CN206337170U - Vad反应容器内负压值的控制系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种VAD反应容器内负压值的控制系统，属于光纤预制棒制造装置，现有技术难以保证反应容器内的气压值、风机抽风时气流全部为反应容器内的高温气体导致管道及废处理器难以承受，本实用新型通过在连接排风罩的风管上设有补风阀，调节补风阀的开度来调节风机对VAD反应容器内负压值的影响，能有效的控制反应容器内部的负压值，稳定的控制VAD排废抽风量，从而稳定反应容器内的气体流场；同时，由于补风阀的存在，降低了管路内的气体温度。

Description

VAD反应容器内负压值的控制系统

技术领域

本实用新型属于光纤预制棒制造装置，具体是一种VAD反应容器内负压值的控制系统。

背景技术

VAD技术为一种光纤预制棒制造工艺，其工艺过程是在加热的条件下，使保存在一定温度下的原料气化，由载流气体装置精密控制流量送至喷灯，喷灯喷出原料气体在火焰中发生水解反应，生产SiO₂和GeO₂氧化物微粒，这些微粒由火焰送至初始种棒07（参见图1）端面附近，最终沉积在初始种棒上形成光纤预制棒08（参见图1）。而在此过程中很大一部分氧化物微粒由于未堆积在种棒，需要由排废系统抽走，而此排废系统关键在于抽风量的控制。风量过大会带走过多氧化物微粒，影响VAD工艺的沉积效率；风量过小会导致制品的外观质量。

现有的排废系统为直接由风机抽风排废，存在以下缺陷：

1.由于抽风量由风机的转速来决定的，不会由于外界环境，制品生长的变化而变化，从而难以保证反应容器内的气压值（通常为负压）。

2.直接由风机来完成抽风，抽风量过小时，管道里容易积尘。而且直接由风机抽风时，气流全部为反应容器内的高温气体，管道及废处理器难以承受。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题和提出的技术任务是克服现有技术难以保证反应容器内的气压值、风机抽风时气流全部为反应容器内的高温气体导致管道及废处理器难以承受的缺陷，提供一种VAD反应容器内负压值的控制系统。

为达到上述目的，本实用新型的VAD反应容器内负压值的控制系统，包括风机、VAD反应容器，其特征是：所述风机的上游经风管连接废处理器、排风罩，所述排风罩位于所述的VAD反应容器内，连接所述排风罩的风管上设有补风阀。

作为优选技术手段：所述的补风阀包括手动补风阀和电动补风阀。

作为优选技术手段：所述的VAD反应容器内设有压力表，所述压力表的信号反馈给PID系统，所述的PID系统控制所述电动补风阀做出相应的风量调节。

作为优选技术手段：所述排风罩位于所述VAD反应容器的侧壁处，所述VAD反应容器的侧壁上开设有对应所述排风罩的自动补风口。

作为优选技术手段：所述的废处理器与排风罩之间的风管上连接除尘塔。

作为优选技术手段：所述的除尘塔呈竖向筒状，所述的排风罩经风管连接在所述除尘塔的侧壁上，所述除尘塔的顶部设有横向弯折的弯曲部，所述的废处理器经风管连接所述的弯曲部，所述除尘塔的底部设有排废口。

作为优选技术手段：所述的排废口为漏斗状。

作为优选技术手段：所述的排废口上设有阀门。

作为优选技术手段：所述除尘塔的侧壁上设有视窗。

本实用新型的有益效果是：通过在连接排风罩的风管上设有补风阀，调节补风阀的开度来调节风机对VAD反应容器内负压值的影响，能有效的控制反应容器内部的负压值，稳定的控制VAD排废抽风量，从而稳定反应容器内的气体流场；同时，由于补风阀的存在，降低了管路内的气体温度。

附图说明

图1为本实用新型VAD反应容器内负压值的控制系统示意图；

图2为本实用新型除尘塔的示意图；

图中标号说明：

01-风机；

02-废处理器；

03-除尘塔：

31-弯曲部，32-排废口，33-视窗；

04-风管

41-手动补风阀，42-电动补风阀；

05-排风罩；

06-VAD反应容器：

61-压力表，62-自动补风口；

07-初始种棒；

08-光纤预制棒。

具体实施方式

以下结合说明书附图对本实用新型做进一步说明。

如图1所示，本实用新型的VAD反应容器内负压值的控制系统包括风机01、VAD反应容器06，风机01的上游（即气流流向的上游）经风管04连接废处理器02、排风罩05，排风罩05位于VAD反应容器06内，连接排风罩05的风管上设有补风阀。

