CN205156598U - 用于真空烧结炉的加热室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于真空烧结炉的加热室，其包括：加热室本体、前屏以及后屏。加热室本体包括：壳体，其为双层柱状结构；加热带，其同轴套设在壳体内；以及保温层，其填充在壳体与加热带之间。前屏设置在加热室本体的一端，前屏朝向加热室本体的一侧设有双层钼片。后屏设置在加热室本体的另一端，后屏朝向加热室本体的一侧设有双层钼片。本实用新型的用于真空烧结炉的加热室的前屏和后屏均设有两层钼片，提高了前后屏的保温效果，减少温度流失，并且减少前后屏的变形，从而延长了其使用寿命，提高所烧结产品的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空烧结技术领域，特别涉及一种用于真空烧结炉的加热室。
背景技术
目前，现有的真空烧结炉的加热室通常包括炉胆以及设置在其两端的前屏和后屏。前屏和后屏一般仅设有一层钼片，这样保温效果差，温度流失较大，进而造成炉胆的保温效果不理想，能效利用率低，并且前屏和后屏容易变形，导致加热室的使用寿命较短。此外，用于加热室风冷的风嘴采用钼铜风嘴，容易结垢，降低了风冷速度，并且风嘴使用寿命短。
公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
实用新型内容
本实用新型的目的之一在于提供一种用于真空烧结炉的加热室，从而改善现有技术中的加热室保温效果不理想、使用寿命较短的缺陷。
本实用新型的另一个目的在于提供一种用于真空烧结炉的加热室，从而克服现有技术中的风嘴容易结垢，使用寿命较短的缺陷。
为实现上述目的，本实用新型提供了一种用于真空烧结炉的加热室，其包括：加热室本体、前屏以及后屏。加热室本体包括：壳体，其为双层柱状结构；加热带，其同轴套设在壳体内；以及保温层，其填充在壳体与加热带之间。前屏设置在加热室本体的一端，前屏朝向加热室本体的一侧设有双层钼片。后屏设置在加热室本体的另一端，后屏朝向加热室本体的一侧设有双层钼片。
优选地，上述技术方案中，保温层为莫来石纤维保温层。
优选地，上述技术方案中，用于真空烧结炉的加热室还包括风嘴，风嘴均匀地设置在加热室本体上。
优选地，上述技术方案中，风嘴由陶瓷制成。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
1.本实用新型的用于真空烧结炉的加热室的前屏和后屏均设有两层钼片，提高了前后屏的保温效果，减少温度流失，并且减少前后屏的变形，从而延长了其使用寿命，提高所烧结产品的质量。
2.本实用新型的用于真空烧结炉的加热室采用莫来石纤维保温层，提高了保温性能。
3.本实用新型的用于真空烧结炉的加热室的风嘴采用陶瓷风嘴，不易结垢，拆卸方便，并且使用寿命长。
附图说明
图1是根据本实用新型的用于真空烧结炉的加热室的结构示意图。
图2是图1所示的用于真空烧结炉的加热室的加热室本体的截面示意图。
主要附图标记说明：
10-加热室本体，11-壳体，12-加热带，13-保温层，20-前屏，21-钼片，30-后屏，31-钼片，40-风嘴。
具体实施方式
下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本实用新型的保护范围并不受具体实施方式的限制。
除非另有其他明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其他元件或其他组成部分。
如图1至图2所示，根据本实用新型具体实施方式的一种用于真空烧结炉的加热室包括：加热室本体10、前屏20以及后屏30。加热室本体10包括壳体11、加热带12以及保温层13。壳体11为双层柱状结构。加热带12同轴套设在壳体11内。保温层13填充在壳体11与加热带12之间。前屏20设置在加热室本体10的一端，前屏20朝向加热室本体10的一侧设有双层钼片21。后屏30设置在加热室本体10的另一端，后屏30朝向加热室本体10的一侧设有双层钼片31。前屏20和后屏30均设有两层钼片，因此提高了前后屏的保温效果，减少温度流失，并且减少前后屏的变形，从而延长了其使用寿命，能够提高所烧结产品的质量。
优选地，在一个或多个实施方式中，保温层13为莫来石纤维保温层，本实用新型并不以此为限。
优选地，在一个或多个实施方式中，本实用新型的用于真空烧结炉的加热室还包括风嘴40，风嘴40均匀地设置在加热室本体10上。风嘴40由陶瓷制成，不易结垢，拆卸方便，并且使用寿命长。
前述对本实用新型的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本实用新型限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本实用新型的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本实用新型的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本实用新型的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。
Claims (4)
1.一种用于真空烧结炉的加热室，其特征在于，所述用于真空烧结炉的加热室包括：
加热室本体，其包括：
壳体，其为双层柱状结构；
加热带，其同轴套设在所述壳体内；以及
保温层，其填充在所述壳体与所述加热带之间；
前屏，其设置在所述加热室本体的一端，所述前屏朝向所述加热室本体的一侧设有双层钼片；以及
后屏，其设置在所述加热室本体的另一端，所述后屏朝向所述加热室本体的一侧设有双层钼片。
2.根据权利要求1所述的用于真空烧结炉的加热室，其特征在于，所述保温层为莫来石纤维保温层。
3.根据权利要求1所述的用于真空烧结炉的加热室，其特征在于，所述用于真空烧结炉的加热室还包括风嘴，所述风嘴均匀地设置在所述加热室本体上。
4.根据权利要求3所述的用于真空烧结炉的加热室，其特征在于，所述风嘴由陶瓷制成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520984359.7U CN205156598U (zh) | 2015-12-01 | 2015-12-01 | 用于真空烧结炉的加热室 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN205156598U true CN205156598U (zh) | 2016-04-13 |
Family
ID=55692281
Family Applications (1)
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN205156598U (zh) |
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2015
- 2015-12-01 CN CN201520984359.7U patent/CN205156598U/zh active Active
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Legal Events
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |