CN205839119U - 一种真空磁控镀膜机 - Google Patents

一种真空磁控镀膜机 Download PDF

Info

Publication number
CN205839119U
CN205839119U CN201620577911.5U CN201620577911U CN205839119U CN 205839119 U CN205839119 U CN 205839119U CN 201620577911 U CN201620577911 U CN 201620577911U CN 205839119 U CN205839119 U CN 205839119U
Authority
CN
China
Prior art keywords
film coating
vacuum
mounting rod
coating chamber
worm screw
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201620577911.5U
Other languages
English (en)
Inventor
丁庆峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Ding Zi Alwayseal Technology Ltd
Original Assignee
Zhejiang Ding Zi Alwayseal Technology Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Ding Zi Alwayseal Technology Ltd filed Critical Zhejiang Ding Zi Alwayseal Technology Ltd
Priority to CN201620577911.5U priority Critical patent/CN205839119U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN205839119U publication Critical patent/CN205839119U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型涉及真空镀膜技术领域,特别涉及一种真空磁控镀膜机,所述磁控溅射靶设置在真空镀膜室的内侧壁上;所述抽真空管道与真空镀膜室相连通;上滚动轴承和下滚动轴承分别固定在真空镀膜室的内壁上表面和内壁下表面;主动齿轮与蜗杆相啮合;安装杆的上端与从动齿轮的旋转中心相固定连接;固定轴承的外圈固定在定位板上。在使用本实用新型时,安装杆绕轴心转动,被镀膜的工件安装在安装杆上,从磁控溅射靶逸出的原子团或离子,经过电场和磁场的作用下,持续打在正在旋转的工件上,使工件表面得到一层均匀的镀膜,有效地提高和控制产品的质量,极大限度地提高生产效率。本实用新型具有结构简单,设置合理,制作成本低等优点。

Description

一种真空磁控镀膜机
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,特别涉及一种真空磁控镀膜机。
背景技术
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。其中基板经过制粉、煅烧、烧结之后,制成基板毛料,基板毛料经过平面磨床抛光打磨之后进行溅射镀膜,多数采用溅射器移动而基板固定的方式进行生产,此种方式比较节能,设备结构简单,但操作繁琐,生产效率低,而且容易造成镀膜厚度不均匀。
故有必要对现有真空磁控镀膜机进行进一步地技术革新。
发明内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种结构简单,设计合理、使用方便的真空磁控镀膜机。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
本实用新型所述的一种真空磁控镀膜机,它包括有真空镀膜室、磁控溅射靶、抽真空系统、蜗杆、定位板和旋转安装杆机构;所述磁控溅射靶设置在真空镀膜室的内侧壁上;所述抽真空系统设置有抽真空管道;所述抽真空管道与真空镀膜室相连通;所述真空镀膜室的外侧壁设置有电机固定架;所述电机固定架上设置有电机;所述电机的转轴端连设有齿轮箱;所述齿轮箱的外壳固定在电机固定架上;所述定位板与真空镀膜室的内侧壁相固定连接;所述真空镀膜室的内壁底部设置有蜗杆固定架;所述蜗杆一端穿过蜗杆固定架;蜗杆另一端伸出到真空镀膜室的外部后与齿轮箱相连接;所述旋转安装杆机构的数量至少为两个;所述旋转安装杆机构由主动齿轮、转轴、上滚动轴承、下滚动轴承和齿杆组件组成;所述上滚动轴承和下滚动轴承分别固定在真空镀膜室的内壁上表面和内壁下表面;所述转轴的上端插入上滚动轴承的内圈中;转轴的下端插入下滚动轴承的内圈中;所述主动齿轮设置在转轴的轴身上;所述主动齿轮与蜗杆相啮合;所述齿杆组件的数量为两个;所述齿杆组件对称设置在主动齿轮的两侧;所述齿杆组件由安装杆、从动齿轮和固定轴承组成;所述安装杆的上端与从动齿轮的旋转中心相固定连接;所述从动齿轮与主动齿轮相啮合;所述安装杆的杆身与固定轴承的内圈相固定连接;所述固定轴承的外圈固定在定位板上。
进一步地,所述旋转安装杆机构的数量为六个;所述磁控溅射靶和定位板的数量均为两个;所述蜗杆的左右两侧均设置旋转安装杆机构的数量为三个;所述磁控溅射靶分别设置在真空镀膜室的内壁前、后两侧。
采用上述结构后,本实用新型有益效果为:本实用新型所述的一种真空磁控镀膜机,它包括有真空镀膜室、磁控溅射靶、抽真空系统、蜗杆、定位板和旋转安装杆机构;所述磁控溅射靶设置在真空镀膜室的内侧壁上;所述抽真空系统设置有抽真空管道;所述抽真空管道与真空镀膜室相连通;所述真空镀膜室的外侧壁设置有电机固定架;所述电机固定架上设置有电机;所述电机的转轴端连设有齿轮箱;所述齿轮箱的外壳固定在电机固定架上;所述定位板与真空镀膜室的内侧壁相固定连接;所述真空镀膜室的内壁底部设置有蜗杆固定架;所述蜗杆一端穿过蜗杆固定架;蜗杆另一端伸出到真空镀膜室的外部后与齿轮箱相连接;所述旋转安装杆机构的数量至少为两个;所述旋转安装杆机构由主动齿轮、转轴、上滚动轴承、下滚动轴承和齿杆组件组成;所述上滚动轴承和下滚动轴承分别固定在真空镀膜室的内壁上表面和内壁下表面;所述转轴的上端插入上滚动轴承的内圈中;转轴的下端插入下滚动轴承的内圈中;所述主动齿轮设置在转轴的轴身上;所述主动齿轮与蜗杆相啮合;所述齿杆组件的数量为两个;所述齿杆组件对称设置在主动齿轮的两侧;所述齿杆组件由安装杆、从动齿轮和固定轴承组成;所述安装杆的上端与从动齿轮的旋转中心相固定连接;所述从动齿轮与主动齿轮相啮合;所述安装杆的杆身与固定轴承的内圈相固定连接;所述固定轴承的外圈固定在定位板上。在使用本实用新型时,通过电机带动蜗杆;使与蜗杆想啮合的主动齿轮转动;主动齿轮转动后带动从动齿轮转动,使安装杆绕轴心转动,被镀膜的工件安装在安装杆上,从磁控溅射靶逸出的原子团或离子,经过电场和磁场的作用下,持续打在正在旋转的工件上,使工件表面得到一层均匀的镀膜,有效地提高和控制产品的质量,极大限度地提高生产效率。本实用新型具有结构简单,设置合理,制作成本低等优点。
附图说明
图1是本实用新型的主视剖视图;
图2是本实用新型的俯视剖面图;
附图标记说明:
1、电机;2、齿轮箱;3、真空镀膜室;3-1、电机固定架;
3-2、蜗杆固定架;4、磁控溅射靶;5、抽真空系统;5-1、抽真空管道;
6、蜗杆;7、主动齿轮;8、转轴;9、安装杆;10、定位板;
11、上滚动轴承;12、下滚动轴承、13、从动齿轮、14、固定轴承。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
如图1至2所示,本实用新型所述的一种真空磁控镀膜机,它包括有真空镀膜室3、磁控溅射靶4、抽真空系统5、蜗杆6、定位板10和旋转安装杆机构;所述磁控溅射靶4设置在真空镀膜室3的内侧壁上;所述抽真空系统5设置有抽真空管道5-1;所述抽真空管道5-1与真空镀膜室3相连通;在镀膜之前抽真空系统5对真空镀膜室3进行抽真空;所述真空镀膜室3的外侧壁设置有电机固定架3-1;所述电机固定架3-1上设置有电机1;所述电机1的转轴端连设有齿轮箱2;所述齿轮箱2的外壳固定在电机固定架3-1上;所述定位板10与真空镀膜室3的内侧壁相固定连接;所述真空镀膜室3的内壁底部设置有蜗杆固定架3-2;所述蜗杆6一端穿过蜗杆固定架3-2;蜗杆6另一端伸出到真空镀膜室3的外部后与齿轮箱2相连接;所述旋转安装杆机构的数量至少为两个;所述旋转安装杆机构由主动齿轮7、转轴8、上滚动轴承11、下滚动轴承12和齿杆组件组成;所述上滚动轴承11和下滚动轴承12分别固定在真空镀膜室3的内壁上表面和内壁下表面;所述转轴8的上端插入上滚动轴承11的内圈中;转轴8的下端插入下滚动轴承12的内圈中;所述主动齿轮7设置在转轴8的轴身上;所述主动齿轮7与蜗杆6相啮合;所述齿杆组件的数量为两个;所述齿杆组件对称设置在主动齿轮7的两侧;所述齿杆组件由安装杆9、从动齿轮13和固定轴承14组成;所述安装杆9的上端与从动齿轮13的旋转中心相固定连接;所述从动齿轮13与主动齿轮7相啮合;所述安装杆9的杆身与固定轴承14的内圈相固定连接;所述固定轴承14的外圈固定在定位板10上;通过电机1带动蜗杆6;使与蜗杆6想啮合的主动齿轮7转动;主动齿轮7转动后带动从动齿轮13转动,使安装杆9绕轴心转动,被镀膜的工件安装在安装杆9上,工件在真空镀膜室3,从磁控溅射靶4逸出的原子团或离子,经过电场和磁场的作用下,持续打在正在旋转的工件上,使工件表面得到一层均匀的镀膜。
作为本实用新型的一种优选方式,所述旋转安装杆机构的数量为六个;所述磁控溅射靶4和定位板10的数量均为两个;所述蜗杆6的左右两侧均设置旋转安装杆机构的数量为三个;所述磁控溅射靶4分别设置在真空镀膜室3的内壁前、后两侧多数采用溅射器移动而基板固定的方式进行生产,此种方式比较节能。
在使用本实用新型时,通过电机带动蜗杆;使与蜗杆想啮合的主动齿轮转动;主动齿轮转动后带动从动齿轮转动,使安装杆绕轴心转动,被镀膜的工件安装在安装杆上,从磁控溅射靶逸出的原子团或离子,经过电场和磁场的作用下,持续打在正在旋转的工件上,使工件表面得到一层均匀的镀膜,有效地提高和控制产品的质量,极大限度地提高生产效率。另外,该结构简单、设计合理,制造成本低。
以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。

