CN206027482U - 一种粉体涡流分散装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种粉体涡流分散装置,包括泵座、空气喷嘴、料斗和分散管,所述空气喷嘴和分散管同轴相通设置在泵座的两端,所述空气喷嘴前端设有喷口,所述泵座位于喷口和分散管内腔之间设有吸附腔,所述料斗安装在泵座上端,所述料斗的出口与吸附腔相连通,所述分散管内腔还外扩开设有至少一个涡流环。本分散装置结构简单,样品粉在负压牵引下与射流混流进入分散管,分散管内腔开设涡流环,射流穿过分散管时带动涡流环中空气旋转形成涡流,样品粉进入涡流环,在离心力的作用下与涡流环壁摩擦产生第一次分散,在离开涡流环时又与其它样品粉或分散管内壁碰撞产生第二次分散,分散效果非常好。
Description
技术领域
本实用新型涉及粉体加工技术领域,尤其涉及一种粉体涡流分散装置。
背景技术
在利用激光粒度仪对粉体材料进行测试时,有两种方式,一种是湿法测试,使粉体在液体中充分分散,另一种是干试测试,使粉体在气体中充分分散。对于各类在水溶液中会发生化学、物理性质变化的粉体样品,如水泥等,又必须使用干法测试,也就是说必须使该类样品在气体中分散成单个颗粒,虽然粉体在溶液中易于分散,但要想让其充分分散于空气之中却比较困难,通常分散设备结构复杂,调整困难,特别是对于1μm以下的小颗粒分散效果较差。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种结构简单且分散效果好的粉体涡流分散装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案为:
一种粉体涡流分散装置,包括泵座、空气喷嘴、料斗和分散管,所述空气喷嘴和分散管同轴相通设置在泵座的两端,所述空气喷嘴前端设有喷口,所述泵座位于喷口和分散管内腔之间设有吸附腔,所述料斗安装在泵座上端,所述料斗的出口与吸附腔相连通,所述分散管内腔还外扩开设有至少一个涡流环。
作为上述技术方案的改进,所述分散管内腔由接近吸附腔一端向远离吸附腔一端逐渐扩大。
作为上述技术方案的改进,所述涡流环呈圆环状或螺旋管状,所述涡流环设置有两个。
本实用新型的有益效果有:
本分散装置结构简单,样品粉在负压牵引下与射流混流进入分散管,分散管内腔开设涡流环,射流穿过分散管时带动涡流环中空气旋转形成涡流,样品粉进入涡流环,在离心力的作用下与涡流环壁摩擦产生第一次分散,在离开涡流环时又与其它样品粉或分散管内壁碰撞产生第二次分散,分散效果非常好。
附图说明
下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步说明,其中:
图1是本实用新型实施例的剖面示意图;
图2是本实用新型实施例的射流方向示意图;
图3是本实用新型实施例中分散管的结构示意图;
图4是图3的剖视图。
具体实施方式
参见图1 ,本实用新型的一种粉体涡流分散装置,包括泵座1、空气喷嘴2、料斗3和分散管4,所述空气喷嘴2和分散管4同轴相通设置在泵座1的两端,所述空气喷嘴2前端设有喷口21,所述泵座1位于喷口21和分散管4内腔之间设有吸附腔5,所述料斗3安装在泵座1上端,所述料斗3的出口与吸附腔5相连通。
进一步参见图3和图4,所述分散管4内腔还外扩开设有至少一个涡流环41,所述涡流环41呈圆环状或螺旋管状,本实施例中涡流环41呈圆环状,且其横截面呈优弧状,分散管的材料耐磨性要求高,所述分散管4内腔由接近吸附腔5一端向远离吸附腔5一端逐渐扩大。
如图2所示,压缩空气从空气喷嘴2喷出,形成射流,射流在喷口21外的吸附腔5产生负压区,料斗3的样品粉和空气在负压牵引下进入负压区,然后和射流混流,射流穿过分散管4时带动涡流环41中空气旋转形成涡流,样品粉进入涡流环41,在离心力的作用下与涡流环41内壁摩擦产生第一次分散,样品粉在离开涡流环41时与其它样品粉或分散管内壁碰撞产生第二次分散,本实施例设有两个涡流环41,可达到分散效果非常好,若采用多级涡流环41可成倍地增加分散效果。
此外,由于大颗粒在射流中加速慢,为防止大颗粒在涡流环41内失速出不来,适当加大喷口21到第一级涡流环的距离,可使其充分加速;假设涡流半径减小,离心力增大,有利于小颗粒分散效果,但同样增加大颗粒减速作用可能失速出不来,综合各种样品找出平衡点,并通过调整压缩空气的气压或流速来适应不同粉体的分散要求。
另外,本分散装置结构还可以应用在粉体粉碎装置领域中,只需加大射流速度,粉体可在分散管4中粉碎。
以上所述,只是本实用新型的较佳实施方式而已,但本实用新型并不限于上述实施例,只要其以任何相同或相似手段达到本实用新型的技术效果,都应属于本实用新型的保护范围。
Claims (4)
1.一种粉体涡流分散装置,其特征在于:包括泵座、空气喷嘴、料斗和分散管,所述空气喷嘴和分散管同轴相通设置在泵座的两端,所述空气喷嘴前端设有喷口,所述泵座位于喷口和分散管内腔之间设有吸附腔,所述料斗安装在泵座上端,所述料斗的出口与吸附腔相连通,所述分散管内腔还外扩开设有至少一个涡流环。
2.根据权利要求1所述的一种粉体涡流分散装置,其特征在于:所述分散管内腔由接近吸附腔一端向远离吸附腔一端逐渐扩大。
3.根据权利要求1所述的一种粉体涡流分散装置,其特征在于:所述涡流环呈圆环状或螺旋管状。
4.根据权利要求3所述的一种粉体涡流分散装置,其特征在于:所述涡流环设置有两个。
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