CN206292530U - 微调系统以及空间光调制器微调系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种微调系统以及空间光调制器微调系统，涉及光刻技术领域，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备，直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置，测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置；一种空间光调制器微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器，直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置，测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。能够使空间光调制器安装和设备的调试方便、简单，降低机加工的精度要求，减少机加工件费用。

Description

微调系统以及空间光调制器微调系统

技术领域

本实用新型涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种微调系统以及空间光调制器微调系统。

背景技术

光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。光刻技术用于在基底表面上印刷具有特征的构图的技术。这样的基底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等芯片。

在直写式光刻机的光刻系统中，特征图形由空间光调制器微镜阵列产生，这些微小镜面可以独立寻址单独受控以不同的倾斜方向反射照射的光束，以产生空间光强调制，然后将特征图形通过相应成像光路投影到PCB板上。因此对空间光调制器相对于印刷电路板(Printed Circuit Board，简称PCB板)面的位置精度要求很高，尤其是在纵向上对成像质量影响很大，而且在水平面的角度对成像的拼接影响很大。

目前，空间光调制器在纵向方面，主要是安装时调整不同厚度的垫片进行微调，在空间光调制器的水平方面，主要靠旋转镜筒进行调节。但是，样的调节方式使空间光调制器的安装和调试很不方便，由于设备对空间光调制器的位置精度要求较高，尤其是纵向方面和水平方面的内角度，单纯的靠机加工很难保证且费用较高。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种微调系统以及空间光调制器微调系统，以使空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；

直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置；

测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；直线型轨道通过固定直线轨迹控制微调设备的微调方向；第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量微调设备沿直线的微调幅度。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制微调设备的微调方向；第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量微调设备沿圆弧的微调角度。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置的微调角度范围为正负5度。

第二方面，本实用新型实施例还提供一种空间光调制器微调系统，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；

直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置；

测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；直线型轨道通过固定直线轨迹控制空间光调制器的微调方向；第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量空间光调制器沿直线的微调幅度。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第三种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制空间光调制器的微调方向；第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量空间光调制器沿圆弧的微调角度。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第四种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置的微调角度范围为正负1度。

本实用新型实施例带来了以下有益效果：本实用新型实施例提供的一种微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置。本实用新型实施例提供的一种空间光调制器微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。通过直线滑台对微调设备或空间光调制器的纵向进行微调，通过测角仪滑台对微调设备或空间光调制器的水平面角度进行微调，以使微调设备或空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。

本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的微调系统的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中的直线滑台装置的结构示意图；

图3为本实用新型实施例中的测角仪滑台装置的结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的空间光调制器微调系统的结构示意图；

图5为本实用新型实施例中的直写式光刻机的光刻系统的结构示意图。

图标：

1-微调系统；2-直线滑台装置；3-测角仪滑台装置；4-微调设备；21-直线型轨道；22-第一螺旋测微器；31-曲线型轨道；32-第二螺旋测微器；5-空间光调制器微调系统；6-直线滑台装置；7-测角仪滑台装置；8-空间光调制器；9-光调制器支撑座；10-空间光调制器安装座；11-遮光盖板。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

目前，空间光调制器在纵向主要是安装时调整不同厚度的垫片进行微调，在水平方面主要靠旋转镜筒进行调节，这样的调节方式使空间光调制器的安装和调试很不方便，由于设备对空间光调制器的位置精度要求较高，尤其是纵向和水平方面的内角度，单纯的靠机加工很难保证且费用较高。基于此，本实用新型实施例提供的一种微调系统以及空间光调制器微调系统，可以使空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。

为便于对本实施例进行理解，首先对本实用新型实施例所公开的一种微调系统以及空间光调制器微调系统进行详细介绍，

实施例一：

如图1所示，本实用新型提供的微调系统1，包括直线滑台装置2、测角仪滑台装置3与微调设备4，直线滑台装置2根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备4的位置，测角仪滑台装置3根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备4的位置。

