CN205449642U - 温育装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种温育装置,属于化学发光测定领域。温育装置,包括温育盘、导电滑环、转盘电机、加热片、温度传感器、支架,所述的温育盘设于支架上,所述的温育盘的背面设有加热片和温度传感器;所述的导电滑环设于温育盘的中心,加热片和温度传感器的导线均缠绕在导电滑环上;所述的转盘电机的转动轴和温育盘的中心相连;所述的温育盘的圆边上设有若干反应杯孔。本实用新型温育盘底部表面有加热片和温度传感器,采用接触式直接加热,保持温育盘为恒温状态,结构简单,使用方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及测定仪设备领域,尤其涉及温育装置。
背景技术
现有技术的温育装置多为转盘式的温育,多采用空气浴等加热方式,加热速度较慢,而且受外界因素影响很大,温度波动较大,会严重影响温育反应,继而影响测量结果。
同时,温育装置中与加热装置相连的导线较多,在转盘运动过程中容易发生线路缠绕,造成机器故障,影响工作效率。
实用新型内容
所要解决的问题:针对以上问题,本实用新型提供一种接触式直接加热温育效果好的温育装置。
为解决以上技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
温育装置,包括温育盘、导电滑环、转盘电机、加热片、温度传感器、支架,所述的温育盘设于支架上,所述的温育盘的背面设有加热片和温度传感器;
所述的导电滑环设于温育盘的中心,加热片和温度传感器的导线均缠绕在导电滑环上;
所述的转盘电机的转动轴和温育盘的中心相连;
所述的温育盘的圆边上设有若干反应杯孔。
进一步的技术方案,温育装置还包括接水盘,所述的接水盘位于温育盘的下面,并位于反应杯孔的正下方。
进一步的技术方案,所述的加热片通过胶黏贴于温育盘背面。
进一步的技术方案,所述的反应杯孔的底部还设有小圆孔,所述的温度传感器固定在温育盘背面的小圆孔内。
进一步的技术方案,所述的反应杯孔的外侧为镂空状。
进一步的技术方案,所述的温育盘采用纯铝材料。
有益效果
与现有技术相比,本实用新型具备如下显著优点:
1、本实用新型的温育盘下装有导电滑环装置,加热片和温度传感器的线是接在导电滑环上,有效解决转盘式导致线路缠绕的问题,并节约空间,使得加热片可以直接通过胶黏贴于温育盘背面,实现快速加热。
2、本实用新型通过温度传感器控制温度,保持温育盘为恒温状态,受外界因素影响很小,使得测量数据更准确。
3、本实用新型的温育盘为纯铝材料,导热性好,能够实现快速加热。
4、本实用新型的转盘电机带动温育盘旋转到相应的位置,配合其他操作,例如加样、混匀、磁分离。
5、本实用新型的接水盘设于温育盘的下面,并位于反应杯孔的正下方,当反应杯发生漏液情况时,能够有效防止试剂外流,避免安全事故问题的发生。
6、本实用新型的反应杯孔的外侧为镂空状,有利于配合磁分离操作。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的剖视图;
图3为本实用新型的温育盘的背面图;
图中标号说明:1、温育盘,2、导电滑环,3、转盘电机,4、加热片,5、温度传感器,6、支架,7、接水盘,8、反应杯孔。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明。
实施例
如图1至3所示,温育装置,包括温育盘1、导电滑环2、转盘电机3、加热片4、温度传感器5、支架6,所述的温育盘1设于支架6上,所述的温育盘1的背面设有加热片4和温度传感器5;
所述的导电滑环2设于温育盘的中心,加热片4和温度传感器5的导线均缠绕在导电滑环2上;
所述的转盘电机3的转动轴和温育盘1的中心相连;
所述的温育盘1的圆边上设有若干反应杯孔8。
温育装置还包括接水盘7,所述的接水盘7位于温育盘1的下面,并位于反应杯孔8的正下方。所述的加热片4通过胶黏贴于温育盘1背面。所述的反应杯孔8的底部还设有小圆孔,所述的温度传感器5固定在温育盘背面的小圆孔内。所述的反应杯孔8的外侧为镂空状。所述的温育盘1采用纯铝材料。
Claims (6)
1.温育装置,其特征在于,包括温育盘、导电滑环、转盘电机、加热片、温度传感器、支架,所述的温育盘设于支架上,所述的温育盘的背面设有加热片和温度传感器;
所述的导电滑环设于温育盘的中心,加热片和温度传感器的导线均缠绕在导电滑环上;
所述的转盘电机的转动轴和温育盘的中心相连;
所述的温育盘的圆边上设有若干反应杯孔。
2.根据权利要求1所述的温育装置,其特征在于,温育装置还包括接水盘,所述的接水盘位于温育盘的下面,并位于反应杯孔的正下方。
3.根据权利要求1所述的温育装置,其特征在于,所述的加热片通过胶黏贴于温育盘背面。
4.根据权利要求1所述的温育装置,其特征在于,所述的反应杯孔的底部还设有小圆孔,所述的温度传感器固定在温育盘背面的小圆孔内。
5.根据权利要求1所述的温育装置,其特征在于,所述的反应杯孔的外侧为镂空状。
6.根据权利要求1所述的温育装置,其特征在于,所述的温育盘采用纯铝材料。
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