CN205156878U - 一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置,包括两自由度的运动平台、设置在该运动平台上方的成像镜筒以及设置在该成像镜筒上方的DMD芯片,所述运动平台上安装有吸盘垫,所述成像镜筒顶端设置有中间镂空的分划板,所述吸盘垫上设置有与所述成像镜筒相适配的反射镜。本实用新型对比已有检测光轴垂直度的结构,具有结构简单、布局合理、成本低廉、操作简易的特点,更加贴合于半导体直写曝光设备成像光路光轴垂直度的检测与调试。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体直写曝光技术领域,具体涉及一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置。
背景技术
成像光路光轴垂直度的检测是半导体直写曝光设备性能调试的重要组成部分,良好的成像光路光轴垂直度可以保证不同板厚的PCB板扫描条带拼接的一致性。
目前,现有光轴垂直度的检测结构使用自准直仪、外部平行光源、旋转台、升降台等设施,一方面结构复杂、操作繁复,另一方面外部光源与光学系统本身光源存在差异,将引入误差。
实用新型内容
本实用新型提供一种用于检测半导体直写曝光系统成像光路光轴垂直度的装置,通过反射光束在分划板上的位置,检测成像光路光轴的垂直度。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置,包括两自由度的运动平台、设置在该运动平台上方的成像镜筒以及设置在该成像镜筒上方的DMD芯片,所述运动平台上安装有吸盘垫,所述成像镜筒顶端设置有中间镂空的分划板,所述吸盘垫上设置有与所述成像镜筒相适配的反射镜。
进一步地,所述分划板为划分有10组同心圆的十字圆结构,10组同心圆直径分别为15mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm、45mm、50mm、55mm、60mm。
为了便于观察可视光斑,所述分划板优选为透明或半透明结构。
优选地,所述DMD芯片、分划板、成像镜筒以及反射镜同轴设置。
优选地,所述分划板的中间镂空部分为半径5mm的圆形。
本实用新型在所述成像镜筒上方放置中间镂空、十字圆结构的分划板,使DMD芯片反射下来的中心光束通过分划板的镂空部分,再经过成像镜筒到达吸盘垫表面,光束通过设置在吸盘垫上的反射镜反射回成像镜筒内,再经过成像镜筒到达分划板,如果成像光路光轴垂直于吸盘垫时,反射光束就正好通过分划板的镂空部分,如果成像光路光轴不垂直于吸盘垫时,反射光束在分划板镂空部分外侧呈现可视光斑,以此调整和检测成像光路光轴的垂直度。
由以上技术方案可知,本实用新型对比已有检测光轴垂直度的结构,具有结构简单、布局合理、成本低廉、操作简易的特点,更加贴合于半导体直写曝光设备成像光路光轴垂直度的检测与调试。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型中的分划板的结构示意图;
图3为采用本实用新型装置检测光轴垂直度,在光轴不垂直于吸盘垫时,反射光束在分划板镂空部分外侧呈现可视光斑的示意图;
图4为采用本实用新型装置检测光轴垂直度,在光轴垂直于吸盘垫时,反射光束通过分划板镂空部分的示意图。
图中:1、运动平台,2、成像镜筒,3、DMD芯片,4、吸盘垫,5、分划板,6、反射镜,8、镂空部分,9、可视光斑。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的一种优选实施方式作详细的说明。
如图1所示,所述装置包括运动平台1、设置在该运动平台上方的成像镜筒2以及设置在该成像镜筒上方的DMD芯片3。
所述运动平台1能在X、Y方向上移动,该运动平台上安装有吸盘垫4。所述DMD芯片由1920*1080个小反射镜组成,控制所述DMD芯片中间部分的九块小反射镜翻转,投射一束中心光束到成像镜筒内。所述成像镜筒2顶端设置有中间镂空的分划板5,参照图2,该分划板的位置通过四个螺丝通7(1)、7(2)、7(3)、7(4)调整和固定,确保中心光束通过分划板中间的镂空部分8,再经过成像镜筒2到达吸盘垫4表面。所述吸盘垫4上设置有与所述成像镜筒2相适配的反射镜6,光束通过反射镜反射回成像镜筒内,再经过成像镜筒到达中间镂空的分划板上。如果成像光路光轴垂直于吸盘垫时,反射光束就正好通过分划板的镂空部分8,如果成像光路光轴不垂直于吸盘垫时,反射光束在分划板的镂空部分8外侧呈现可视光斑9,以此调整和检测成像光路光轴的垂直度。本实施例中,所述DMD芯片3、分划板5、成像镜筒2以及反射镜6需要同轴设置。
通过本实用新型装置,根据所述可视光斑9具体落于分划板的位置来判断需要调整成像镜筒放置的角度,在调整和检测成像光路光轴垂直度时,以所述可视光斑9为依据,当光斑消失于分划板中间的镂空部分8时,则满足成像光路光轴垂直度的要求。
为了便于调整成像镜筒的放置角度,所述分划板5优选为划分有10组同心圆的十字圆结构,如图2所示,10组同心圆直径分别为15mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm、45mm、50mm、55mm、60mm。实际检测时,根据可视光斑具体落于同心圆的位置,快速准确的调整成像镜筒的放置角度。
优选地,所述分划板5的中间镂空部分8为半径5mm的圆形。
图3为在光轴不垂直于吸盘垫时,反射光束在分划板中间的镂空部分外侧呈现可视光斑的示意图,所述反射光束在分划板的镂空部分8外侧呈现可视光斑9,表示光轴不垂直于吸盘垫,垂直度在X和Y两个方向上均存在倾角。如图4所示,通过调整成像镜筒的放置角度,当反射光束正好通过分划板中间的镂空部分8时,则满足成像光路光轴垂直度的要求。
以上所述实施方式仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述,并非对本实用新型的范围进行限定,在不脱离本实用新型设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变形和改进,均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。
Claims (5)
1.一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置,包括两自由度的运动平台(1)、设置在该运动平台上方的成像镜筒(2)以及设置在该成像镜筒上方的DMD芯片(3),所述运动平台(1)上安装有吸盘垫(4),其特征在于,所述成像镜筒(2)顶端设置有中间镂空的分划板(5),所述吸盘垫(4)上设置有与所述成像镜筒(2)相适配的反射镜(6)。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述分划板(5)为划分有10组同心圆的十字圆结构,10组同心圆直径分别为15mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm、45mm、50mm、55mm、60mm。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述分划板(5)为透明或半透明结构。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述DMD芯片(3)、分划板(5)、成像镜筒(2)以及反射镜(6)同轴设置。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述分划板(5)的中间镂空部分为半径5mm的圆形。
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Cited By (4)
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CN111174732A (zh) * | 2018-11-13 | 2020-05-19 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种检测工业测量相机光轴垂直度的方法和装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107655424A (zh) * | 2017-09-21 | 2018-02-02 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 垂直度检测装置及卷绕机 |
CN107655424B (zh) * | 2017-09-21 | 2020-10-16 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 垂直度检测装置及卷绕机 |
CN111174732A (zh) * | 2018-11-13 | 2020-05-19 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种检测工业测量相机光轴垂直度的方法和装置 |
CN110091070A (zh) * | 2019-04-01 | 2019-08-06 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 电机垂直度的检测装置及检测方法 |
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