CN205258840U - 一种低浴比的气液染色机 - Google Patents

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    • D06B—TREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
    • D06B3/00—Passing of textile materials through liquids, gases or vapours to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing, impregnating
    • D06B3/28—Passing of textile materials through liquids, gases or vapours to effect treatment, e.g. washing, dyeing, bleaching, sizing, impregnating of fabrics propelled by, or with the aid of, jets of the treating material

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Abstract

本实用新型提供一种低浴比的气液染色机，结构包括一内部设置有布槽的染缸，所述的布槽与染缸的底部之间设置有回流腔，所述的回流腔内部固定有回流收集器，所述的回流收集器置于染缸底部且位于下水口的前端，所述的回流收集器呈半圆弧结构；工作时布槽内的坯布将一部分的水一起带上去，经提布辊的挤压作用实现水布分离，分离的水通过染缸侧壁的夹管收集后快速回到染缸底部的回流腔，回流收集器将污水直接阻隔在回流腔的前半部并经下水口直接流出，染色时达到一种快速回水的目的，减少耗水量，降低染色浴比。

Description

一种低浴比的气液染色机
技术领域：
本实用新型涉及纺织印染设备技术领域，更具体地说是一种低浴比的气液染色机。
背景技术：
众所周知，气液染色机的匀染布料的过程，是坯布与水混合后不断的在染缸内部的布槽当中运转的过程，洗水时水流的方向与坯布的行进方向相同，洗水后的污水则通过外接的排水管排出，但由于水与染液混合后与坯布只接触一次就排出，不仅耗费的水资源过多，而且水中的染液未能充分与坯布接触和上染，浴比过高(浴比度是指浸染方式织物与染液之间的比值)。导致染色成本过高。
实用新型内容：
针对背景技术所存在的不足，本实用新型提供一种针对性强、结构简单的低浴比的气液染色机，通过在染缸内部增设回流收集器，有效降低染色机的浴比及耗水量。
本实用新型为实现其目的所采用的技术方案是：一种低浴比的气液染色机，结构包括一内部设置有布槽的染缸。所述的布槽与染缸的底部之间设置有回流腔，所述的回流腔内部固定有回流收集器，所述的回流收集器置于染缸底部且位于下水口的前端。
进一步采取的措施是：所述的回流收集器呈半圆弧结构。
本实用新型通过这样的设计所具有的优点在于：工作时布槽内的坯布将一部分的水一起带上去，经提布辊的挤压作用实现水布分离，分离的水通过染缸侧壁的夹管收集后快速回到染缸底部的回流腔，回流收集器将污水直接阻隔在回流腔的前半部并经下水口直接流出，染色时达到一种快速回水的目的，减少耗水量，降低染色浴比。
针对性强，结构简单。
附图说明：
图1是本实用新型的结构示意图。
图中，1、染缸，2、布槽，3、回流腔，4、回流收集器。
具体实施方式：
下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
结合图1所示，本实用新型的结构包括一内部设置有布槽2的染缸1，所述的布槽2与染缸1的底部之间设置有回流腔3，所述的回流腔3内部固定有回流收集器4，所述的回流收集器4置于染缸1的底部且位于下水口的前端。
所述的回流收集器4呈半圆弧结构。
以上所述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型所揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种低浴比的气液染色机，包括一内部设置有布槽的染缸，其特征在于：所述的布槽与染缸的底部之间设置有回流腔，所述的回流腔内部固定有回流收集器，所述的回流收集器置于染缸底部且位于下水口的前端。
2.根据权利要求1所述的一种低浴比的气液染色机，其特征在于：所述的回流收集器呈半圆弧结构。
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