CN205319507U - 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 - Google Patents
一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN205319507U CN205319507U CN201521043884.5U CN201521043884U CN205319507U CN 205319507 U CN205319507 U CN 205319507U CN 201521043884 U CN201521043884 U CN 201521043884U CN 205319507 U CN205319507 U CN 205319507U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- liquid
- chip
- main body
- semiconductor laser
- cooling piece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn - After Issue
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 76
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 title abstract description 20
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 22
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 14
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 5
- 241000218202 Coptis Species 0.000 claims description 3
- 235000002991 Coptis groenlandica Nutrition 0.000 claims description 3
- SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N copper tungsten Chemical compound [Cu].[W] SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 abstract 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
本实用新型提出了一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器,该大通道半导体激光器液体制冷片包括设有入液孔和出液孔的制冷片主体,制冷片主体内设有管状液体制冷通道,用于连通入液孔和出液孔。本实用新型的大通道半导体激光器液体制冷片中的液体制冷通道不易堵塞,提高了器件的可靠性和寿命,并且在同等流量的条件下散热效果与微通道制冷片相当;相比传统的宏通道液体制冷片,本实用新型的液体制冷片增加了制冷面积,缩短了热传导路径,提高了散热效率。
Description
技术领域
本实用新型属于半导体激光器技术领域,具体涉及一种大通道半导体激光器液体制冷片及采用了该液体制冷片的激光器。
背景技术
半导体激光器具有体积小、重量轻、可靠性高、使用寿命长、成本低的优点,目前已经广泛应用于国民经济的各个领域,比如激光泵浦,医疗以及工业加工领域。
现有技术中,功率类电子器件的封装形式有传导冷却型、微通道液体制冷型及宏通道液体制冷型(200910023753.3)。对于高功率半导体激光器而言,采用传导冷却的方式,散热效率较低,会导致器件寿命和可靠性下降,一般只能达到几十瓦的输出功率;若采用微通道液体制冷的方式,制冷液体需采用高质量的去离子水,成本较高,并且长时间使用会导致微通道管壁腐蚀或者堵塞,严重影响了半导体激光器的可靠性。
中国专利200910023753.3提出了一种液体制冷片结构,虽然解决了微通道液体制冷的管壁堵塞问题,但是散热效果有待提高,制约了半导体激光器的功率的进一步提高和应用领域。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型提出了一种大通道半导体激光器液体制冷片及采用了该液体制冷片的激光器,避免了微通道堵塞的问题,并且相比宏通道液体制冷片提高了散热效果,具体的技术方案为:
一种大通道半导体激光器液体制冷片,包括片状制冷片主体。所述的制冷片主体上设置入液孔和出液孔,所述的入液孔和出液孔均贯通制冷片主体的上表面和下表面;制冷片主体上靠近入液孔的一端设置芯片安装区,用于安装激光芯片;所述的入液孔的内壁上设有入水口,出液孔的内壁上设有出水口,所述的制冷片主体内设有管状液体制冷通道,用于将入水口和出水口连通,且液体制冷通道以入水口为起点,路径经芯片安装区与入液孔之间的区域,以出水口为终点。
本实用新型的大通道半导体激光器液体制冷片还有这样的结构:包括片状制冷片主体,制冷片主体上设置通液孔,通液孔贯通制冷片主体的上表面和下表面,在制冷片主体的一端设置芯片安装区,所述的制冷片主体的侧面设置入水口,所述通液孔的内壁上设置出水口,制冷片主体内设有管状液体制冷通道,用于将入水口和出水口连通,管状液体制冷通道水流路径经芯片安装区与通液孔之间的区域,以达到最优的散热效果。这种结构也可以将入水口设置于通液孔的内壁,出水口设置于制冷片主体的侧壁上。
所述制冷片主体内的液体制冷通道的直径为0.5mm-3mm。
所述的制冷片主体为金属,比如铜或者铜-金刚石的混合材料。
采用了上述大通道的半导体激光器液体制冷片的激光器,自下而上依次为通水块,正电极片,至少一个半导体激光器单元,负电极片。所述的半导体激光器单元包括上述大通道半导体激光器液体制冷片,激光芯片,负极连接片;所述的激光芯片正极键合于液体制冷片的芯片安装区,激光芯片的负极与负极连接片直接连接,或者激光芯片的负极通过金线与负极连接片连接,负极连接片与液体制冷片之间设有绝缘层,用于使液体制冷片和负极连接片之间绝缘。所述的通水块设有进水管和出水管,与上述液体制冷片内的液体制冷通道连通,构成制冷水路。
所述的激光器的两侧分别各设有一块侧板,激光器的负电极片上设置固定块,两块侧板和固定块用于固定激光器;所述的激光器的背部安装有绝缘块,绝缘块上覆有正电极片的引出电极和负电极片的引出电极。
所述的半导体激光器单元的激光芯片和芯片安装区之间设有应力缓释层,激光芯片的正极焊接或者金属键合在应力缓释层上,应力缓释层焊接或者金属键合在芯片安装区上;所述的应力缓释层材料为铜钨。
本实用新型具有以下优点:
本实用新型的大通道半导体激光器液体制冷片中的液体制冷通道不易堵塞,提高了器件的可靠性和寿命,并且在同等流量的条件下散热效果与微通道制冷片相当。相比宏通道液体制冷片,本发明的大通道半导体激光器液体制冷片增加了制冷面积,缩短了热传导路径,提高了散热效率。
附图说明
图1为本实用新型的大通道半导体激光器的液体制冷片。
图2为本实用新型的大通道半导体激光器的液体制冷片的内部结构透视图。
图3为本实用新型的大通道半导体激光器的液体制冷片的实施例二。
图4为采用了本实用新型的大通道的液体制冷片的激光器。
图5为激光器中的半导体激光器单元。
图6为激光器的制冷水路示意图。
附图标号说明:1为入液孔,2为出液孔,3为入水口,4为出水口,5为芯片安装区,6为管状液体制冷通道,7为通液孔,8为固定块,9为通水块,10为半导体激光器单元,11为制冷片主体,12为激光芯片,13为半导体激光器单元的负极连接片,14为应力缓释层,15为进水管,16为出水管。
具体实施方式
如图1为本实用新型的大通道半导体激光器的液体制冷片,包括片状制冷片主体11;所述的制冷片主体11上设置入液孔1和出液孔2,所述的入液孔1和出液孔2均贯通制冷片主体11的上表面和下表面;制冷片主体11上靠近入液孔1的一端设置芯片安装区5,用于安装激光芯片;所述的入液孔1的内壁上设有入水口3,出液孔2的内壁上设有出水口4,所述的制冷片主体11内设有管状液体制冷通道6,用于将入水口3和出水口4连通,且液体制冷通道6以入水口3为起点,路径经过芯片安装区5与入液孔之间的区域,以出水口4为终点,具体结构可参考图2的内部结构透视图。
图3为本实用新型的大通道半导体激光器的液体制冷片的实施例二:制冷片主体11上设置通液孔7,通液孔7贯通制冷片主体11的上表面和下表面,在制冷片主体11的一端设置芯片安装区5,所述的制冷片主体11的侧面设置入水口3,所述通液孔7的内壁上设置出水口4,制冷片主体内设有管状液体制冷通道6,用于将入水口3和出水口4连通,管状液体制冷通道6水流路径经过芯片安装区5与通液孔之间的区域,以达到最优的散热效果。
所述制冷片主体11内的液体制冷通道6的直径为0.5mm-3mm。
所述的制冷片主体11为金属,或者铜-金刚石的混合材料。
图4为采用了本实用新型的大通道的液体制冷片的激光器,自下而上依次为通水块9,正电极片,至少一个半导体激光器单元10,负电极片。图5为激光器中的半导体激光器单元的结构,半导体激光器单元10包括本发明的大通道半导体激光器液体制冷片,激光芯片12,负极连接片13;所述的激光芯片12正极键合于液体制冷片的芯片安装区5,激光芯片12的负极与负极连接片13直接连接,或者激光芯片的负极通过金线与负极连接片连接,负极连接片与液体制冷片之间设有绝缘层,用于使液体制冷片和负极连接片之间绝缘。
所述的激光器的两侧分别各设有一块侧板,激光器的负电极片上设置固定块8,两块侧板和固定块8用于固定激光器;所述的激光器的背部安装有绝缘块,绝缘块上覆有正电极片的引出电极和负电极片的引出电极。
所述的半导体激光器单元的激光芯片12和芯片安装区5之间设有应力缓释层14,激光芯片12的正极焊接或者金属键合在应力缓释层14上,应力缓释层14焊接或者金属键合在芯片安装区5上;所述的应力缓释层材料为铜钨。
所述的通水块设有进水管15和出水管16,与上述液体制冷片内的液体制冷通道6连通,构成制冷水路。图6为激光器的制冷水路示意图,图中箭头方向为制冷液的流向。
Claims (9)
1.一种大通道半导体激光器液体制冷片,其特征在于:包括片状制冷片主体;
所述的制冷片主体上设置入液孔和出液孔,所述的入液孔和出液孔均贯通制冷片主体的上表面和下表面;制冷片主体上靠近入液孔的一端设置芯片安装区,用于安装激光芯片;所述的入液孔的内壁上设有入水口,出液孔的内壁上设有出水口,所述的制冷片主体内设有管状液体制冷通道,将入水口和出水口连通。
2.根据权利要求1所述的一种大通道半导体激光器液体制冷片,其特征在于:所述液体制冷通道以入水口为起点,路径经芯片安装区与入液孔之间的区域,以出水口为终点。
3.一种大通道半导体激光器液体制冷片,其特征在于:包括片状制冷片主体;
制冷片主体上设置通液孔,通液孔贯通制冷片主体的上表面和下表面,在制冷片主体的一端设置芯片安装区;所述的制冷片主体的侧面设置入水口,所述通液孔的内壁上设置出水口,制冷片主体内设有管状液体制冷通道,用于将入水口和出水口连通。
4.根据权利要求3所述的一种大通道半导体激光器液体制冷片,其特征在于:管状液体制冷通道水流路径经芯片安装区与通液孔之间的区域。
5.根据权利要求1或者3所述的一种大通道半导体激光器液体制冷片,其特征在于:所述制冷片主体内的液体制冷通道的直径为0.5mm-3mm。
6.根据权利要求1或者3所述的一种大通道半导体激光器液体制冷片,其特征在于:所述的制冷片主体为铜-金刚石或者铜。
7.一种激光器,其特征在于:自下而上依次为通水块,正电极片,至少一个半导体激光器单元,负电极片;所述的半导体激光器单元包括权利要求1或者权利要求3所述的大通道半导体激光器液体制冷片,激光芯片,负极连接片;所述的激光芯片正极键合于液体制冷片的芯片安装区,激光芯片的负极与负极连接片直接连接,或者激光芯片的负极通过金线与负极连接片连接,负极连接片与液体制冷片之间设有绝缘层,用于使液体制冷片和负极连接片之间绝缘。
8.根据权利要求7所述的激光器,其特征在于:所述的激光器的两侧分别各设有一块侧板,激光器的负电极片上设置固定块,两块侧板和固定块用于固定激光器;所述的激光器的背部安装有绝缘块,绝缘块上覆有正电极片的引出电极和负电极片的引出电极。
