CN205395453U - 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机 - Google Patents

平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机 Download PDF

Info

Publication number
CN205395453U
CN205395453U CN201620161973.8U CN201620161973U CN205395453U CN 205395453 U CN205395453 U CN 205395453U CN 201620161973 U CN201620161973 U CN 201620161973U CN 205395453 U CN205395453 U CN 205395453U
Authority
CN
China
Prior art keywords
thin layer
pressure chamber
orifice structure
film layer
orifice
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201620161973.8U
Other languages
English (en)
Inventor
李令英
宋佳丽
谢永林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hangzhou Ruierfa Technology Co ltd
Original Assignee
Suzhou Institute of Nano Tech and Nano Bionics of CAS
Suzhou Ruifa Printing Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Institute of Nano Tech and Nano Bionics of CAS, Suzhou Ruifa Printing Technology Co Ltd filed Critical Suzhou Institute of Nano Tech and Nano Bionics of CAS
Priority to CN201620161973.8U priority Critical patent/CN205395453U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN205395453U publication Critical patent/CN205395453U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种平整薄膜层喷孔结构及应用所述平整薄膜层喷孔结构的喷墨打印机,该平整薄膜层喷孔结构包含一基底,基底上设有若干进墨通道,基底的表面平整地覆盖一薄膜层,在薄膜层的内部设有若干压力腔,压力腔与进墨通道一一对应并相互连通,薄膜层的表面还设有若干喷孔,喷孔与压力腔一一对应并相互连通,压力腔之间还可以设有隔层,薄膜层由有机材料制成。由于本实用新型的平整喷孔薄膜层结构的薄膜层整体由有机材料形成,易于制造且在表面不会形成凹槽,不会造成油墨和其他污染物的累积;压力腔墙体坚固不易损坏,更利于批量化生产。