本实施例中，对微调设备的二维调节主要是通过直线滑台装置2和测角仪滑台装置3来进行调节，在微调过程中，保持测角仪滑台装置3的运动轨迹所在平面始终垂直于直线滑台装置2的纵轴方向，并且测角仪滑台装置3的转动轨迹是以直线滑台装置2的纵轴为中心轴点的圆弧。

其中，用直线滑台装置2调节微调设备4在固定纵轴上的高低位置，用测角仪滑台装置3调节微调设备4在固定圆弧曲线上相对于纵轴转动的角度位置。

如图2所示，直线滑台装置2包括直线型轨道21与第一螺旋测微器22，直线型轨道21通过固定直线轨迹控制微调设备4的微调方向，第一螺旋测微器22通过螺旋副传动测量微调设备4沿直线的微调幅度。

进一步的是，直线滑台装置2的微调幅度范围为正负15毫米。

本实用新型实施例中的第一螺旋测微器22是应用螺旋副传动原理，通过将回转运动变为直线运动来测量长度，能够准确到0.01毫米，保证测量的精密度。

其中，第一螺旋测微器22的一部分加工成螺距为0.5毫米的螺纹，当它在固定套管的螺套中转动时，将前进或后退，活动套管和螺杆连成一体，其周边等分成五十个分格。螺杆转动的整圈数由固定套管上间隔0.5毫米的刻线去测量，不足一圈的部分由活动套管周边的刻线去测量。

如图3所示，测角仪滑台装置3包括曲线型轨道31与第二螺旋测微器32，曲线型轨道31通过固定圆弧轨迹控制微调设备4的微调方向，第二螺旋测微器32通过螺旋副传动测量微调设备4沿圆弧的微调角度。

作为一个优选方案，测角仪滑台装置3的微调角度范围为正负5度。

本实施例中，第二螺旋测微器32是应用螺旋副传动原理，通过将回转运动变为直线运动来测量，能够准确到0.01毫米，保证测量的精密度。第二螺旋测微器32的一部分加工成螺距为0.5毫米的螺纹，当它在固定套管的螺套中转动时，将前进或后退，活动套管和螺杆连成一体，其周边等分成五十个分格。螺杆转动的整圈数由固定套管上间隔0.5毫米的刻线去测量，不足一圈的部分由活动套管周边的刻线去测量。

本实用新型提供的微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置。通过直线滑台对微调设备的纵向进行微调，与测角仪滑台对微调设备的水平面角度进行微调，以使微调设备的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。

实施例二：

如图4所示，本实用新型提供的空间光调制器微调系统5，包括直线滑台装置6、测角仪滑台装置7与空间光调制器8，直线滑台装置6根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器8的位置，测角仪滑台装置7根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器8的位置。

现有的空间光调制器8纵向主要在安装时调整不同厚度的垫片进行微调，水平主要靠旋转镜筒进行调节。本实施例中，纵向增加直线滑台装置6调整纵向位置，水平角度增加测角仪滑台装置7调整水平方向角度，方便了空间光调制器8的安装和调试。

本实施例中，对空间光调制器8的二维调节主要是通过直线滑台装置6和测角仪滑台装置7调节，在微调过程中，保持测角仪滑台装置7的运动轨迹所在平面始终垂直于直线滑台装置6的纵轴方向，并且测角仪滑台装置7的转动轨迹是以直线滑台装置6的纵轴为中心轴点的圆弧。

其中，用直线滑台装置6调节空间光调制器8在固定纵轴上的高低位置，用测角仪滑台装置7调节空间光调制器8在固定圆弧曲线上相对于纵轴转动的角度位置。

如图2所示，本实用新型实施例中的直线滑台装置6包括直线型轨道21与第一螺旋测微器22，直线型轨道21通过固定直线轨迹控制空间光调制器8的微调方向，第一螺旋测微器22通过螺旋副传动测量空间光调制器8沿直线的微调幅度。

