CN206430510U - 硅片清洗机烘道结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及硅片清洗机技术领域，尤其涉及一种硅片清洗机烘道结构。现有的硅片清洗机烘道不仅在整个烘道内全部设有加热烘干装置，耗能高，而且烘道壁多采用塑料结构，防火性能差，保温效果不好，需要烘道内的加热烘干装置频繁启动进行加热，加热烘干装置使用寿命短，针对上述问题，本实用新型公开了一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道、输送链，所述输送链设置在烘道内，硅片篮放置在输送链上，所述烘道包括依次相连的第一烘道和第二烘道，所述第一烘道内设置有热辐射电加热装置，所述第二烘道顶部设有出风口，所述出风口与负压风机相连，所述第一烘道和第二烘道的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层、空气层和保温层。本实用新型具有能耗低、防火和保温性能好的优点。

Description

硅片清洗机烘道结构

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗机技术领域，尤其涉及一种硅片清洗机烘道结构。

背景技术

现有的硅片清洗机烘道存在以下问题：

1.整个烘道内全部设有加热烘干装置，能耗高；

2.烘道壁多采用塑料结构，不仅防火性能差，而且保温效果不好，需要烘道内的加热烘干装置频繁启动进行加热，能耗高的同时降低了加热烘干装置的使用寿命。

实用新型内容

针对现有技术中的问题，本实用新型提供一种能耗低、防火和保温性能好的硅片清洗机烘道结构。

为实现以上技术目的，本实用新型的技术方案是：一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道、输送链，所述输送链设置在烘道内，硅片篮放置在输送链上，所述烘道包括依次相连的第一烘道和第二烘道，所述第一烘道内设置有热辐射电加热装置，所述第二烘道顶部设有出风口，所述出风口与负压风机相连，所述第一烘道和第二烘道的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层、空气层和保温层。

从以上描述可以看出，本实用新型具备以下优点：

1.将传统的烘道分为依次相连的第一烘道和第二烘道，在第一烘道内，硅片湿度较高，通过热辐射电加热装置对硅片进行加热烘干，待硅片湿度较低时，进入第二烘道，第二烘道内快速流动的空气对硅片进行风干，加热烘干和风干相结合，与原有全部加热烘干相比，降低了能耗。

2.烘道壁包括三层结构，由内向外依次为由内向外依次为防火层、空气层和保温层，不仅提高了防火和保温性能，降低了能耗，而且避免热辐射电加热装置频繁启动，提高了热辐射电加热装置的使用寿命。

作为优选，所述第二烘道的长度大于第一烘道的长度。风干时间大于加热烘干时间，减少加热烘干的能耗。

作为优选，所述防火层由岩棉夹芯板构成；岩棉夹芯板不仅防火性能好，而且具有良好的保温效果。

作为优选，所述保温层由网洞状板材构成，所述网洞状板材的网洞内填充有保温棉；网洞状板材结合保温棉进行保温，成本低，保温效果好。

作为改进，所述第一烘道和第二烘道的内壁上均设有防火涂层；烘道内壁设有防火涂层，进一步提高防火性能。

作为改进，所述第一烘道和第二烘道的连接处设有隔热保温墙，所述隔热保温墙的下部具有用于硅片篮通过的开口；利用隔热保温墙避免第一烘道的热能向第二烘道扩散，减少第一烘道内的热能流失。

作为优选，所述隔热保温墙包括三层结构，由第一烘道向第二烘道方向依次为防火层、空气层和保温层。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的烘道壁结构示意图；

附图标记：1.烘道、101.第一烘道、102.第二烘道、2.输送链、3.硅片篮、4.热辐射电加热装置、5.出风口、6.负压风机、7.防火层、8.空气层、9.保温层、10隔热保温墙。

具体实施方式

结合图1，详细说明本实用新型的一个具体实施例，但不对本实用新型的权利要求做任何限定。

如图1所示，一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道1、输送链2，所述输送链2设置在烘道1内，硅片篮3放在输送链2上，烘道1包括依次相连的第一烘道101和第二烘道102，第一烘道101内设置有热辐射电加热装置4，第二烘道顶部设有出风口5，出风口5与负压风机6相连，第一烘道101和第二烘道102的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为由内向外依次为防火层7、空气层8和保温层9。

