CN205934014U - 适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其中通过在玻璃真空镀膜设备的真空腔室中设置磁场可调整的可调磁缸，并外接用于对可调磁缸中各M型电磁铁进行通电控制的通电控制装置，在玻璃真空镀膜生产加工的过程中，通过通电控制装置来控制可调磁缸中各个M型电磁铁的通电状态，便可实现对可调磁缸的磁场分布以及磁场强度进行调整，从而在不对真空腔室回大气的情况下，就可改变磁场强度与磁场分布，并且能立即实验出调试结果，实现磁场的在线调整。通过对上述磁场的在线调整，便可实现玻璃镀膜均匀性的调整，其调整方便可靠，调整时间短，大大地提升了调试效率，节省了调试成本。

Description

适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置

技术领域

本实用新型涉及一种适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置。

背景技术

目前玻璃生产的镀膜生产线上，镀膜的均匀性改善主要是通过调整镀膜设备靶台上调整磁缸来实现的。现有技术的磁缸，是使用固定磁场强度的磁铁依次排列组成，整个磁缸表面磁场的强度受磁铁本身磁场强度不同和磁铁与磁缸表面距离不同而不同。镀膜均匀性主要受磁缸磁场强度的影响，因而，为了改善镀膜的均匀性，必须对磁缸表面磁场强度进行调整，具体为通过调整磁缸中磁铁的距离，从而改变磁场的强度，进而控制镀膜的均匀性。

目前，磁缸的调整必须是在等镀膜设备内真空腔室回大气后进行调节，对镀膜线正常工作影响巨大，并且每次调试不能立即实验出调试结果，需要安装至真空腔室中再进行抽真空后才能判断，属于一种离线的调试方法。该种调试方法不仅操作麻烦，而且耗时较长，严重地影响了镀膜生产效率。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，以实现磁场均匀性与磁场强度的在线调整，从而实现玻璃镀膜均匀性的调整。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，所述调整装置设于玻璃真空镀膜设备的真空腔室中，所述调整装置包括磁场可调整的可调磁缸，所述可调磁缸包括底座、设于所述底座上的多个M型电磁铁，这多个所述M型电磁铁在所述底座上沿厚度方向依次顺序拼接而形成所述可调磁缸，所述调整装置还包括分别向各个所述M型电磁铁通电以对所述可调磁缸的磁场分布进行调整的通电控制装置。

优选地，每个所述M型电磁铁均包括一端分别连接在所述底座上的第一铁芯、第二铁芯及第三铁芯，所述第一铁芯、第二铁芯及第三铁芯沿同一周向间隔排布而呈M型。

进一步优选地，所述第二铁芯位于所述第一铁芯与第三铁芯之间，所述第二铁芯上缠绕有线圈。

更进一步优选地，所述通电控制装置包括分别向每个所述的M型电磁铁上的所述线圈通电的通电模块。

优选地，多个所述M型电磁铁沿着所述可调磁缸的轴向依次顺序拼接。

优选地，所述底座呈圆筒状。

优选地，所述可调磁缸设于所述玻璃真空镀膜设备的真空腔室中的靶台上。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其中通过在玻璃真空镀膜设备的真空腔室中设置磁场可调整的可调磁缸，并外接用于对可调磁缸中各M型电磁铁进行通电控制的通电控制装置，在玻璃真空镀膜生产加工的过程中，通过通电控制装置来控制可调磁缸中各个M型电磁铁的通电状态，便可实现对可调磁缸的磁场分布以及磁场强度进行调整，从而在不对真空腔室回大气的情况下，就可改变磁场强度与磁场分布，并且能立即实验出调试结果，实现磁场的在线调整。通过对上述磁场的在线调整，便可实现玻璃镀膜均匀性的调整，其调整方便可靠，调整时间短，大大地提升了调试效率，节省了调试成本。

附图说明

附图1为本实用新型的调整装置的结构及工作原理示意图；

附图2为本实用新型的调整装置中M型电磁铁的结构及工作原理示意图；

附图3为本实用新型的调整装置中通电模块对电磁铁通电的结构原理图；

其中：10、调整磁缸；1、底座；2、M型电磁铁；21、第一铁芯；22、第二铁芯；23、第三铁芯,3、线圈；20、通电控制装置。

具体实施方式

下面结合附图和具体的实施例来对本实用新型的技术方案作进一步的阐述。

参见图1至图3所示，一种适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，该调整装置设于玻璃真空镀膜设备的真空腔室中，用于调整该真空腔室中的磁场大小及分布情况，从而对玻璃镀膜加工的均匀性进行调整。

