CN205390518U - 改进型按摩装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种改进型按摩装置,包括鞋底、按摩柱、气垫,气垫、按摩柱固定于鞋底上表面,按摩柱分布于气垫内,鞋底与气垫设有垂直贯穿的圆柱形进气孔,进气孔内设有顶柱、弹性的支条、塞块、阻挡块,阻挡块为扁圆柱形并固定于进气孔内壁上,顶柱为圆柱形并通过在同一水平面上平均分布的三根以上的支条固定于进气孔内壁上,塞块纵截面为倒梯形且固定于顶柱底端面,阻挡块设有垂直贯穿的塞孔,塞孔的位置和形状与塞块相匹配,初始位置的支条使所述顶柱顶端面与按摩柱顶端面齐平和使塞块未塞住所述塞孔。本改进型按摩装置,可以把外部冷空气很好地引入足底面至鞋底顶面之间,从而有效降低足底面至鞋底顶面之间的温度。

Description

改进型按摩装置
技术领域
本实用新型涉及的是保健用品的制造领域,具体涉及的是一种改进型按摩装置。
背景技术
2011204675807实用新型专利公开了一种新型保健按摩装置,它涉及的是保健用品的制造领域,具体涉及的是一种新型保健按摩装置。它是由鞋底,气垫和按摩柱组成;鞋底被设置在气垫的下面,按摩柱被安装在气垫内。此种按摩装置能给足底进行一定的按摩,但是在使用过程中,装置内温度特别是足底面至鞋底顶面之间的温度容易升高导致足底出汗从而产生异味。如果从与足背等非足底面相对应的装置上开通气孔,对足底面至鞋底顶面之间的温度降温效果不佳;如果在足底开通气孔,虽然有一定的降温效果,但由于足底面至鞋底顶面之间的温度高,而鞋底底面外空气温度低,按照空气流动原理,足底的通气孔的降温效果有限。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是提供一种改进型按摩装置,它能有效的解决背景技术中所存在的问题。
本实用新型为解决上述技术问题采用的技术方案是:
一种改进型按摩装置,包括鞋底、按摩柱、气垫,所述气垫、按摩柱固定于所述鞋底上表面,所述按摩柱分布于所述气垫内,其特征在于,所述鞋底与气垫设有垂直贯穿的圆柱形进气孔,所述进气孔内设有顶柱、弹性的支条、塞块、阻挡块,所述阻挡块为扁圆柱形并固定于所述进气孔内壁上,所述顶柱为圆柱形并通过在同一水平面上平均分布的三根以上的所述支条固定于所述进气孔内壁上,所述塞块纵截面为倒梯形且固定于所述顶柱底端面,所述阻挡块设有垂直贯穿的塞孔,所述塞孔的位置和形状与所述塞块相匹配,初始位置的所述支条使所述顶柱顶端面与所述按摩柱顶端面齐平和使所述塞块未塞住所述塞孔。
本实用新型所述的改进型按摩装置,可以把外部冷空气很好地引入足底面至鞋底顶面之间,从而有效降低足底面至鞋底顶面之间的温度。
附图说明
图1为改进型按摩装置的结构示意图。
图中附图标记说明:鞋底1,按摩柱2,气垫3,进气孔4,顶柱5,支条6,塞块7,阻挡块8,塞孔9。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明:
如图1所示的改进型按摩装置,包括包括鞋底1、按摩柱2、气垫3,所述气垫3、按摩柱2固定于所述鞋底1上表面,所述按摩柱2分布于气垫3内,所述鞋底1与气垫3设有垂直贯穿的圆柱形进气孔4,所述进气孔4内设有顶柱5、弹性的支条6、塞块7、阻挡块8,所述阻挡块8为扁圆柱形并固定于所述进气孔4内壁上,所述顶柱5为圆柱形并通过在同一水平面上平均分布的三根以上的所述支条6固定于所述进气孔4内壁上,所述塞块7纵截面为倒梯形且固定于所述顶柱5底端面,所述阻挡块8设有垂直贯穿的塞孔9,所述塞孔9的位置和形状与所述塞块7相匹配,初始位置的所述支条6使所述顶柱5顶端面与所述按摩柱2顶端面齐平和使所述塞块7未塞住所述塞孔9。这样当脚穿上该装置时,足底面压在气垫3和顶柱5上,把顶柱5和塞块7逐渐向下压,也就是说塞块7逐渐压入塞孔9内直至塞块7最终塞紧塞孔9,这时按摩柱2对足底进行按摩,装置内的空气也从塞孔9排出装置外,也使足底面以下阻挡块8以上塞孔9内的空间形成一个密闭空间,此时空间内的空气气压高于装置外的空气气压;在抬脚时,顶柱5在支条6弹力的作用下向上抬起,使得塞块7离开塞孔9从而打开塞孔9,此时由于气压差的存在,装置外的冷空气被大量吸入装置内以降低按摩提高的温度,达到很好的通气降温效果。
以上所述仅是本实用新型的实施例及所运用的技术手段的介绍,并不是对实用新型的限制,根据本文的披露与说明所作的任何变更、等效替换、改进等均视为包含在本实用新型的技术范畴之内。

Claims (1)

1.一种改进型按摩装置,包括鞋底、按摩柱、气垫,所述气垫、按摩柱固定于所述鞋底上表面,所述按摩柱分布于所述气垫内,其特征在于,所述鞋底与气垫设有垂直贯穿的圆柱形进气孔,所述进气孔内设有顶柱、弹性的支条、塞块、阻挡块,所述阻挡块为扁圆柱形并固定于所述进气孔内壁上,所述顶柱为圆柱形并通过在同一水平面上平均分布的三根以上的所述支条固定于所述进气孔内壁上,所述塞块纵截面为倒梯形且固定于所述顶柱底端面,所述阻挡块设有垂直贯穿的塞孔,所述塞孔的位置和形状与所述塞块相匹配,初始位置的所述支条使所述顶柱顶端面与所述按摩柱顶端面齐平和使所述塞块未塞住所述塞孔。
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