进一步的是，直线滑台装置6的微调幅度范围为正负15毫米。

本实用新型实施例中的第一螺旋测微器22是应用螺旋副传动原理，通过将回转运动变为直线运动来测量长度，能够准确到0.01毫米，保证测量的精密度。

其中，第一螺旋测微器22的一部分加工成螺距为0.5毫米的螺纹，当它在固定套管的螺套中转动时，将前进或后退，活动套管和螺杆连成一体，其周边等分成五十个分格。螺杆转动的整圈数由固定套管上间隔0.5毫米的刻线去测量，不足一圈的部分由活动套管周边的刻线去测量。

如图3所示，本实施例中，测角仪滑台装置7包括曲线型轨道31与第二螺旋测微器32，曲线型轨道31通过固定圆弧轨迹控制空间光调制器8的微调方向，第二螺旋测微器32通过螺旋副传动测量空间光调制器8沿圆弧的微调角度。

作为一个优选方案，测角仪滑台装置7的微调角度范围为正负1度。

对于第二螺旋测微器32，是应用螺旋副传动原理通过将回转运动变为直线运动来测量，能够准确到0.01毫米，保证测量的精密度。第二螺旋测微器32的一部分加工成螺距为0.5毫米的螺纹，当它在固定套管的螺套中转动时，将前进或后退，活动套管和螺杆连成一体，其周边等分成五十个分格。螺杆转动的整圈数由固定套管上间隔0.5毫米的刻线去测量，不足一圈的部分由活动套管周边的刻线去测量。

如图5所示，将本实用新型提供的空间光调制器微调系统5应用于直写式光刻机的光刻系统，该直写式光刻机的光刻系统包括直线滑台装置6、测角仪滑台装置7、空间光调制器8、光调制器支撑座9、空间光调制器安装座10与遮光盖板11。

本实用新型提供的空间光调制器微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。通过直线滑台对空间光调制器的纵向进行微调，与测角仪滑台对空间光调制器的水平面角度进行微调，以使空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。

本实用新型实施例提供的空间光调制器微调系统，与上述实施例提供的微调系统具有相同的技术特征，所以也能解决相同的技术问题，达到相同的技术效果。

另外，在本实用新型实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

最后应说明的是：以上所述实施例，仅为本实用新型的具体实施方式，用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制，本实用新型的保护范围并不局限于此，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改或可轻易想到变化，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改、变化或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型实施例技术方案的精神和范围，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种微调系统，其特征在于，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；

所述直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节所述微调设备的位置；

所述测角仪滑台装置根据相对于所述纵轴方向垂直的水平面，通过沿所述纵轴转动角度调节所述微调设备的位置。

2.根据权利要求1所述的微调系统，其特征在于，所述直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；

所述直线型轨道通过固定直线轨迹控制所述微调设备的微调方向；

所述第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量所述微调设备沿直线的微调幅度。

3.根据权利要求1所述的微调系统，其特征在于，所述直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。

4.根据权利要求1-3任一项所述的微调系统，其特征在于，所述测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；

所述曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制所述微调设备的微调方向；

所述第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量所述微调设备沿圆弧的微调角度。

5.根据权利要求4所述的微调系统，其特征在于，所述测角仪滑台装置的所述微调角度范围为正负5度。

6.一种空间光调制器微调系统，其特征在于，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；

所述直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节所述空间光调制器的位置；

所述测角仪滑台装置根据相对于所述纵轴方向垂直的水平面，通过沿所述纵轴转动角度调节所述空间光调制器的位置。

7.根据权利要求6所述的空间光调制器微调系统，其特征在于，所述直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；

所述直线型轨道通过固定直线轨迹控制所述空间光调制器的微调方向；

所述第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量所述空间光调制器沿直线的微调幅度。

8.根据权利要求6所述的空间光调制器微调系统，其特征在于，所述直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。

9.根据权利要求6-8任一项所述的空间光调制器微调系统，其特征在于，所述测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；

所述曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制所述空间光调制器的微调方向；

所述第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量所述空间光调制器沿圆弧的微调角度。

10.根据权利要求9所述的空间光调制器微调系统，其特征在于，所述测角仪滑台装置的所述微调角度范围为正负1度。