该调整装置包括磁场可调整的可调磁缸10。参见图1所示，该可调磁缸10包括底座1、设于底座1上的多个M型电磁铁2，这多个M型电磁铁2在底座1上沿自身厚度方向顺序拼接而形成可调磁缸10，这多个M型电磁铁2在底座1上的顺序拼接方向亦为可调磁缸10的轴向，M型电磁铁2的个数与排列的长度则根据实际生产工况对磁场的要求等因素予以确定。

具体地，底座1呈圆筒状，每个M型电磁铁2均包括一端分别连接在底座1上的第一铁芯21、第二铁芯22及第三铁芯23，同一M型电磁铁2上的第一铁芯21、第二铁芯22及第三铁芯23在底座1上沿同一周向间隔排布而呈M型，如图1所示。其中，第二铁芯22位于第一铁芯21与第三铁芯23之间，第二铁芯22上缠绕有线圈3。所有的M型电磁铁2上的线圈3的匝数可相同，也可不同。

该调整装置还包括分别向各个M型电磁铁2通电以对可调磁缸10的磁场分布进行调整的通电控制装置20，底座1上还设有多个供线圈3的电线穿过以连接通电控制装置20的通入口。该通电控制装置20包括分别向每个M型电磁铁2上线圈3通电的通电模块（图中未示出），这样可分别对各个M型电磁铁2的通电状态进行分别控制，如，通过调整电流的通断，来调整其各个M型电磁铁2磁性的有无；通过改变电流的方向，来改变单个或多个M型电磁铁2磁极的极性；通过改变电流的大小来改变各个M型电磁铁2磁性的强弱，从而改变整个可调磁缸10的磁场大小与磁场分布情况。

电磁铁磁场强度的计算公式:H = N × I / Le ，

式中：H为磁场强度，单位为A/m；

N为励磁线圈的匝数；I为励磁电流(测量值)，单位位A；

Le为测试样品的有效磁路长度，单位为m。

磁感应强度计算公式：B = Φ/(N×Ae)；

式中：B为磁感应强度，单位为Wb/m^2；

Φ为感应磁通(测量值)，单位为Wb；

N为感应线圈的匝数；

Ae为测试样品的有效截面积，单位为m^2。

如图3所示为本发明中一个M型电磁铁2的原理，由H = N × I / Le，通过改变电流的大小便可控制磁场强度。

这样，将该可调磁缸10玻璃真空镀膜设备的真空腔室中的靶台上，并将调整磁缸10外接通电控制装置20，在玻璃真空镀膜生产加工的过程中，通过通电控制装置20来控制可调磁缸10中各个M型电磁铁2的通电状态，便可实现对可调磁缸10的磁场分布以及磁场强度进行调整，从而在不对真空腔室回大气的情况下，就可改变磁场强度与磁场分布，并且能立即实验出调试结果，实现磁场的在线调整。通过对上述磁场的在线调整，便可实现玻璃镀膜均匀性的调整，其调整方便可靠，调整时间短，大大地提升了调试效率，节省了调试成本。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：所述调整装置设于玻璃真空镀膜设备的真空腔室中，所述调整装置包括磁场可调整的可调磁缸，所述可调磁缸包括底座、设于所述底座上的多个M型电磁铁，这多个所述M型电磁铁在所述底座上沿厚度方向依次顺序拼接而形成所述可调磁缸，所述调整装置还包括分别向各个所述M型电磁铁通电以对所述可调磁缸的磁场分布进行调整的通电控制装置。

2.根据权利要求1所述的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：每个所述M型电磁铁均包括一端分别连接在所述底座上的第一铁芯、第二铁芯及第三铁芯，所述第一铁芯、第二铁芯及第三铁芯沿同一周向间隔排布而呈M型。

3.根据权利要求2所述的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：所述第二铁芯位于所述第一铁芯与第三铁芯之间，所述第二铁芯上缠绕有线圈。

4.根据权利要求3所述的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：所述通电控制装置包括分别向每个所述的M型电磁铁上的所述线圈通电的通电模块。

5.根据权利要求1所述的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：多个所述M型电磁铁沿着所述可调磁缸的轴向依次顺序拼接。

6.根据权利要求1所述的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：所述底座呈圆筒状。

7.根据权利要求1所述的适用于改善玻璃镀膜均匀性的在线磁场调整装置，其特征在于：所述可调磁缸设于所述玻璃真空镀膜设备的真空腔室中的靶台上。