CN206316060U - 一种石英晶体清洗用装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种石英晶体清洗用装置，包括清洗箱和支架。所述清洗箱上端为敞口式，且设有盖板。该清洗箱上端端口左端和右端均设有一滑动导轨，两滑动导轨通过一喷淋管相互连接。所述清洗箱内从上至下由清洗层和积液层组成。该清洗层和积液层由过滤筛板相互间隔，所述过滤筛板下端通过四个支脚支撑固定，所述清洗层设有物料装置框，所述物料装置框上端也为敞口式，该物料装置框内设有8‑20块间隔板，所述间隔板左右两侧与底边均与物料装置框相对应的内壁相贴合。本实用新型具有便于快速清洗和提高清洗质量，有利于降低清洗成本的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及清洗装置领域，特别涉及一种石英晶体清洗用装置。
背景技术
传统石英晶片清洗采用1000-2000片晶片同时导入烧杯，加入清洗液浸泡后用纯水冲洗，在用超声波清洗的工艺，晶片存在多片粘附和叠加现象，清洗效果的一致性较难控制，影响晶片洁净度，从而影响后续加工的合格率，导致生产成本上升；并且清洗耗时长，不利于提高工作效率和工作质量。
发明内容
本实用新型的目的就是解决上述的技术问题，提供一种便于提高工作效率和工作质量的石英晶片清洗用装置。
本实用新型的技术问题主要通过下述技术方案得以解决：
一种石英晶体清洗用装置，包括清洗箱和支架。所述清洗箱上端为敞口式，且设有盖板。该清洗箱上端端口左端和右端均设有一滑动导轨，两滑动导轨通过一喷淋管相互连接。所述清洗箱内从上至下由清洗层和积液层组成。该清洗层和积液层由过滤筛板相互间隔，所述过滤筛板下端通过四个支脚支撑固定，所述清洗层设有物料装置框，所述物料装置框上端也为敞口式，该物料装置框内设有8-20块间隔板，所述间隔板左右两侧与底边均与物料装置框相对应的内壁相贴合，该物料装置框前端、后端、左端和右端的侧板，以及底板均设有通孔，所述间隔板均等距设有5-8排长方形透水孔。所述清洗层还设有鼓泡器。所述积液层还设有排水管。
具体的，所述喷淋管通过两滑动块分别与两滑动导轨相互连接，所述滑动块与滑动导轨相互连接一滑动控制机构，所述喷淋管下端等距设有一排喷头，所述喷淋管还通过导管与积液层相互连接，所述导管设有净水器和循环泵。
具体的，所述过滤筛板的长和宽分别比清洗箱的长和宽略短，所述支脚设有振动机构。
具体的，所述物料装置框高度为清洗层高度的一半，该物料装置框的长和宽分别比清洗箱的长和宽短1-2mm。
具体的，所述过滤筛板设有的筛孔直径略小于物料装置框底板设有的通孔直径，所述过滤筛板一侧与清洗层相应设有的排渣口相互连接，所述排渣口设有相适配的密封盖。
进一步，两滑动导轨间距略大于清洗箱的宽度，且两滑动导轨的长度均略大于清洗箱的长度。有利于避免阻碍盖板向下盖，还有利于拿取物料装置框。
本实用新型的有益效果是：首先，本实用新型便于先将清洗箱内装入相应的清洗液，再倒入需要清洗的晶片，通过振动机构，便于将石英晶片有序的落入到两相邻的间隔板之间，通孔和长方形透水孔的设置便于每片晶片得到全面的清洗，有利于提高清洗速度和清洗质量，并且将物料装置框拿出来便于便捷取料；其次，间隔板便于根据需要调整位置，让两相邻的间隔板的间距满足晶片规格需要；最后，便于通过喷淋管进行喷淋，不浪费清洗液，有利于降低清洗成本。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图。
图中：1.清洗箱，101.清洗层，102.积液层，2.支架，3.盖板，4.滑动导轨，5.喷淋管，6.过滤筛板，7.支脚，8.物料装置框，9.间隔板，10.通孔，11.长方形透水孔，12.鼓泡器，13.排水管，14.滑动块，15.滑动控制机构，16.喷头，17.导管，18.净水器，19.循环泵，20.振动机构，21.排渣口，22.密封盖。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图1，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
实施例：
本实施的工作原理非常简单，一种石英晶体清洗用装置，包括清洗箱1和支架2。清洗箱1上端为敞口式，且设有盖板3。该清洗箱1上端端口左端和右端均设有一滑动导轨4，两滑动导轨4通过一喷淋管5相互连接。清洗箱1内从上至下由清洗层101和积液层102组成。该清洗层101和积液层102由过滤筛板6相互间隔，过滤筛板6下端通过四个支脚7支撑固定，清洗层101设有物料装置框8，物料装置框8上端也为敞口式，该物料装置框8内设有8-20块间隔板9，间隔板9左右两侧与底边均与物料装置框8相对应的内壁相贴合，该物料装置框8前端、后端、左端和右端的侧板，以及底板均设有通孔10，间隔板9均等距设有5-8排长方形透水孔11。清洗层101还设有鼓泡器12。积液层102还设有排水管13。喷淋管5通过两滑动块14分别与两滑动导轨4相互连接，滑动块14与滑动导轨4相互连接一滑动控制机构15，喷淋管5下端等距设有一排喷头16，喷淋管5还通过导管17与积液层102相互连接，导管17设有净水器18和循环泵19。过滤筛板6的长和宽分别比清洗箱1的长和宽略短，支脚7设有振动机构20。物料装置框8高度为清洗层101高度的一半，该物料装置框8的长和宽分别比清洗箱1的长和宽短1-2mm。过滤筛板6设有的筛孔直径略小于物料装置框8底板设有的通孔10直径，过滤筛板6一侧与清洗层101相应设有的排渣口21相互连接，排渣口21设有相适配的密封盖22。
本实施例只是本实用新型示例的实施方式，对于本领域内的技术人员而言，在本实用新型公开了应用方法和原理的基础上，很容易做出各种类型的改进或变形，而不仅限于本实用新型上述具体实施方式所描述的结构，因此前面描述的方式只是优选方案，而并不具有限制性的意义，凡是依本实用新型所作的等效变化与修改，都在本实用新型权利要求书的范围保护范围内。
Claims (5)
1.一种石英晶体清洗用装置，包括清洗箱和支架，其特征在于：所述清洗箱上端为敞口式，且设有盖板，该清洗箱上端端口左端和右端均设有一滑动导轨，两滑动导轨通过一喷淋管相互连接，所述清洗箱内从上至下由清洗层和积液层组成，该清洗层和积液层由过滤筛板相互间隔，所述过滤筛板下端通过四个支脚支撑固定，所述清洗层设有物料装置框，所述物料装置框上端也为敞口式，该物料装置框内设有8-20块间隔板，所述间隔板左右两侧与底边均与物料装置框相对应的内壁相贴合，该物料装置框前端、后端、左端和右端的侧板，以及底板均设有通孔，所述间隔板均等距设有5-8排长方形透水孔，所述清洗层还设有鼓泡器，所述积液层还设有排水管。
2.根据权利要求1所述的一种石英晶体清洗用装置，其特征在于：所述喷淋管通过两滑动块分别与两滑动导轨相互连接，所述滑动块与滑动导轨相互连接一滑动控制机构，所述喷淋管下端等距设有一排喷头，所述喷淋管还通过导管与积液层相互连接，所述导管设有净水器和循环泵。
3.根据权利要求1所述的一种石英晶体清洗用装置，其特征在于：所述过滤筛板的长和宽分别比清洗箱的长和宽略短，所述支脚设有振动机构。
4.根据权利要求1所述的一种石英晶体清洗用装置，其特征在于：所述物料装置框高度为清洗层高度的一半，该物料装置框的长和宽分别比清洗箱的长和宽短1-2mm。
5.根据权利要求1所述的一种石英晶体清洗用装置，其特征在于：所述过滤筛板设有的筛孔直径略小于物料装置框底板设有的通孔直径，所述过滤筛板一侧与清洗层相应设有的排渣口相互连接，所述排渣口设有相适配的密封盖。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107900022A (zh) * | 2017-11-27 | 2018-04-13 | 珠海东锦石英科技有限公司 | 石英晶片研磨清洗机及其研磨清洗工艺 |
| CN113182245A (zh) * | 2021-03-30 | 2021-07-30 | 亚电科技(苏州)有限公司 | 石英舟清洗机 |
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