Description

平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机
技术领域
本实用新型涉及一种平整薄膜层喷孔结构,更确切地说,是一种用于喷墨打印技术的平整薄膜层喷孔结构,以及应用所述平整薄膜层喷孔结构的喷墨打印机。
背景技术
目前业界传统实现压力腔的结构有两种:
如图1所示的一种现有结构,其主要特点为顶部材质与墙体材质不同,其实现工艺较复杂,很难用常规的MEMS方法进行批量制造。此结构首先通过光刻的方式形成压力腔的外形,再将已进行激光打孔形成喷孔的聚酰亚胺(polyimide)薄膜通过对位的方式粘贴到墙体的顶部。此结构的缺点是:
1、聚酰亚胺(polyimide)薄膜在对位粘贴时存在对位误差,喷孔偏离目标位置。
2、聚酰亚胺(polyimide)薄膜贴附于墙体顶部时,聚酰亚胺(polyimide)薄膜的黏附均匀性以及粘着力的大小会存在偏差。
如图2所示的另一种现有结构,其主要特点为顶部材质与墙体材质相同,但是喷孔层的上表面不平整,相邻喷孔之间易造成油墨和其他污染物的累积,并且在喷孔擦洗过程中造成喷孔污染或堵塞。此结构采用MEMS集成的方法,首先用有机牺牲材料形成压力腔的外形,然后通过沉积的方式(PECVD)将无机材料(sio2)覆盖在有机牺牲材料压力腔外形的四周,形成压力腔的墙体和顶部,之后再用光刻及干法刻蚀的方法在压力腔顶部形成喷孔,最后通过干法刻蚀(氧洗)的方式将有机牺牲材料去除,形成压力腔。此结构的缺点是:
1、压力腔之间会形成凹槽,容易造成油墨和其他污染物的累积,在喷孔擦洗过程中会造成喷孔污染或堵塞。
2、此种结构的压力腔墙体很薄,此结构在喷头擦洗过程中易受损伤。
实用新型内容
本实用新型提供一种表面平整不会累积污染物、坚固且易批量制造的平整薄膜层喷孔结构,从而解决业界传统压力腔形成技术所存在的的技术问题。
本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种平整喷孔薄膜层结构,包含一基底,所述的基底上设有若干进墨通道,所述的基底的表面平整地覆盖一薄膜层,在所述薄膜层的内部设有若干压力腔,所述的压力腔与进墨通道一一对应并相互连通,所述薄膜层的表面还设有若干喷孔,所述喷孔与压力腔一一对应并相互连通。
作为本实用新型较佳的实施例,所述的压力腔之间设有隔层。
作为本实用新型较佳的实施例,所述的薄膜层由有机材料制成。
作为本实用新型较佳的实施例,所述的薄膜层由高分子化合物或氟化物制成。
本实用新型还提供一种喷墨打印机,所述喷墨打印机包括平整喷孔薄膜层结构,所述平整喷孔薄膜层结构包括基底,所述的基底上设有若干进墨通道,所述的基底的表面平整地覆盖一薄膜层,在所述薄膜层的内部设有若干压力腔,所述的压力腔与进墨通道一一对应并相互连通,所述薄膜层的表面还设有若干喷孔,所述喷孔与压力腔一一对应并相互连通。
由于本实用新型的平整薄膜层喷孔结构的薄膜层整体由有机材料形成,易于制造且在表面不会形成凹槽,不会造成油墨和其他污染物的累积;压力腔墙体坚固不易损坏。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为目前业界传统实现压力腔的一种结构;
图2为目前业界传统实现压力腔的另一种结构;
图3为本实用新型平整喷孔薄膜层结构不带隔层的示意图;
图4为本实用新型平整喷孔薄膜层结构带隔层的示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
如图3所示,一种平整喷孔薄膜层结构1,包含一基底2,所述的基底2上设有若干进墨通道3,所述的基底2的表面平整地覆盖一薄膜层5,在所述薄膜层5的内部设有若干压力腔4,所述的压力腔4与进墨通道3一一对应并相互连通,所述薄膜层5的表面还设有若干喷孔6,所述喷孔6与压力腔4一一对应并相互连通。
如图4所示,所述的压力腔4之间还可以设有隔层7。
薄膜层5由有机材料制成,优选的有机材料为高分子化合物或氟化物制成。
本实用新型还提供一种喷墨打印机,所述喷墨打印机包括平整喷孔薄膜层结构,所述平整喷孔薄膜层结构包括基底,所述的基底上设有若干进墨通道,所述的基底的表面平整地覆盖一薄膜层,在所述薄膜层的内部设有若干压力腔,所述的压力腔与进墨通道一一对应并相互连通,所述薄膜层的表面还设有若干喷孔,所述喷孔与压力腔一一对应并相互连通。
由于本实用新型的平整薄膜层喷孔结构的薄膜层整体由有机材料形成,易于制造且在表面不会形成凹槽,不会造成油墨和其他污染物的累积;压力腔墙体坚固不易损坏。
以上仅仅以一个实施方式来说明本实用新型的设计思路,在系统允许的情况下,本实用新型可以扩展为同时外接更多的功能模块,从而最大限度扩展其功能。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种平整薄膜层喷孔结构,包含一薄膜层,一基底;所述薄膜层含一上表面和一下表面,所述基底含一上表面和一下表面,所属薄膜层的下表面与所述基底的上表面连接,其特征在于,所述薄膜层中包含至少一个喷孔和一个压力腔,所述喷孔贯穿所述薄膜层的上表面,所述压力腔贯穿所述薄膜层的下表面,所述喷孔与压力腔一一对应并相互连通,所述基底包含至少一个进墨通道,所述进墨通道贯穿所述基底的上下表面,所述进墨通道与所述压力腔一一对应且相互连通,所述喷孔之间的薄膜层上表面平整。
2.根据权利要求1所述的平整薄膜层喷孔结构,所述喷孔中心与所述压力腔中心基本对齐。
3.根据权利要求1所述的平整薄膜层喷孔结构,所述压力腔四周的薄膜层之间设有隔层材料。
4.根据权利要求1-3任一所述的平整薄膜层喷孔结构,所述的薄膜层由有机材料制成。
5.根据权利要求1所述的平整薄膜层喷孔结构,所述的薄膜层由高分子化合物或氟化物制成。
6.根据权利要求3所述的平整薄膜层喷孔结构,其特征在于,所述的隔层材料由无机材料制成。
7.一种喷墨打印机,其特征在于,包括权利要求1-6任一所述的平整薄膜层喷孔结构。
CN201620161973.8U 2016-03-03 2016-03-03 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机 Active CN205395453U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201620161973.8U CN205395453U (zh) 2016-03-03 2016-03-03 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201620161973.8U CN205395453U (zh) 2016-03-03 2016-03-03 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN205395453U true CN205395453U (zh) 2016-07-27

Family

ID=56444439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201620161973.8U Active CN205395453U (zh) 2016-03-03 2016-03-03 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN205395453U (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105667090A (zh) * 2016-03-03 2016-06-15 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105667090A (zh) * 2016-03-03 2016-06-15 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018505074A (ja) マルチノズル印字ヘッド
CN101380847B (zh) 制造液体喷射头基底的方法
WO2009096671A3 (en) Separator for progressing united force to electrode and electrochemical containing the same
CN105118845A (zh) 有机电致发光显示基板及制备方法、显示面板、显示装置
CN205395453U (zh) 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机
JP7046061B2 (ja) 塗布方法、塗布装置および発光デバイス
CN105667085A (zh) 一种实现图形化喷墨打印精细障壁阵列及其制造方法
CN108909188A (zh) 一种喷墨打印设备及一种喷墨打印方法
CN106183420B (zh) 一种液体喷头、用于液体喷头的喷嘴板及该喷嘴板的制作方法
CN105667090A (zh) 平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机
EP1866163B1 (en) Ink jet print head which prevents bubbles from collecting
JP2012051235A (ja) 液体吐出ヘッド
CN100355574C (zh) 液体喷射头的制造方法
US8770719B2 (en) Liquid discharge head
ITTO990987A1 (it) Testina di stampa monilitica con rete equipotenziale integrata e relativo metodo di fabbricazione.
EP3124279B1 (en) Method to produce wallpaper with minimum side effects
CN105667089A (zh) 平整薄膜层喷孔结构制造方法、薄膜层结构及喷墨打印机
US20130021405A1 (en) Substrate structure for ejection chip and method for fabricating substrate structure
JP5287447B2 (ja) ノズル基板、及びそれを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置
JP2011011425A (ja) 液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法
CN1290705C (zh) 喷墨记录头
KR102044103B1 (ko) 도광판 또는 광고판 제작에 사용되는 점착필름 제조방법
CN106876437A (zh) 一种显示基板、显示面板及显示基板的制作方法
CN207357405U (zh) 一种涂布机气刀稳定装置
US8361815B2 (en) Substrate processing method and method for manufacturing liquid ejection head

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 215000, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, if waterway 398

Co-patentee after: Shanghai Riefa Digital Technology Co.,Ltd.

Patentee after: SUZHOU INSTITUTE OF NANO-TECH AND NANO-BIONICS (SINANO), CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

Address before: 215000, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, if waterway 398

Co-patentee before: SUZHOU YUEFA PRINTING TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Patentee before: SUZHOU INSTITUTE OF NANO-TECH AND NANO-BIONICS (SINANO), CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

CP01 Change in the name or title of a patent holder
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20200225

Address after: 201703 No. 1106, floor 11, building a, haoche Hui Plaza, No. 1-72, Lane 2855, Huqingping Road, Zhaoxiang Town, Qingpu District, Shanghai

Patentee after: Shanghai Riefa Digital Technology Co.,Ltd.

Address before: 215000, Suzhou Industrial Park, Jiangsu, if waterway 398

Co-patentee before: Shanghai Riefa Digital Technology Co.,Ltd.

Patentee before: SUZHOU INSTITUTE OF NANO-TECH AND NANO-BIONICS (SINANO), CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

TR01 Transfer of patent right
CP03 Change of name, title or address

Address after: 310000, 1st Floor, Building 18, No. 260, 6th Street, Baiyang Street, Qiantang District, Hangzhou City, Zhejiang Province

Patentee after: Hangzhou Ruierfa Technology Co.,Ltd.

Country or region after: China

Address before: No. 1106, 11 / F, block a, luxury car Plaza, No. 1-72, Lane 2855, Huqingping Road, Zhaoxiang Town, Qingpu District, Shanghai, 201703

Patentee before: Shanghai Riefa Digital Technology Co.,Ltd.

Country or region before: China

CP03 Change of name, title or address