第一烘道101的进口为物料进口，第二烘道102的出口为物料出口。

第二烘道102的长度最好大于第一烘道101的长度。风干时间大于加热烘干时间，减少加热烘干的能耗。

防火层7选用岩棉夹芯板制作。

保温层9选用网洞状板材制作，然后在网洞内填充保温棉。

为了进一步提高防火性能，在第一烘道101和第二烘道102的内壁上增加防火涂层。

为了防止第一烘道101的热能向第二烘道102扩散，减少第一烘道101内的热能流失，在第一烘道101和第二烘道102的连接处设有隔热保温墙10，隔热保温墙10的下部具有用于硅片篮通过的开口。

隔热保温墙10最好也包括三层结构，由第一烘道向第二烘道方向依次为防火层7、空气层8和保温层9。

本实用新型工作时，硅片篮(此时的硅片湿度约在50％rh左右)由输送链输送至烘道内，先在第一烘道内由热辐射电加热装置对硅片进行加热烘干，当输送至隔热保温墙处时，硅片的湿度在20％rh左右，随后，硅片篮进入第二烘道风干，由于第二烘道顶部的出风口与负压风机相连，使得第二烘道内的空气快速流动，对硅片进行快速风干。

输送链的输送速度、第一烘道长度、第二烘道长度、风机风速等技术参数可根据实际需求(如待烘干硅片量、所要求的硅片烘干程度)进行调试设计。

综上所述，本实用新型具有以下优点：

1.将传统的烘道分为依次相连的第一烘道和第二烘道，在第一烘道内，硅片湿度较高，通过热辐射电加热装置对硅片进行加热烘干，待硅片湿度较低时，进入第二烘道，第二烘道内快速流动的空气对硅片进行风干，加热烘干和风干相结合，与原有全部加热烘干相比，降低了能耗。

2.烘道壁包括三层结构，由内向外依次为由内向外依次为防火层、空气层和保温层，不仅提高了防火和保温性能，降低了能耗，而且避免热辐射电加热装置频繁启动，提高了热辐射电加热装置的使用寿命。

3.第二烘道长度大于第一烘道长度，风干时间大于加热烘干时间，减少加热烘干的能耗。

4.防火层由岩棉夹芯板构成，不仅防火性能好，而且具有良好的保温效果。

5.保温层由网洞状板材构成，成本低，保温效果好。

6.烘道内壁设有防火涂层，进一步提高了防火性能。

7.第一烘道和第二烘道的连接处设有隔热保温墙，减少第一烘道内的热能流失，保温效果好。

可以理解的是，以上关于本实用新型的具体描述，仅用于说明本实用新型而并非受限于本实用新型实施例所描述的技术方案。本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换，以达到相同的技术效果；只要满足使用需要，都在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种硅片清洗机烘道结构，包括烘道(1)、输送链(2)，所述输送链(2)设置在烘道(1)内，硅片篮(3)放置在输送链(2)上，其特征在于：所述烘道(1)包括依次相连的第一烘道(101)和第二烘道(102)，所述第一烘道(101)内设置有热辐射电加热装置(4)，所述第二烘道(102)顶部设有出风口(5)，所述出风口(5)与负压风机(6)相连，所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的烘道壁均包括三层结构，由内向外依次为防火层(7)、空气层(8)和保温层(9)。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第二烘道(102)的长度大于第一烘道(101)的长度。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述防火层(7)由岩棉夹芯板构成。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述保温层(9)由网洞状板材构成，所述网洞状板材的网洞内填充有保温棉。

5.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的内壁上均设有防火涂层。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述第一烘道(101)和第二烘道(102)的连接处设有隔热保温墙(10)，所述隔热保温墙(10)的下部具有用于硅片篮(3)通过的开口。

7.根据权利要求6所述的硅片清洗机烘道结构，其特征在于：所述隔热保温墙(10)包括三层结构，由第一烘道向第二烘道方向依次为防火层(7)、空气层(8)和保温层(9)。