CN206146527U - 以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 - Google Patents
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- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 14
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 230000000747 cardiac effect Effects 0.000 claims 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 4
- 241001062009 Indigofera Species 0.000 abstract 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010437 gem Substances 0.000 abstract 1
- 229910001751 gemstone Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 38
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 8
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000004297 night vision Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 210000001161 mammalian embryo Anatomy 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G01J3/02—Details
- G01J3/04—Slit arrangements slit adjustment
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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- Optical Filters (AREA)
Abstract
本专利公开了一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，该狭缝通过在蓝宝石片基底的入射面先镀制一层亚微米级厚的镍铬合金消光膜层形成狭缝图形，然后再分别在入射面和出射面镀制相应波段的增透膜。该狭缝可以使得在0.95～2.50微米光谱区间，透明狭缝区域的光谱透过率大于97％,不透明区域的光谱平均透过率低于0.1％。该狭缝宽度和形状可调，线性精度可达1微米。狭缝厚度仅为200～300纳米，可有效去除杂散光，狭缝结构简洁，定位精度高。该狭缝可应用于短波红外成像光谱仪等短波红外仪器中。
Description
技术领域
本专利涉及一种光学狭缝，具体涉及一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝。
背景技术
狭缝是一种广泛使用于带有阵列探测器的光谱仪或分光光度计中的决定仪器分辨率指标的重要零件。目前广泛使用的狭缝是机械狭缝，这种狭缝由于细缝宽度非常窄，一旦细缝内落入极小的杂质，很难清理，会影响到仪器的响应度并且对分辨率产生影响，同时还有加工困难，易损坏形变等缺点。
短波红外可以提供可见光、微光夜视、中波、长波红外所不能提供的信息。短波红外成像具有高分辨率、无需低温制冷、昼夜成像、高灵敏度等优点，可广泛应用于空间遥感探测、夜视和生物医学等领域。
亚微米级短波红外增透狭缝采用光学薄膜方法形成狭缝，通过增透膜尽可能减少光学基片对于短波红外能量的损耗。该狭缝具有易清洗、结构简单、定位精度高、不变形等优点，在短波红外成像光谱仪中具有很高的应用价值。
发明内容
本专利提出设计了一种以蓝宝石片为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，该狭缝元件可以使得狭缝透明区在0.95～2.50μm区间具有良好的透光效果，可应用于短波红外成像中。
本发明的技术方案是：通过在蓝宝石片基底的入射面先通过光刻掩膜形成狭缝图形后，镀制一层镍铬合金消光膜层形成狭缝，然后再分别在入射面和出射面镀制短波红外增透膜。
本专利所发明的狭缝由基片1、入射面消光膜层2、狭缝3、入射面短波红外增透膜4和出射面短波红外增透膜5组成。在基底的入射面沉积消光膜层2和短波红外增透膜层4，在基底的出射面沉积短波红外增透膜5。
亚微米级光学狭缝的具体结构为：狭缝3位于基底1的入射面上，在基底1的入射面狭缝3以外区域镀制有镍铬合金消光膜层2，在入射面侧的狭缝3和镍铬合金消光膜层2上镀有入射面增透膜4；在出射面侧镀有出射面增透膜5；
所述的镍铬合金消光膜层2的厚度为200～300纳米；
所述的狭缝3为厚度200～300纳米的光学狭缝
本专利优点在于：提出了一种以蓝宝石片为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，该狭缝可以使得在0.95～2.50微米光谱区间，透明狭缝区域的光谱透过率大于97％,不透明区域的光谱平均透过率低于0.1％。狭缝厚度仅为200～300纳米，宽度和形状可调，线性精度可达1微米。该狭缝可有效去除杂散光，狭缝结构简洁，定位精度高。该狭缝可应用于短波红外成像光谱仪等短波红外仪器中。
附图说明
图1为一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝的剖面结构示意图。图中(1)为基片、(2)位入射面消光膜层、(3)为狭缝3、(4)为入射面增透膜、(5)为出射面增透膜。
图2为一种以蓝宝石为基底的亚微米级短波红外增透狭缝透明区的光谱透过率曲线。透过率大于97％。
图3为一种以蓝宝石为基底的亚微米级短波红外增透狭缝非透明区的光谱透过率曲线。平均透过率小于0.1％。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式进一步详细说明。
本专利为一种以蓝宝石为基底的0.95～2.50微米亚微米级短波红外增透狭缝，首先通过光刻掩膜在蓝宝石基片上形成所需要的狭缝的光刻胶图形，然后在光刻胶图形上镀制消光膜层2。
本专利光刻胶选用为正胶。
本专利入射面消光膜层2薄膜材料选用镍铬合金丝，采用钨电阻丝加热蒸发的方式蒸发镍铬合金丝材料。初始沉积时的沉积温度为20℃的真空室环境温度。薄膜沉积厚度为200-300纳米。消光膜层2厚度即为狭缝厚度，为亚微米级。
本专利在镀制入射面消光膜层2后，通过酒精或丙酮等有机溶剂将基片入射面的光刻胶图形清洗干净，形成狭缝3透明区域。狭缝3通过光学显微镜测试宽度约为18.3微米。
本专利短波红外增透狭缝，基片两侧的增透膜为多层膜非规整膜系结构。膜系沉积采用石英晶体监控和光学直接监控互补的监控方式，控制膜层厚度沉积误差，得到接近设计的结果。
本专利入射面增透膜4选取中心波长为1.75μm，通过膜系设计软件优化，膜系结构为：
基底/0.194H 0.195L 0.533H 0.087L 1.122H 0.159L 0.374H 0.882L/空气其中，H表示一个λ0/4光学厚度的TiO2膜层，L表示一个λ0/4光学厚度的SiO2膜层，λ0为中心波长，H与L前的数字为膜层的厚度比例系数。
本专利出射面增透膜5选取中心波长1.75μm，通过膜系设计软件优化，膜系结构为：
基底/0.198H 0.193L 0.538H 0.083L 1.126H 0.16L 0.374H 0.88L/空气
其中，H表示一个λ0/4光学厚度的TiO2膜层，L表示一个λ0/4光学厚度的SiO2膜层，中心波长λ0为1.75μm，H、L前的数字为膜层的厚度比例系数。
本专利增透膜沉积时采用离子源辅助沉积，镀膜时充15sccm的氧气，离子源阳极电压为190伏特，阴极电流为6安培。基片沉积温度控制在250±2℃。薄膜沉积采用电子枪加热蒸发，TiO2薄膜沉积速率为0.2nm/s，SiO2薄膜沉积速率为1nm/s。
Claims (2)
1.一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，其特征在于:
所述的亚微米级光学狭缝的结构为：狭缝(3)位于基底(1)的入射面上，在基底(1)的入射面狭缝(3)以外区域镀制有镍铬合金消光膜层(2)，在入射面侧的狭缝(3)和镍铬合金消光膜层(2)上镀有入射面增透膜(4)；在出射面侧镀有出射面增透膜(5)；
所述的镍铬合金消光膜层(2)的厚度为200～300纳米；
所述的狭缝(3)是厚度为200～300纳米的光学狭缝。
2.根据权利要求1所述的一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，其特征在于：所述的光学狭缝的入射面增透膜(4)和出射面增透膜(5)用于0.95～2.50μm短波红外波段；
所述的亚微米级光学狭缝的入射面增透膜(4)的膜系结构为：
基底/0.194H 0.195L 0.533H 0.087L 1.122H 0.159L 0.374H 0.882L/空气
其中，H表示一个λ0/4光学厚度的TiO2膜层，L表示一个λ0/4光学厚度的SiO2膜层，λ0为中心波长，H与L前的数字为膜层的λ0/4光学厚度的比例系数；
所述的亚微米级光学狭缝的出射面增透膜(5)的膜系结构为：
基底/0.198H 0.193L 0.538H 0.083L 1.126H 0.16L 0.374H 0.88L/空气
其中，H表示一个λ0/4光学厚度的TiO2膜层，L表示一个λ0/4光学厚度的SiO2膜层，λ0为中心波长，H与L前的数字为膜层的λ0/4光学厚度的比例系数。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610243071.3A CN105758522A (zh) | 2016-04-19 | 2016-04-19 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
| CN2016102430713 | 2016-04-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN206146527U true CN206146527U (zh) | 2017-05-03 |
Family
ID=56335313
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201610243071.3A Pending CN105758522A (zh) | 2016-04-15 | 2016-04-19 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
| CN201610893673.3A Active CN106644069B (zh) | 2016-04-19 | 2016-10-13 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
| CN201621119739.5U Withdrawn - After Issue CN206146527U (zh) | 2016-04-15 | 2016-10-13 | 以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201610243071.3A Pending CN105758522A (zh) | 2016-04-15 | 2016-04-19 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
| CN201610893673.3A Active CN106644069B (zh) | 2016-04-19 | 2016-10-13 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (3) | CN105758522A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106644069A (zh) * | 2016-04-19 | 2017-05-10 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114815004B (zh) * | 2022-05-20 | 2024-03-15 | 无锡泓瑞航天科技有限公司 | 一种红外金属化全通型蓝宝石窗片及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100576046C (zh) * | 2005-10-24 | 2009-12-30 | 中国科学院光电技术研究所 | 基于金属纳米缝的光束控制方法 |
| CN101750651B (zh) * | 2009-11-25 | 2011-07-20 | 南京大学 | 基于单层亚波长金属光栅的磁场可调控的电磁波透射的器件与制备 |
| CN102608701B (zh) * | 2012-03-06 | 2013-09-18 | 北京航空航天大学 | 一种介质狭缝光波导 |
| CN102590940B (zh) * | 2012-03-06 | 2013-09-18 | 北京航空航天大学 | 一种开放式表面等离子激元狭缝光波导 |
| CN103018832B (zh) * | 2012-12-31 | 2014-08-20 | 江苏大学 | 一种偏振分束器 |
| CN104049288B (zh) * | 2014-07-11 | 2015-12-30 | 重庆大学 | 一种基于单层金属狭缝结构阵列的连续振幅调控超振荡聚焦透镜 |
| CN105758522A (zh) * | 2016-04-19 | 2016-07-13 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
-
2016
- 2016-04-19 CN CN201610243071.3A patent/CN105758522A/zh active Pending
- 2016-10-13 CN CN201610893673.3A patent/CN106644069B/zh active Active
- 2016-10-13 CN CN201621119739.5U patent/CN206146527U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106644069A (zh) * | 2016-04-19 | 2017-05-10 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
| CN106644069B (zh) * | 2016-04-19 | 2019-04-02 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105758522A (zh) | 2016-07-13 |
| CN106644069A (zh) | 2017-05-10 |
| CN106644069B (zh) | 2019-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20170503 Effective date of abandoning: 20190402 |
|
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20170503 Effective date of abandoning: 20190402 |
|
| AV01 | Patent right actively abandoned | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |