CN205927469U - 一种等离子割炬涡流环 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种等离子割炬涡流环，属于等离子切割技术领域。本实用新型的一种等离子割炬涡流环，包括涡流环本体，所述的涡流环本体的内侧壁上设有一条及以上的用于形成涡流的螺旋槽；所述的涡流环本体上还设有若干均匀分布的进气孔，所述的进气孔与螺旋槽的一端相通；所述的涡流环本体的内侧壁上还设有一圈环形的空腔，该空腔连通进气孔和螺旋槽。本实用新型通过在涡流环内壁上设置的一条及以上的螺旋槽形成涡流，形成的涡流稳定性好，有助于提高气流的流速和压力，提高等离子割炬的切割质量。

Description

一种等离子割炬涡流环

技术领域

本实用新型涉及一种涡流环，更具体地说，涉及一种等离子割炬涡流环。

背景技术

等离子切割具有加工效率高、质量好、成本低等优点，在热切割中应用越来越广泛，等离子切割主要依靠高温高速的等离子弧及其焰流，将被切割工件熔化及蒸发，并吹离基体。等离子割炬是等离子切割系统中的关键部件，其主要由割炬绝缘体、绝缘套、电极和喷嘴等关键部件组成，电极与喷嘴通过绝缘套绝缘，在电极与喷嘴内腔间形成放电腔，当电极端部的铪丝通电后，使气体在放电腔内电离产生高温等离子体，高温等离子体从喷嘴的喷口喷出对金属材料进行切割。

涡流环是等离子割炬中的重要部件之一，也称为气流分配环，其安装于电极和喷嘴之间，主要作用是使输入的高压气体在电极与喷嘴间的放电腔内产生高速旋转涡流，使等离子弧具有更好的穿透力和更好的切割端面，提高等离子割炬的切割质量。目前，市面上的涡流环大多采用均布的多个小孔设计，通过小孔的切向方向形成旋转气流，这种涡流环也可以较好地形成旋转气流，但这种通过小孔来形成的涡流依然不够理想，难以进一步提高旋转气流的流速和压力。

发明内容

1.实用新型要解决的技术问题

本实用新型的目的在于克服现有涡流环存在的上述不足，提供一种等离子割炬涡流环，采用本实用新型的技术方案，通过在涡流环内壁上设置的一条及以上的螺旋槽形成涡流，气流稳定性好，有助于提高气流的流速和压力，提高等离子割炬的切割质量。

2.技术方案

为达到上述目的，本实用新型提供的技术方案为：

本实用新型的一种等离子割炬涡流环，包括涡流环本体，所述的涡流环本体的内侧壁上设有一条及以上的用于形成涡流的螺旋槽。

更进一步地，所述的涡流环本体上还设有若干均匀分布的进气孔，所述的进气孔与螺旋槽的一端相通。

更进一步地，所述的涡流环本体的内侧壁上还设有一圈环形的空腔，该空腔连通进气孔和螺旋槽。

更进一步地，所述的螺旋槽在涡流环本体上均匀设置4～8条。

更进一步地，所述的涡流环本体的外侧壁上还设有密封圈安装槽。

3.有益效果

采用本实用新型提供的技术方案，与已有的公知技术相比，具有如下有益效果：

(1)本实用新型的一种等离子割炬涡流环，其涡流环本体的内侧壁上设有一条及以上的用于形成涡流的螺旋槽，利用一条及以上的螺旋槽形成旋转涡流，形成的涡流稳定性更好，可大幅提高气流的流速和压力，从而改善等离子割炬的切割质量；并且，与现有的涡流环相比，无需加工切向孔，降低了涡流环的制作难度；

(2)本实用新型的一种等离子割炬涡流环，其涡流环本体上还设有若干均匀分布的进气孔，进气孔与螺旋槽的一端相通，利用均匀分布的若干进气孔，使气体稳定地进入螺旋槽中，并在螺旋槽中加压加速形成旋转气流，提高了等离子弧的穿透力；

(3)本实用新型的一种等离子割炬涡流环，其涡流环本体的内侧壁上还设有一圈环形的空腔，该空腔连通进气孔和螺旋槽，利用环形的空腔使由进气孔进入的气流均匀分布，使气体均匀进入螺旋槽内，进一步提高了涡流环产生的旋转气流的稳定性；

(4)本实用新型的一种等离子割炬涡流环，其涡流环本体的外侧壁上还设有密封圈安装槽，便于涡流环与割炬内部件密封安装，使用更加方便。

附图说明

图1为本实用新型的一种等离子割炬涡流环的一种结构示意图；

图2为本实用新型的一种等离子割炬涡流环的另一种结构示意图。

示意图中的标号说明：

1、涡流环本体；2、螺旋槽；3、进气孔；4、空腔；5、密封圈安装槽。

具体实施方式

为进一步了解本实用新型的内容，结合附图和实施例对本实用新型作详细描述。

实施例

结合图1和图2所示，本实施例的一种等离子割炬涡流环，包括涡流环本体1，涡流环本体1的内侧壁上设有一条及以上的用于形成涡流的螺旋槽2，在本实施例中，螺旋槽2在涡流环本体1上均匀设置4～8条最佳，可以理解，多条螺旋槽2的旋向是相同的；高压离子气进入涡流环本体1内后，流经螺旋槽2，在螺旋槽2的作用下形成稳定的旋转涡流，可使离子气进一步加速加压，从而使喷出的等离子弧及其焰流具有更强的穿透力，提高等离子切割的质量。与现有的涡流环相比，这种利用螺旋槽形成旋转涡流的涡流环结构，形成的涡流稳定性更好，且无需加工切向孔，降低了涡流环的制作难度。

接续图1和图2所示，在本实施例中，涡流环本体1上还设有若干均匀分布的进气孔3，进气孔3与螺旋槽2的一端相通，利用均匀分布的若干进气孔3，使气体稳定地进入螺旋槽2中，并在螺旋槽2中加压加速形成旋转气流。进气孔3的位置可根据割炬具体结构来设计，如图1中的进气孔3为沿涡流环本体1径向开设的小孔，图2中的进气孔3为斜孔，进气孔3也可以采用其他形式，并不局限于图1和图2中所示的两种结构。涡流环本体1的内侧壁上还设有一圈环形的空腔4，该空腔4连通进气孔3和螺旋槽2，利用环形的空腔4使由进气孔进入的气流均匀分布，使气体均匀进入螺旋槽2内，进一步提高了涡流环产生的旋转气流的稳定性。此外，涡流环本体1的外侧壁上还设有密封圈安装槽5，便于涡流环与割炬内部件密封安装，使用更加方便。

本实施例的一种等离子割炬涡流环，其套设于割炬的电极外侧，螺旋槽2与电极的外侧壁组成螺旋气流通道，空腔4与电极的外侧壁组成连通上述螺旋气流通道的环形腔，当高压离子气从进气孔3进入涡流环后，首先在环形腔中均匀分布，然后进入螺旋气流通道中加压加速形成高速旋转的涡流，并在割炬的放电腔产生等离子弧，使等离子弧喷出时具有更强的穿透力和更好的切割端面。

本实用新型的一种等离子割炬涡流环，其通过在涡流环内壁上设置的一条及以上的螺旋槽形成涡流，气流稳定性好，有助于提高气流的流速和压力，提高等离子割炬的切割质量。

以上示意性地对本实用新型及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性地设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种等离子割炬涡流环，包括涡流环本体（1），其特征在于：所述的涡流环本体（1）的内侧壁上设有一条及以上的用于形成涡流的螺旋槽（2），所述的涡流环本体（1）上还设有若干均匀分布的进气孔（3），所述的进气孔（3）与螺旋槽（2）的一端相通。

2.根据权利要求1所述的一种等离子割炬涡流环，其特征在于：所述的涡流环本体（1）的内侧壁上还设有一圈环形的空腔（4），该空腔（4）连通进气孔（3）和螺旋槽（2）。

3.根据权利要求1或2所述的一种等离子割炬涡流环，其特征在于：所述的螺旋槽（2）在涡流环本体（1）上均匀设置4~8条。

4.根据权利要求3所述的一种等离子割炬涡流环，其特征在于：所述的涡流环本体（1）的外侧壁上还设有密封圈安装槽（5）。