)与底板(6)之间通过至少2对定位通孔(107)和定位凸点(108)连接;
所述挂孔(7)固定在底板下表面,所述拉簧(8)包括弹簧(111)和分别位于弹簧(111)两端的第一卡扣(112)、第二卡扣(113),所述弹簧(111)与第一卡扣(112)或者第二卡扣(113)之间设置有一拉手部(114),所述拉簧(8)安装于底板(6)的下表面,且其第一卡扣(112)、第二卡扣(113)卡接于在上盖板(5)的上卡槽(109)和底板(6)的下卡槽(110)内,从而将盖板(5)和底板(6)定位在一起;
所述挂件盘(4)进一步包括外圈(42)、内圈(43)和若干挂钩(41),外圈(42)、内圈(43)之间通过连筋(44)连接,所述若干挂钩(41)沿外圈(42)外侧面周向均匀分布;所述让位通孔(105)形状为圆形,所述凸起部(106)形状为方形,此让位通孔(105)和凸起部(106)的数目相等;所述凸起部(106)数目为21个,呈3列7行排列,此凸起部(106)和让位通孔(105)一一对应。
2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射的载具,其特征在于:所述上卡槽、下卡槽(109,110)数目为12个,均匀分布在上盖板(5)和底板(6)两侧。
3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射的载具,其特征在于:所述挂孔(7)以焊接的方式固定在底板背面中间。
CN201621018285.2U 2016-08-30 2016-08-30 用于磁控溅射的载具 Expired - Fee Related CN206467284U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201621018285.2U CN206467284U (zh) 2016-08-30 2016-08-30 用于磁控溅射的载具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201621018285.2U CN206467284U (zh) 2016-08-30 2016-08-30 用于磁控溅射的载具

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN206467284U true CN206467284U (zh) 2017-09-05

Family

ID=59710363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201621018285.2U Expired - Fee Related CN206467284U (zh) 2016-08-30 2016-08-30 用于磁控溅射的载具

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN206467284U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN206089796U (zh) 用于pvd加工的挂具
CN109161873B (zh) 一种石墨基座
CN102934220A (zh) 具有惯性行星传动的多晶片旋转盘反应器
TWI486480B (zh) Pallet devices, reaction chambers and metal organic compounds Chemical vapor deposition (MOCVD) equipment
CN103060774A (zh) 腔室装置及具有其的基片处理设备
JP2017117850A (ja) ウェハ支持機構、化学気相成長装置およびエピタキシャルウェハの製造方法
CN206467284U (zh) 用于磁控溅射的载具
CN206467287U (zh) 用于手机指纹环的真空镀膜治具
CN107794506A (zh) 用于手机指纹环的真空镀膜治具
CN110438474A (zh) 载片单元
CN204315534U (zh) 一种消除晶圆片翘曲的托盘
CN107794505A (zh) 用于磁控溅射的载具
CN205821452U (zh) 一种分区段晶圆片载体
CN104342751B (zh) 反应腔和mocvd设备
CN104477899A (zh) 一种制备石墨烯的夹具以及制备石墨烯的方法
KR20130043443A (ko) 서셉터 및 이를 구비하는 화학 기상 증착 장치
CN210085562U (zh) 可调节连续传动的真空离子镀膜器具
CN206069989U (zh) 一种真空镀膜设备
CN103160813B (zh) 一种反应腔室以及应用该反应腔室的等离子体加工设备
CN206157241U (zh) 一种电解锰阴极板用下料机
CN206385253U (zh) 真空镀膜夹持治具
CN105986249A (zh) 一种分区段晶圆片载体
CN208038550U (zh) 腔体结构、化学气相沉积设备及处理腔室
WO2015092527A1 (en) Susceptor with curved and concentric grooves on the substrates support
CN106801222A (zh) 一种晶片托盘及mocvd系统

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170905

Termination date: 20180830

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee