CN205900518U - 支撑装置及刻蚀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种支撑装置及刻蚀设备，涉及基板刻蚀技术领域，为解决支撑顶针摩擦产生较多碎屑的问题。本实用新型支撑装置包括座体和安装在座体上的支撑顶针，座体上放置有电极板，电极板上设有供支撑顶针穿过的顶针孔，所述顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙。所述刻蚀设备包括上述技术方案所提的支撑装置。本实用新型提供的支撑装置及刻蚀设备用于各种基板的刻蚀，如液晶面板的刻蚀。

Description

支撑装置及刻蚀设备

技术领域

本实用新型涉及基板刻蚀技术领域，尤其涉及支撑待刻蚀基板的支撑装置及使用该支撑装置的刻蚀设备。

背景技术

在等离子面板、液晶面板的生产中，一般需要对玻璃基板上的材料进行刻蚀，为了精确刻蚀，待刻蚀的玻璃基板一般是通过支撑装置来进行支撑，保证玻璃面板的平整性。现有技术中的支撑装置包括至少两组支撑组件，每组支撑组件包括：气缸、与气缸的活塞连接的气缸杆、与气缸杆连接的驱动轴、与驱动轴连接的至少一个丝杠，以及对应每个丝杠连接的座体和与座体连接用于支撑玻璃基板的支撑顶针。如图1所示，为了实现刻蚀功能，支撑顶针20一般需要穿过下部电极板30中的顶针孔。支撑顶针穿出到顶针孔外侧的一端用来支撑玻璃基板。

在实现和使用现有技术的过程中，发明人发现，由于支撑顶针在支撑基板的时候容易发生弯曲变形，导致支撑顶针在与顶针孔接触边缘接触的位置产生较大的应力集中，同时导致支撑顶针与顶针孔之间产生较大的摩擦。摩擦容易产生细微碎屑，这种细微碎屑容易造成刻蚀设备内部空间的洁净度达不到刻蚀工艺要求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种支撑装置及刻蚀设备，能够减少碎屑的产生。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种支撑装置，包括座体和安装在座体上的支撑顶针，座体上放置有电极板，电极板上设有供支撑顶针穿过的顶针孔，所述顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙。

优选的，所述座体包括基座和活动安装在基座上的底座，所述支撑顶针安装在所述底座上。

优选的，所述基座上与电极板相对的一面设有安装凹槽，所述底座安装在安装凹槽内，所述安装凹槽的侧壁与底座之间设有活动间隙。

优选的，所述底座上与安装凹槽底壁相对的一面为外凸弧形面。

优选的，所述底座上与安装凹槽侧壁相对的侧面设有限位凸起，所述安装凹槽的侧壁上对应限位凸起设有限位槽。

优选的，所述限位凸起设置在底座上与安装凹槽底壁的一端，限位凸起上与安装凹槽底壁相对的一面和底座上与安装凹槽底壁相对的一面形成连续的外凸弧形面。

优选的，所述安装凹槽的底壁上设有支撑所述底座的耐磨层。

优选的，所述基座上设有与活动间隙连通的吸尘通道，所述吸尘通道的开口朝向安装凹槽的相反面。

优选的，所述吸尘通道通过活动间隙与所述形变间隙连通。

优选的，所述形变间隙为0.1mm至0.5mm。

优选的，所述活动间隙为0.1mm至0.5mm。

优选的，所述外凸弧形面的曲率为5°至30°。

一种刻蚀设备，包括刻蚀装置和支撑待刻蚀基板的支撑装置，该支撑装置上面所述的支撑装置。

本实用新型提供的支撑装置及刻蚀设备中，由于在顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙，使得支撑顶针与顶针孔之间不是紧配合，支撑顶针在发生变形的时候，顶针孔中预留的形变间隙使其具有一定活动空间，从而能够减少支撑顶针和顶针孔之间的摩擦，进而可以减少碎屑的产生，为刻蚀设备提供更洁净的刻蚀空间以满足生产工艺要求。

另外，顶针孔中预留的形变间隙使得支撑顶针在变形的时候在顶针孔内有一定的倾斜，而不是在与顶针孔接触边缘发生骤然的形变，这样就可以降低支撑顶针在与顶针孔接触边缘的应力。

采用本实用新型实施例提供的支撑结构后，能够减少在支撑基板过程中产生的Buckling(欧拉屈曲)，从而可以减少支撑顶针(Lifter Pin)跟下部电极的顶针孔(Pinhole)摩擦产生碎屑(Particle)，减少因此造成产品不良的问题，能够延长设备维护周期，提高支撑顶针以及下部电极使用寿命。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为现有技术中支撑装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例一中支撑装置的结构示意图；

图3为本实用新型实施例二中支撑装置的结构示意图；

图4为本实用新型实施例三中支撑装置的结构示意图。

附图标记：10-座体，11-基座，12-底座，13-安装凹槽，14-活动间隙，15-耐磨层，16-限位凸起，17-限位槽，18-吸尘通道，20-支撑顶针，30-电极板，31-顶针孔，32-形变间隙。

具体实施方式

为了进一步说明本实用新型实施例提供的支撑装置及刻蚀设备，下面结合说明书附图进行详细描述。

实施例一

请参阅图2，本实用新型实施例提供的支撑装置包括：座体10和安装在座体10上的支撑顶针20，其中座体10和支撑顶针20之间可以采用螺纹安装或者卡扣安装方式，座体10上放置有电极板30，一般来讲，这里的电极板30是在基板刻蚀过程中用到的下电极板。为了保证支撑顶针能够穿过电极板对基板进行支撑，本实施例中电极板30上设有供支撑顶针20穿过的顶针孔31，并且顶针孔31的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙32，相当于顶针孔中具有一定的空间供支撑顶针变形，使得支撑顶针20变形时能够在顶针孔31内部具有一定的倾斜度，而不是在与顶针孔接触边缘发生骤然的形变，这样就可以降低支撑顶针在与顶针孔接触边缘的应力。

本实施例由于在顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙，使得支撑顶针与顶针孔之间不是紧配合，如图2所示，在支撑顶针的顶部支撑有基板的时候，支撑顶针20会发生变形，顶针孔中预留的形变间隙使其具有一定活动空间，从而能够减少支撑顶针20和顶针孔31之间的摩擦，进而可以减少碎屑的产生，为刻蚀设备提供更洁净的刻蚀空间以满足生产工艺要求。

本实用新型实施例中Lifter pin材质要求有防止静电击伤(ESD),耐腐蚀，耐高温，耐等离子体(Plasma)损伤等特殊性，一般地，Lifter pin采用聚苯并咪唑(PBI)，树脂等材料。

实施例二

请参阅图3，本实用新型实施例提供的支撑装置包括：座体10和安装在座体10上的支撑顶针20，其中座体10和支撑顶针20之间可以采用螺纹安装或者卡扣安装方式，座体上放置有电极板30，一般来讲，这里的电极板30是在基板刻蚀过程中用到的下电极板，并且电极板上设有供支撑顶针穿过的顶针孔31，以便支撑顶针能够对基板形成支撑。

为了减小支撑顶针与顶针孔之间的摩擦，本实用新型实施例做了如下设计：首先，在顶针孔31的侧壁与支撑顶针20之间设置形变间隙32；其次，将所述座体10分拆成基座11和底座12，支撑顶针20安装在所述底座12上，并且将底座12活动安装在基座11上，使得底座能够相对基座产生与支撑顶针相垂直的位移。如图3所示，一旦支撑顶针承受上方基板的重力向其中一侧变形时，顶针孔31中预留的形变间隙使其具有一定活动空间，使得支撑顶针20能够沿着变形的方向在顶针孔内发生一定的倾斜，并且底座12能够相对基座11产生与变形方向相反的位移，如此就可以使得支撑顶针20的倾斜度更大，从而减少支撑顶针20和顶针孔31之间的摩擦，进而可以减少碎屑的产生，为刻蚀设备提供更洁净的刻蚀空间以满足生产工艺要求。

本实用新型实施例中基座与底座之间可以采用如下安装方案：在基座11上与电极板相对的一面设有安装凹槽13，将底座12安装在安装凹槽13内，所述安装凹槽13的侧壁与底座12之间设有活动间隙14，使得底座12能够很容易地产生与支撑顶针20变形方向相反的位移。

为了进一步提高支撑顶针变形时能够倾斜的角度，本实用新型实施例在安装凹槽的侧壁与底座之间设有活动间隙14的同时，还将底座12上与安装凹槽底壁相对的一面为外凸弧形面，使得底座能够以凸弧形面的下顶点为基准进行摆动，如此一来底座12能够很容易地产生与支撑顶针20变形方向相同的倾斜，使得支撑顶针的倾斜度更大，从而减少支撑顶针20和顶针孔31之间的摩擦，进而可以减少碎屑的产生，为刻蚀设备提供更洁净的刻蚀空间以满足生产工艺要求。

由于底座能够相对基座发生运动，为了减少对基座的磨损，本实用新型实施例在安装凹槽13的底壁上设有支撑所述底座的耐磨层15，一般耐磨层15选择不易产生碎屑的耐磨材料，如耐磨的陶瓷。

实施例三

本实用新型实施例是在实施例二基础上的进一步改进，具体如图4所示，为了稳定地将基座11和底座12装配到一起，本实用新型实施例还在底座上与安装凹槽侧壁相对的侧面设有限位凸起16，并且安装凹槽的侧壁上对应限位凸起设有限位槽17，使得限位凸起16与限位槽17之间形成限位关系，以防止底座从基座中脱出。

