CN205449642U - 温育装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种温育装置，属于化学发光测定领域。温育装置，包括温育盘、导电滑环、转盘电机、加热片、温度传感器、支架，所述的温育盘设于支架上，所述的温育盘的背面设有加热片和温度传感器；所述的导电滑环设于温育盘的中心，加热片和温度传感器的导线均缠绕在导电滑环上；所述的转盘电机的转动轴和温育盘的中心相连；所述的温育盘的圆边上设有若干反应杯孔。本实用新型温育盘底部表面有加热片和温度传感器，采用接触式直接加热，保持温育盘为恒温状态，结构简单，使用方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及测定仪设备领域，尤其涉及温育装置。
背景技术
现有技术的温育装置多为转盘式的温育，多采用空气浴等加热方式，加热速度较慢，而且受外界因素影响很大，温度波动较大，会严重影响温育反应，继而影响测量结果。
同时，温育装置中与加热装置相连的导线较多，在转盘运动过程中容易发生线路缠绕，造成机器故障，影响工作效率。
实用新型内容
所要解决的问题:针对以上问题，本实用新型提供一种接触式直接加热温育效果好的温育装置。
为解决以上技术问题，本实用新型采用如下技术方案：
温育装置，包括温育盘、导电滑环、转盘电机、加热片、温度传感器、支架，所述的温育盘设于支架上，所述的温育盘的背面设有加热片和温度传感器；
所述的导电滑环设于温育盘的中心，加热片和温度传感器的导线均缠绕在导电滑环上；
所述的转盘电机的转动轴和温育盘的中心相连；
所述的温育盘的圆边上设有若干反应杯孔。
进一步的技术方案，温育装置还包括接水盘，所述的接水盘位于温育盘的下面，并位于反应杯孔的正下方。
进一步的技术方案，所述的加热片通过胶黏贴于温育盘背面。
进一步的技术方案，所述的反应杯孔的底部还设有小圆孔，所述的温度传感器固定在温育盘背面的小圆孔内。
进一步的技术方案，所述的反应杯孔的外侧为镂空状。
进一步的技术方案，所述的温育盘采用纯铝材料。
有益效果
与现有技术相比，本实用新型具备如下显著优点：
1、本实用新型的温育盘下装有导电滑环装置，加热片和温度传感器的线是接在导电滑环上，有效解决转盘式导致线路缠绕的问题，并节约空间，使得加热片可以直接通过胶黏贴于温育盘背面，实现快速加热。
2、本实用新型通过温度传感器控制温度，保持温育盘为恒温状态，受外界因素影响很小，使得测量数据更准确。
3、本实用新型的温育盘为纯铝材料，导热性好，能够实现快速加热。
4、本实用新型的转盘电机带动温育盘旋转到相应的位置，配合其他操作，例如加样、混匀、磁分离。
5、本实用新型的接水盘设于温育盘的下面，并位于反应杯孔的正下方，当反应杯发生漏液情况时，能够有效防止试剂外流，避免安全事故问题的发生。
6、本实用新型的反应杯孔的外侧为镂空状，有利于配合磁分离操作。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的剖视图；
图3为本实用新型的温育盘的背面图；
图中标号说明：1、温育盘，2、导电滑环,3、转盘电机,4、加热片,5、温度传感器,6、支架，7、接水盘，8、反应杯孔。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明。
实施例
如图1至3所示，温育装置，包括温育盘1、导电滑环2、转盘电机3、加热片4、温度传感器5、支架6，所述的温育盘1设于支架6上，所述的温育盘1的背面设有加热片4和温度传感器5；
所述的导电滑环2设于温育盘的中心，加热片4和温度传感器5的导线均缠绕在导电滑环2上；
所述的转盘电机3的转动轴和温育盘1的中心相连；
所述的温育盘1的圆边上设有若干反应杯孔8。
温育装置还包括接水盘7，所述的接水盘7位于温育盘1的下面，并位于反应杯孔8的正下方。所述的加热片4通过胶黏贴于温育盘1背面。所述的反应杯孔8的底部还设有小圆孔，所述的温度传感器5固定在温育盘背面的小圆孔内。所述的反应杯孔8的外侧为镂空状。所述的温育盘1采用纯铝材料。
Claims (6)
1.温育装置，其特征在于，包括温育盘、导电滑环、转盘电机、加热片、温度传感器、支架，所述的温育盘设于支架上，所述的温育盘的背面设有加热片和温度传感器；
所述的导电滑环设于温育盘的中心，加热片和温度传感器的导线均缠绕在导电滑环上；
所述的转盘电机的转动轴和温育盘的中心相连；
所述的温育盘的圆边上设有若干反应杯孔。
2.根据权利要求1所述的温育装置，其特征在于，温育装置还包括接水盘，所述的接水盘位于温育盘的下面，并位于反应杯孔的正下方。
3.根据权利要求1所述的温育装置，其特征在于，所述的加热片通过胶黏贴于温育盘背面。
4.根据权利要求1所述的温育装置，其特征在于，所述的反应杯孔的底部还设有小圆孔，所述的温度传感器固定在温育盘背面的小圆孔内。
5.根据权利要求1所述的温育装置，其特征在于，所述的反应杯孔的外侧为镂空状。
6.根据权利要求1所述的温育装置，其特征在于，所述的温育盘采用纯铝材料。
Priority Applications (1)
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| CN201620142951.7U CN205449642U (zh) | 2016-02-24 | 2016-02-24 | 温育装置 |
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| CN201620142951.7U CN205449642U (zh) | 2016-02-24 | 2016-02-24 | 温育装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN205449642U true CN205449642U (zh) | 2016-08-10 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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2016
- 2016-02-24 CN CN201620142951.7U patent/CN205449642U/zh active Active
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