通过调节补风阀的开度来调节风机对VAD反应容器内负压值的影响（当反应容器内负压值升高时，说明风机对反应容器内气流的吸力不足，此时关小补风阀即可增大风机对反应容器的吸力；反之，当反应容器内负压值降低时，说明风机对反应容器内气流的吸力较大，此时开大补风阀即可降低风机对反应容器的吸力），能有效的控制反应容器内部的负压值，稳定的控制VAD排废抽风量，从而稳定反应容器内的气体流场；同时，由于补风阀的存在，降低了管路内的气体温度。

因反应容器内部温度较高，且反应产生的气体多为腐蚀气体，高温下此类气体对风管及废处理器会有损伤，故本申请增加不经过反应容器的补风口，补入温度较低的气体，从而来降低风管气体的整体温度。

具体的，补风阀包括手动补风阀41和电动补风阀42。

VAD反应容器06内设有压力表61，用于实时监控反应釜内部负压值。压力表61的信号反馈给PID系统，PID系统控制电动补风阀42做出相应的风量调节。手动补风阀可为插板阀，由手动控制管路开幅，从而调节此处的补风量。电动补风阀由电器元件控制管路开幅。

排风罩05位于VAD反应容器06的侧壁处，VAD反应容器06的侧壁上开设有对应排风罩的自动补风口62，为反应容器自动补风。

废处理器02与排风罩05之间的风管上连接除尘塔03。除尘塔03如图2所示呈竖向筒状，排风罩05经风管连接在除尘塔03的侧壁上，除尘塔03的顶部设有横向弯折的弯曲部31，废处理器02经风管连接弯曲部31，除尘塔03的底部设有排废口32。排废口32为漏斗状。排废口32上设有阀门。除尘塔03的侧壁上设有视窗33便于观察内部积尘情况。抽风中气流中携带的微粒粉尘会在弯曲部受到阻挡且由于重力掉落至除尘塔底部，且通过排废口可以将除尘塔内的微粒粉尘排出清理。

本方案各部分应连接紧密、密封，需耐高温处风管采用哈氏合金或钛管材料制作。

本实用新型VAD反应容器内负压值的控制系统，进行风量控制的时序过程是：

①启动风机，确定总抽风量；

②打开自动补风口、手动补风阀、电动补风阀，将电动补风阀调至中位值；

③检测气压表数值，调整手动补风阀使气压表数字达到理想范围；

④正常生产时负压表数值有所波动，反馈至PID系统（自动反馈及调整系统），PID系统回馈电动阀，从而来稳定反应容器中的负压值。

整个系统最后进入废处理器的气流主要来源于手动补风阀及电动补风阀的自然风、反应容器内的热风。反应容器内的热风温度能达到200至300℃，若直接排放于废处理器，对废处理器的损害很大，故通过手动补风阀及电动补风阀补入自然风（工作环境温度为20±3℃），从而使进入管道的气体变为暖风，温度在80℃以下。

Claims (9)

1.VAD反应容器内负压值的控制系统，包括风机（01）、VAD反应容器（06），其特征是：所述风机（01）的上游经风管（04）连接废处理器（02）、排风罩（05），所述排风罩（05）位于所述的VAD反应容器（06）内，连接所述排风罩（05）的风管上设有补风阀。

2.根据权利要求1所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述的补风阀包括手动补风阀（41）和电动补风阀（42）。

3.根据权利要求2所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述的VAD反应容器（06）内设有压力表（61），所述压力表（61）的信号反馈给PID系统，所述的PID系统控制所述电动补风阀（42）做出相应的风量调节。

4.根据权利要求1所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述排风罩（05）位于所述VAD反应容器（06）的侧壁处，所述VAD反应容器（06）的侧壁上开设有对应所述排风罩的自动补风口（62）。

5.根据权利要求1所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述的废处理器（02）与排风罩（05）之间的风管上连接除尘塔（03）。

6.根据权利要求5所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述的除尘塔（03）呈竖向筒状，所述的排风罩（05）经风管连接在所述除尘塔（03）的侧壁上，所述除尘塔（03）的顶部设有横向弯折的弯曲部（31），所述的废处理器（02）经风管连接所述的弯曲部（31），所述除尘塔（03）的底部设有排废口（32）。

7.根据权利要求6所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述的排废口（32）为漏斗状。

8.根据权利要求6所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述的排废口（32）上设有阀门。

9.根据权利要求6所述的VAD反应容器内负压值的控制系统，其特征是：所述除尘塔（03）的侧壁上设有视窗（33）。