对于底座上与安装凹槽底壁相对的一面为外凸弧形面的方案而言，起限位凸起设置方式可以采用但不限于如下方案：

第一、在底座上与安装凹槽侧壁相对侧面的中部或中部以上的位置设置该限位凸起，限位凸起与底座的底部形成一个台阶。

第二、如图4所示，将述限位凸起16设置在底座上与安装凹槽底壁的一端，限位凸起16上与安装凹槽底壁相对的一面和底座12上与安装凹槽底壁相对的一面形成连续的外凸弧面，这种连续的弧形面能够更好地方便底座12的摆动。

无论采用以上哪一种实施例，为了便于对上述形变间隙、活动间隙进行清洁，本实用新型实施例基座上设有与活动间隙连通的吸尘通道18，所述吸尘通道的开口朝向安装凹槽的相反面，只需要在吸尘通道18处通过吸尘泵就可以对活动间隙进行清洁；当然本实施例中的吸尘通道18还需要通过活动间隙与所述形变间隙连通，以便能够清洁形变间隙。

如图4所示，本实用新型实施例中的吸尘通道18一般是先与安装凹槽13连通，通过安装凹槽13依次与活动间隙、形变间隙连通。

为了既能够减少摩擦，又具有对基板较稳定的支撑，本实用新型实施例将形变间隙32设计为0.1mm至0.5mm，将活动间隙14设计为0.1mm至0.5mm。

为了保证底座摆动时较为顺畅，本实用新型实施例将外凸弧形面的曲率设计为5°至30°。

本实用新型实施例中的支撑顶针底座采用非锁死固定结构，底座底部采用弧面，底座跟基座间预留可动的活动空隙，在基座可动空间内，并且增加吸尘通道，本实用新型基座和底座可采用陶瓷等耐磨材料。

本实用新型设计的特点：当支撑顶针(Lifter pin)支撑基板时，Lifter pin基座产生偏转，Lifter pin与Pin hole的接触面积增加，Lifter pin的欧拉屈曲降低，这样Lifter pin和Pin hole接触摩擦力减小，摩擦产生Particle减少，同时Lifter pin基座运动部件端加入吸尘通道(Vacuum line)，摩擦产生的particle向下排走比例增加。

实施例四

本实用新型实施例提供一种刻蚀设备，包括刻蚀装置和支撑待刻蚀基板的支撑装置，其中的支撑装置采用上述实施例一、实施例二、或者实施例三中提供的支撑装置，能够提高刻蚀设备内部的清洁度，使其满足刻蚀工艺的要求。

本实用新型提供的支撑装置及刻蚀设备用于各种基板的刻蚀，尤其是各种显示面板面板的真空刻蚀设备、干刻设备等。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种支撑装置，包括座体和安装在座体上的支撑顶针，座体上放置有电极板，电极板上设有供支撑顶针穿过的顶针孔，其特征在于，所述顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙。

2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，所述座体包括基座和活动安装在基座上的底座，所述支撑顶针安装在所述底座上。

3.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，所述基座上与电极板相对的一面设有安装凹槽，所述底座安装在安装凹槽内，所述安装凹槽的侧壁与底座之间设有活动间隙。

4.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，所述底座上与安装凹槽底壁相对的一面为外凸弧形面。

5.根据权利要求3或4所述的支撑装置，其特征在于，所述底座上与安装凹槽侧壁相对的侧面设有限位凸起，所述安装凹槽的侧壁上对应限位凸起设有限位槽。

6.根据权利要求5所述的支撑装置，其特征在于，所述限位凸起设置在底座上与安装凹槽底壁的一端，限位凸起上与安装凹槽底壁相对的一面和底座上与安装凹槽底壁相对的一面形成连续的外凸弧形面。

7.根据权利要求3或4所述的支撑装置，其特征在于，所述安装凹槽的底壁上设有支撑所述底座的耐磨层。

8.根据权利要求3或4所述的支撑装置，其特征在于，所述基座上设有与活动间隙连通的吸尘通道，所述吸尘通道的开口朝向安装凹槽的相反面。

9.根据权利要求8所述的支撑装置，其特征在于，所述吸尘通道通过活动间隙与所述形变间隙连通。

10.根据权利要求1至4任意一项所述的支撑装置，其特征在于，所述形变间隙为0.1mm至0.5mm。

11.根据权利要求3或4所述的支撑装置，其特征在于，所述活动间隙为0.1mm至0.5mm。

12.根据权利要求4所述的支撑装置，其特征在于，所述外凸弧形面的曲率为5°至30°。

13.一种刻蚀设备，包括刻蚀装置和支撑待刻蚀基板的支撑装置，其特征在于，所述支撑装置为权利要求1至12任意一项所述的支撑装置。