Claims (2)

1.一种真空磁控镀膜机,它包括有真空镀膜室(3)、磁控溅射靶(4)和抽真空系统(5);所述磁控溅射靶(4)设置在真空镀膜室(3)的内侧壁上;所述抽真空系统(5)设置有抽真空管道(5-1);所述抽真空管道(5-1)与真空镀膜室(3)相连通;所述真空镀膜室(3)的外侧壁设置有电机固定架(3-1);所述电机固定架(3-1)上设置有电机(1);所述电机(1)的转轴端连设有齿轮箱(2);所述齿轮箱(2)的外壳固定在电机固定架(3-1)上;其特征在于:它还包括有蜗杆(6)、定位板(10)和旋转安装杆机构;所述定位板(10)与真空镀膜室(3)的内侧壁相固定连接;所述真空镀膜室(3)的内壁底部设置有蜗杆固定架(3-2);所述蜗杆(6)一端穿过蜗杆固定架(3-2);蜗杆(6)另一端伸出到真空镀膜室(3)的外部后与齿轮箱(2)相连接;
所述旋转安装杆机构的数量至少为两个;所述旋转安装杆机构由主动齿轮(7)、转轴(8)、上滚动轴承(11)、下滚动轴承(12)和齿杆组件组成;所述上滚动轴承(11)和下滚动轴承(12)分别固定在真空镀膜室(3)的内壁上表面和内壁下表面;所述转轴(8)的上端插入上滚动轴承(11)的内圈中;转轴(8)的下端插入下滚动轴承(12)的内圈中;所述主动齿轮(7)设置在转轴(8)的轴身上;所述主动齿轮(7)与蜗杆(6)相啮合;所述齿杆组件的数量为两个;所述齿杆组件对称设置在主动齿轮(7)的两侧;所述齿杆组件由安装杆(9)、从动齿轮(13)和固定轴承(14)组成;所述安装杆(9)的上端与从动齿轮(13)的旋转中心相固定连接;所述从动齿轮(13)与主动齿轮(7)相啮合;所述安装杆(9)的杆身与固定轴承(14)的内圈相固定连接;所述固定轴承(14)的外圈固定在定位板(10)上。
2.根据权利要求1所述的一种真空磁控镀膜机,其特征在于:所述旋转安装杆机构的数量为六个;所述磁控溅射靶(4)和定位板(10)的数量均为两个;所述蜗杆(6)的左右两侧均设置旋转安装杆机构的数量为三个;所述磁控溅射靶(4)分别设置在真空镀膜室(3)的内壁前、后两侧。
CN201620577911.5U 2016-06-13 2016-06-13 一种真空磁控镀膜机 Expired - Fee Related CN205839119U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201620577911.5U CN205839119U (zh) 2016-06-13 2016-06-13 一种真空磁控镀膜机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201620577911.5U CN205839119U (zh) 2016-06-13 2016-06-13 一种真空磁控镀膜机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN205839119U true CN205839119U (zh) 2016-12-28

Family

ID=58153942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201620577911.5U Expired - Fee Related CN205839119U (zh) 2016-06-13 2016-06-13 一种真空磁控镀膜机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN205839119U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112458414A (zh) * 2020-10-30 2021-03-09 湘潭宏大真空技术股份有限公司 磁控下溅射镀膜机

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112458414A (zh) * 2020-10-30 2021-03-09 湘潭宏大真空技术股份有限公司 磁控下溅射镀膜机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100392147C (zh) 一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置
CN201437550U (zh) 磁控溅射镀膜设备
CN205839119U (zh) 一种真空磁控镀膜机
CN202390527U (zh) 一种用于真空管镀膜的复合真空管工架
CN103590005A (zh) 一种真空镀膜机
CN110842749B (zh) 一种用于叶片表面加工的组合封闭型腔振动式滚磨光整加工装置及其方法
CN101082120B (zh) 一种对粉体表面进行镀膜的工艺及其设备
CN201587977U (zh) 一种镀膜机用镀膜夹具
CN205576271U (zh) 公转与自转均可独立调速的真空镀膜机工件转架运动机构
CN213113477U (zh) 一种真空镀膜机的靶挡板机构
TW201213587A (en) Conveying mechanism and deposition device with same
CN207958501U (zh) 立式周向循环连续式类金刚石涂层设备
CN104998794B (zh) 陶瓷表面精加工专用涂刷装置
CN204529969U (zh) 柱状样品表面涂层工件架
CN108481179A (zh) 一种行星式滚抛机
CN102000932A (zh) 一种并联型四自由度相贯线焊接机器人
CN202062175U (zh) 一种并联型四自由度相贯线焊接机器人
TW201215696A (en) Deposition carrier and deposition device with same
JP2012172240A (ja) スパッタリング装置
CN111647867A (zh) 一种真空镀膜机磁控溅射控制机构
CN208106742U (zh) 双凸轮转子泵
CN102229089A (zh) 同心圆拉丝机
KR101503471B1 (ko) 드럼 회전식 도금 장치
CN203613254U (zh) 一种真空镀膜机
CN207958497U (zh) 单腔循环连续式类金刚石涂层装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20161228

Termination date: 20170613

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee