CN205828355U - 适用于超声波清洗机的载具及超声波清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种适用于超声波清洗机的载具及超声波清洗机，属于发光二极管制造技术领域。所述载具包括第一挡板、第二挡板、第一连接板、第二连接板、第一承载杆、第二承载杆；第一挡板和第二挡板相对设置；第一连接板夹设在第一挡板和第二挡板之间，第二连接板夹设在第一挡板和第二挡板之间，第一连接板和第二连接板相对设置；第一承载杆夹设在第一挡板和第二挡板之间，第二承载杆夹设在第一挡板和第二挡板之间，第一承载杆和第二承载杆相对设置；第一承载杆与第一挡板的底部的间距、第二承载杆与第一挡板的底部的间距均小于硅片承载容器的深度。本实用新型可以有效提高去胶效果。

Description

适用于超声波清洗机的载具及超声波清洗机

技术领域

本实用新型涉及发光二极管制造技术领域，特别涉及一种适用于超声波清洗机的载具及超声波清洗机。

背景技术

发光二极管(Light Emitting Diode，简称LED)是半导体二极管的一种，可以把电能转化成光能。发光二极管的制造过程中涉及多次光刻工艺。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、去除光刻胶等工序。

去除光刻胶通常使用超声波清洗机实现。超声波清洗机利用超声波在去胶液中的空化作用、加速度作用及直进流作用，对去胶液和光刻胶进行直接、间接的作用，使光刻胶被分散、乳化、剥离而实现去除硅片表面光刻胶的目的。

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：

超声波清洗机去除硅片表面光刻胶时，人的手不方便伸到超声波清洗机中取放硅片，通常采用介于人与机器之间互动的载具代替人工完成，但现有载具的去胶效果不理想。

实用新型内容

为了解决现有技术去胶效果不理想的问题，本实用新型实施例提供了一种适用于超声波清洗机的载具及超声波清洗机。所述技术方案如下：

一方面，本实用新型实施例提供了一种适用于超声波清洗机的载具，所述载具包括第一挡板、第二挡板、第一连接板、第二连接板、第一承载杆、第二承载杆；所述第一挡板和所述第二挡板相对设置；所述第一连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一连接板和所述第二连接板相对设置；所述第一承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一承载杆和所述第二承载杆相对设置；所述第一承载杆与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均小于硅片承载容器的深度。

可选地，所述第一承载杆和所述第二承载杆均设有用于限制所述硅片承载容器的活动区域的卡槽。

可选地，所述第一连接板、所述第二连接板、所述第一挡板、所述第二挡板均为316不锈钢板，所述第一承载杆和所述第二承载杆均为316不锈钢杆。

可选地，所述第一连接板与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均比所述硅片承载容器的深度小10mm。

可选地，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第一连接板、所述第二连接板上均设有通孔。

另一方面，本实用新型实施例提供了一种超声波清洗机，所述超声波清洗机包括硅片承载容器和载具，所述载具包括第一挡板、第二挡板、第一连接板、第二连接板、第一承载杆、第二承载杆；所述第一挡板和所述第二挡板相对设置；所述第一连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一连接板和所述第二连接板相对设置；所述第一承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一承载杆和所述第二承载杆相对设置；所述第一承载杆与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均小于硅片承载容器的深度。

可选地，所述第一承载杆和所述第二承载杆均设有用于限制所述硅片承载容器的活动区域的卡槽。

可选地，所述第一连接板、所述第二连接板、所述第一挡板、所述第二挡板均为316不锈钢板，所述第一承载杆和所述第二承载杆均为316不锈钢杆。

可选地，所述第一连接板与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均比所述硅片承载容器的深度小10mm。

可选地，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第一连接板、所述第二连接板上均设有通孔。

本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

通过第一承载杆和第二承载杆相对设置在第一挡板和第二挡板之间，第一承载杆与第一挡板的底部的间距小于硅片承载容器的深度，载具在清洗槽中时硅片承载容器悬挂在载具上，确保硅片承载容器的底部能够触碰到清洗槽的底部，超声效果能够直接传递到硅片承载容器内的硅片上，有效提高去胶效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例一提供的一种适用于超声波清洗机的载具的结构示意图；

图2是本实用新型实施例二提供的一种超声波清洗机的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。

实施例一

本实用新型实施例提供了一种适用于超声波清洗机的载具，参见图1，该载具包括第一挡板1、第二挡板2、第一连接板3、第二连接板4、第一承载杆5、第二承载杆6。

在本实施例中，第一挡板1和第二挡板2相对设置。第一连接板3夹设在第一挡板1和第二挡板2之间，第二连接板4夹设在第一挡板1和第二挡板2之间，第一连接板3和第二连接板4相对设置。第一承载杆5夹设在第一挡板1和第二挡板2之间，第二承载杆6夹设在第一挡板1和第二挡板2之间，第一承载杆5和第二承载杆6相对设置。第一承载杆5与第一挡板1的底部的间距、第二承载杆6与第一挡板1的底部的间距均小于硅片承载容器的深度。

可以理解地，当载具放置在上货区和下货区的平面上时，硅片承载容器和载具一起放置在平面上，由于硅片承载容器的深度大于第一承载杆与第一挡板的底部的间距、第二承载杆与第一挡板的底部的间距，因此硅片承载容器没有与第一承载杆和第二承载杆接触，只是设置在第一承载杆和第二承载杆之间。

