CN206396063U - 一种低阻高透电磁屏蔽玻璃 - Google Patents
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Abstract
一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板表面依次设置有打底层、屏蔽层、绝缘层。本实用新型一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，通过打底层、屏蔽层、绝缘层材料的相互匹配，解决了透光率和屏蔽效果二者兼容问题，具备透光率高、屏蔽效果好的优点。
Description
技术领域
本实用新型一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，涉及触控显示领域。
背景技术
目前，随着电子计算机技术的不断发展，电磁屏蔽玻璃广泛应用于通信、医疗、军用、航空等触控显示领域。电磁屏蔽玻璃主要解决电子系统与电子设备间的电磁干扰，防止电磁信息泄漏，防护电磁信息污染；有效保障仪器设备正常工作，保障机密信息安全，保障人员健康；同时该屏蔽玻璃具有高保真、高清晰的特点，但现有产品并不能够达到使用要求，有很大的改进空间。目前，市场上用于高端军用或民航机密市场的电磁屏蔽玻璃较少，而且屏蔽效果与显示效果兼容性较差，无法真正做到高屏蔽、高显示效果的屏蔽层玻璃。
现有的电磁屏蔽玻璃制作主要采用的方法有：①、夹层屏蔽膜：利用两块玻璃中间夹透明屏蔽膜；②、镀屏蔽层，如铜、镍、银、ITO等。其存在的弊端在于：方法①采用夹层的方法存在玻璃太厚，透光率不高，不利于显示；且夹层屏蔽膜很厚，导致电子元件的散热非常不好。方法②屏蔽层电阻太大，满足不了高保密设备的使用要求；且镀金属屏蔽层透过率低，无法满足高显示需求。
发明内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，通过打底层、屏蔽层、绝缘层材料的相互匹配，解决了透光率和屏蔽效果二者兼容问题，具备透光率高、屏蔽效果好的优点。
本实用新型采取的技术方案为；
一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板表面依次设置有打底层、屏蔽层、绝缘层。
所述打底层包括高折射率的第一打底层、低折射率的第二打底层。
所述第一打底层材料的折射率范围为：2.2≤n1≤2.5；所述第二打底层材料的折射率范围为：1.4≤n2≤1.5。
所述第一打底层厚度为8nm~19nm；所述第二打底层厚度为20nm~40nm。
所述屏蔽层材料的折射率范围为：1.8≤n3≤2.1；所述屏蔽层厚度为320nm~480nm。
所述绝缘层材料的折射率范围为：1.4≤n4≤1.5；所述绝缘层4厚度为60nm~120nm。
所述玻璃基板上贴合有盖板，形成无缝安装。
该电磁屏蔽玻璃的打底层、屏蔽层3、绝缘层4通过镀膜工艺构成。
该电磁屏蔽玻璃为：屏蔽层电阻小于等于4.5欧姆，透过率大于等于90%的近无色电磁屏蔽玻璃。
本实用新型一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，主要优点在于：
① ：透过率达到90%以上，显示效果较好。
② ：屏蔽层电阻小于等于4.5欧姆，屏蔽效果好。
③：理化性能稳定，使用寿命长；
④：此玻璃可用于盖板贴合，形成无缝安装，屏蔽效果更好。
⑤：膜层膜厚较薄，500nm左右，电子元件散热较好，不影响电子设备的使用性能。⑥：制作工序简单，仅需镀膜工艺即可。
附图说明
图1为本实用新型电磁屏蔽玻璃结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，包括玻璃基板1，玻璃基板1表面依次设置有打底层、屏蔽层3、绝缘层4。玻璃基板1的折射率范围为：1.5≤n0≤1.6。
所述打底层包括高折射率的第一打底层2.1、低折射率的第二打底层2.2。
第一打底层2.1材质主要可以选择五氧化二铌、二氧化钛、氮化硅等，低折射率的第二打底层2.2可以选择二氧化硅、氟化镁等。
所述第一打底层2.1材料的折射率范围为：2.2≤n1≤2.5；所述第二打底层2.2材料的折射率范围为：1.4≤n2≤1.5。打底层折射率的选择主要是根据材料与玻璃之间的相对折射率来选择的，如白玻折射率为1.52，高折射率材料理论上大于1.52即可。
所述第一打底层2.1厚度为8nm~19nm；所述第二打底层2.2厚度为20nm~40nm。
打底层的厚度主要是根据需要的目标值（颜色和透过率），通过膜系设计软件来设计出的膜层厚度。
所述屏蔽层3的材质需要有透明且导电的特性，其折射率范围为1.8≤n3≤2.1。一般采用ITO材质来实现。通过将其膜厚做到320~480nm之间，其电阻就可以小于等于4.5欧姆。
所述绝缘层4材料的折射率范围为：1.4≤n4≤1.5。
所述绝缘层4厚度为60nm~120nm。
绝缘层4 折射率的选择主要是根据材料与玻璃之间的相对折射率来选择的，如白玻折射率为1.52，高折射率材料理论上大于1.52即可。绝缘层4 可以选择二氧化硅、氟化镁等
所述玻璃基板1上贴合有盖板，形成无缝安装，屏蔽效果更好。玻璃基板1与盖板通过胶贴，保护了外部的干扰信号无法进入电子产品的控制系统，而电子产品的电磁信号也更少的外泄，对使用者造成电磁伤害。
该电磁屏蔽玻璃的打底层、屏蔽层3、绝缘层4通过镀膜工艺构成。镀膜工艺主要是用过磁控溅射机，通过离子轰击将靶材粒子打在玻璃基板1上沉积成膜。
本实用新型一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，通过上述匹配材料的选择、膜系的设计，达到屏蔽层3电阻小于等于4.5欧姆，透过率大于等于90%的近无色电磁屏蔽玻璃。
Claims (5)
1.一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，包括玻璃基板（1），其特征在于：玻璃基板（1）表面依次设置有打底层、屏蔽层（3）、绝缘层（4），所述打底层包括高折射率的第一打底层（2.1）、低折射率的第二打底层（2.2），所述第一打底层（2.1）材料的折射率范围为：2.2≤n1≤2.5；所述第二打底层（2.2）材料的折射率范围为：1.4≤n2≤1.5。
2.根据权利要求1所述一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，其特征在于：所述第一打底层（2.1）厚度为8nm~19nm；所述第二打底层（2.2）厚度为20nm~40nm。
3.根据权利要求1所述一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，其特征在于：所述屏蔽层（3）材料的折射率范围为：1.8≤n3≤2.1；所述屏蔽层（3）厚度为320nm~480nm。
4.根据权利要求1所述一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，其特征在于：所述绝缘层（4）材料的折射率范围为：1.4≤n4≤1.5；所述绝缘层（4）厚度为60nm~120nm。
5.根据权利要求1所述一种低阻高透电磁屏蔽玻璃，其特征在于：所述玻璃基板（1）上贴合有盖板，形成无缝安装。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201621187702.6U CN206396063U (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种低阻高透电磁屏蔽玻璃 |
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| CN201621187702.6U CN206396063U (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种低阻高透电磁屏蔽玻璃 |
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| CN206396063U true CN206396063U (zh) | 2017-08-11 |
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| CN201621187702.6U Active CN206396063U (zh) | 2016-10-28 | 2016-10-28 | 一种低阻高透电磁屏蔽玻璃 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106380085A (zh) * | 2016-10-28 | 2017-02-08 | 宜昌南玻显示器件有限公司 | 一种低阻高透电磁屏蔽玻璃 |
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2016
- 2016-10-28 CN CN201621187702.6U patent/CN206396063U/zh active Active
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