CN205556779U - 一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，包括有放卷室和收卷室，其中，在放卷室和收卷室之间设置有加热组件，所述加热组件包括有热屏蔽固定杆，在热屏蔽固定杆上设置放卷夹持辊和收卷夹持辊，在放卷夹持辊和收卷夹持辊设置加热丝。所述支撑管为可升降的。在放卷夹持辊上端设置工艺进气装置，在放卷夹持辊下端设置排气装置。在放卷夹持辊左端设置放卷热屏蔽组件，在收卷夹持辊右端设置收卷热屏蔽组件。在收卷轴转动密封装置的左侧设置水冷辊转动密封装置。
Description
技术领域
本实用新型涉及机械加工技术领域，具体为一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备。
背景技术
石墨烯薄膜是一种新型碳纳米材料薄膜。电子的运输特性是石墨烯的最重要的一个性质,这种独特的电学性质表明石墨烯在各个方面具备广泛的潜在应用前景,比如高速晶体管,透明电极,光电压力传感器等。但是,由于现有的机械剥离石墨烯面积太小、制备工艺受到限制,无法进行产业化。所以制备大面积、高质量的石墨烯便成为目前学术界的研究热点,化学气相沉积法(CVD)是最有可能进行产业化的方法,它是用气态碳源在铜和镍衬底上生长石墨烯,而铜基CVD生长的石墨烯薄膜具有良好的单层性和连续性。本专利就结合连续卷对卷镀膜设备和高温真空炉两者特点，设计出了一种铜基CVD方法制备大面积、高质量石墨烯透明导电薄膜的的装置。
为此，针对上述技术问题，本实用新型提出一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，实用性强，一定程度上解决上述技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，包括有放卷室和收卷室，其中，在放卷室和收卷室之间设置有加热组件，所述加热组件包括有热屏蔽固定杆，在热屏蔽固定杆上设置放卷夹持辊和收卷夹持辊，在放卷夹持辊和收卷夹持辊设置加热丝。
一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，在放卷夹持辊上端设置工艺进气装置，在放卷夹持辊下端设置排气装置。
一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其中，在放卷夹持辊左端设置放卷热屏蔽组件，在收卷夹持辊右端设置收卷热屏蔽组件。
优选的，所述加热丝为铜箔材质。
优选的，在收卷室上方设置收卷轴转动密封装置。
一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其中，在收卷轴转动密封装置的左侧设置水冷辊转动密封装置。
附图说明
图1是设备侧视图；
图2是设备剖视图
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1和图2所示，一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，包括有放卷室1和收卷室4，其特征在于，在放卷室1和收卷室4之间设置有加热组件3，所述加热组件3包括有热屏蔽固定杆16，在热屏蔽固定杆16上设置放卷夹持辊18和收卷夹持辊21，在放卷夹持辊18和收卷夹持辊21设置加热丝23。连接放卷室1和收卷室4以及加热组件3的是石英管2。在放卷室1和收卷室4以及加热组件3下方设置设备框架5，起到支撑的作用。在是放卷室1的右侧设置水冷法兰12，在放卷室1的上方设置圆导轨9。
作为本实用新型的一个优选的实施例，所述支撑管7为可升降的。
一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，在放卷夹持辊18上端设置工艺进气装置20，在放卷夹持辊18下端设置排气装置19。
一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其中，在放卷夹持辊18左端设置放卷热屏蔽组件17，在收卷夹持辊21右端设置收卷热屏蔽组件22。
作为本实用新型的一个优选的实施例，所述加热丝23为铜箔材质。
作为本实用新型的一个优选的实施例，在收卷室上方设置收卷轴转动密封装置14。
一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其中，在收卷轴转动密封装置14的左侧设置水冷辊转动密封装置24。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (6)
1.一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，包括有放卷室和收卷室，其特征在于，在放卷室和收卷室之间设置有加热组件，所述加热组件包括有热屏蔽固定杆，在热屏蔽固定杆上设置放卷夹持辊和收卷夹持辊，在放卷夹持辊和收卷夹持辊设置加热丝。
2.根据权利要求1所述的一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其特征在于，在放卷夹持辊上端设置工艺进气装置，在放卷夹持辊下端设置排气装置。
3.根据权利要求1所述的一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其特征在于，在放卷夹持辊左端设置放卷热屏蔽组件，在收卷夹持辊右端设置收卷热屏蔽组件。
4.根据权利要求1所述的一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其特征在于，所述加热丝为铜箔材质。
5.根据权利要求1所述的一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其特征在于，在收卷室上方设置收卷轴转动密封装置。
6.根据权利要求1所述的一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备，其特征在于，在收卷轴转动密封装置的左侧设置水冷辊转动密封装置。
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| CN201620215895.5U CN205556779U (zh) | 2016-03-21 | 2016-03-21 | 一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备 |
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| CN201620215895.5U CN205556779U (zh) | 2016-03-21 | 2016-03-21 | 一种高温真空炉连续卷对卷镀膜设备 |
Publications (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109295437A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-02-01 | 北京工业大学 | 一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置及其工作方法 |
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2016
- 2016-03-21 CN CN201620215895.5U patent/CN205556779U/zh active Active
Cited By (2)
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| CN109295437A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-02-01 | 北京工业大学 | 一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置及其工作方法 |
| CN109295437B (zh) * | 2018-11-13 | 2023-05-16 | 北京工业大学 | 一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置及其工作方法 |
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