当载具放置在清洗槽上方时，清洗槽的底部是下凹的，硅片承载容器在重力的作用下，悬挂在第一承载杆和第二承载杆上。由于硅片承载容器的深度大于第一承载杆与第一挡板的底部的间距、第二承载杆与第一挡板的底部的间距，因此硅片承载容器此时可以与清洗槽的底部触碰，使得超声波可以直接从清洗槽的底部传递到硅片承载容器内，提高清洗效果，提升产品良率。

可选地，第一承载杆5和第二承载杆6均可以设有用于限制硅片承载容器的活动区域的卡槽10，避免硅片承载容器左右晃移动导致重心不稳、载具侧翻。

可选地，第一挡板1、第二挡板2、第一连接板3、第二连接板4均可以为316不锈钢板，第一承载杆5和第二承载杆6均可以为316不锈钢杆，耐腐蚀、无污染、不易形变、寿命长。

可选地，第一连接板3与第一挡板的底部的间距、第二承载杆6与第一挡板1的底部的间距均比硅片承载容器的深度小10mm，一方面确保硅片承载容器能触碰所有平面，另一方面确保第一承载杆和第二承载杆可以卡住硅片承载容器。

可选地，第一挡板1、第二挡板2、第一连接板3、第二连接板4上均可以设有通孔20，以方便清洗液进入硅片承载容器、以及搬运载具。

在实际应用中，载具的使用过程包括：

1、确保载具完成清洗，表面没有残余的溶液污渍；

2、将放置有硅片的硅片承载容器放置在载具中，确认硅片承载容器在载具中各个方向都顺畅、无卡死；

3、将载具放置在超声波清洗机的上货区；

4、向超声波清洗机输入信息，机械手臂将载具搬运到清洗槽内进行去胶；

5、去胶完成后，机械手臂将载具放置到下货区；

6、对完成作业的载具进行清洁擦拭和烘干处理，并放置到指定区域以待下次使用。

本实用新型实施例通过第一承载杆和第二承载杆相对设置在第一挡板和第二挡板之间，第一承载杆与第一挡板的底部的间距小于硅片承载容器的深度，载具在清洗槽中时硅片承载容器悬挂在载具上，确保硅片承载容器的底部能够触碰到清洗槽的底部，超声效果能够直接传递到硅片承载容器内的硅片上，有效提高去胶效果。

实施例二

本实用新型实施例提供了一种超声波清洗机，参见图2，该超声波清洗机包括硅片承载容器100和载具200。

具体地，载具200可以与实施例一提供的载具相同，在此不再详述。

可选地，硅片承载容器100可以为一体成型的花篮状物体，实现简单方便，成本低。

可选地，硅片承载容器100内设有用于分隔各个硅片的隔离槽100a。

本实用新型实施例通过第一承载杆和第二承载杆相对设置在第一挡板和第二挡板之间，第一承载杆与第一挡板的底部的间距小于硅片承载容器的深度，载具在清洗槽中时硅片承载容器悬挂在载具上，确保硅片承载容器的底部能够触碰到清洗槽的底部，超声效果能够直接传递到硅片承载容器内的硅片上，有效提高去胶效果。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种适用于超声波清洗机的载具，其特征在于，所述载具包括第一挡板、第二挡板、第一连接板、第二连接板、第一承载杆、第二承载杆；所述第一挡板和所述第二挡板相对设置；所述第一连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一连接板和所述第二连接板相对设置；所述第一承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一承载杆和所述第二承载杆相对设置；所述第一承载杆与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均小于硅片承载容器的深度。

2.根据权利要求1所述的载具，其特征在于，所述第一承载杆和所述第二承载杆均设有用于限制所述硅片承载容器的活动区域的卡槽。

3.根据权利要求1或2所述的载具，其特征在于，所述第一连接板、所述第二连接板、所述第一挡板、所述第二挡板均为316不锈钢板，所述第一承载杆和所述第二承载杆均为316不锈钢杆。

4.根据权利要求1或2所述的载具，其特征在于，所述第一连接板与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均比所述硅片承载容器的深度小10mm。

5.根据权利要求1或2所述的载具，其特征在于，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第一连接板、所述第二连接板上均设有通孔。

6.一种超声波清洗机，所述超声波清洗机包括硅片承载容器和载具，其特征在于，所述载具包括第一挡板、第二挡板、第一连接板、第二连接板、第一承载杆、第二承载杆；所述第一挡板和所述第二挡板相对设置；所述第一连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二连接板夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一连接板和所述第二连接板相对设置；所述第一承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第二承载杆夹设在所述第一挡板和所述第二挡板之间，所述第一承载杆和所述第二承载杆相对设置；所述第一承载杆与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均小于硅片承载容器的深度。

7.根据权利要求6所述的超声波清洗机，其特征在于，所述第一承载杆和所述第二承载杆均设有用于限制所述硅片承载容器的活动区域的卡槽。

8.根据权利要求6或7所述的超声波清洗机，其特征在于，所述第一连接板、所述第二连接板、所述第一挡板、所述第二挡板均为316不锈钢板，所述第一承载杆和所述第二承载杆均为316不锈钢杆。

9.根据权利要求6或7所述的超声波清洗机，其特征在于，所述第一连接板与所述第一挡板的底部的间距、所述第二承载杆与所述第一挡板的底部的间距均比所述硅片承载容器的深度小10mm。

10.根据权利要求6或7所述的超声波清洗机，其特征在于，所述第一挡板、所述第二挡板、所述第一连接板、所述第二连接板上均设有通孔。