9.根据权利要求7所述的激光器,其特征在于:所述的半导体激光器单元的激光芯片和芯片安装区之间设有应力缓释层,激光芯片的正极焊接或者金属键合在应力缓释层上,应力缓释层焊接或者金属键合在芯片安装区上;所述的应力缓释层材料为铜钨。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201521043884.5U CN205319507U (zh) | 2015-12-15 | 2015-12-15 | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201521043884.5U CN205319507U (zh) | 2015-12-15 | 2015-12-15 | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN205319507U true CN205319507U (zh) | 2016-06-15 |
Family
ID=56185961
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201521043884.5U Withdrawn - After Issue CN205319507U (zh) | 2015-12-15 | 2015-12-15 | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN205319507U (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106887787A (zh) * | 2015-12-15 | 2017-06-23 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 |
CN113224634A (zh) * | 2020-01-19 | 2021-08-06 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种轻型封装的半导体激光器及其应用 |
-
2015
- 2015-12-15 CN CN201521043884.5U patent/CN205319507U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106887787A (zh) * | 2015-12-15 | 2017-06-23 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 |
CN106887787B (zh) * | 2015-12-15 | 2024-05-10 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 |
CN113224634A (zh) * | 2020-01-19 | 2021-08-06 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种轻型封装的半导体激光器及其应用 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN205211737U (zh) | 一种igbt模块水冷散热器 | |
CN102473979B (zh) | 电池模块和用于冷却电池模块的方法 | |
CN106329030B (zh) | 一种冷却板 | |
CN106887787B (zh) | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 | |
CN104577707A (zh) | 一种叠层阵列液体制冷型高功率半导体激光器 | |
CN102484298A (zh) | 电池模块和用于冷却电池模块的方法 | |
CN103629851A (zh) | 一种风冷、液冷两用散热器 | |
CN205319507U (zh) | 一种大通道半导体激光器液体制冷片及其激光器 | |
CN1851908A (zh) | 一种功率半导体器件蒸发冷却装置 | |
WO2019201357A1 (zh) | 一种换流阀冷却水路 | |
CN204006821U (zh) | 一种分流器以及空调 | |
WO2019223285A1 (zh) | 散热装置和变频器 | |
CN204349207U (zh) | 叠层阵列液体制冷型高功率半导体激光器 | |
CN111490266B (zh) | 用于液体燃料电池系统的散热装置 | |
CN209056483U (zh) | 一种用于igbt上的双面可扩展散热器 | |
CN103579143B (zh) | 基于内冷却散热的平板型功率器件封装结构 | |
CN207165550U (zh) | 一种功率模块用水冷散热基板 | |
CN202169436U (zh) | 水冷散热高频变压器及其散热装置 | |
CN104167397B (zh) | 一种集成散热晶闸管 | |
CN214407068U (zh) | 多流道式高效散热水冷排 | |
CN210257908U (zh) | 一种新能源汽车空调冬天聚热能水冷板 | |
CN203249430U (zh) | 层叠式蒸发器 | |
WO2017000747A1 (zh) | 冷却板、锂离子电池模组及汽车 | |
CN202231625U (zh) | 水冷散热高频整流器及其散热装置 | |
CN207456231U (zh) | 一种新型微通道换热器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20160615 Effective date of abandoning: 20240510 |
|
AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20160615 Effective date of abandoning: 20240510 |
|
AV01 | Patent right actively abandoned | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |