CN205135002U - 洁净室系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统、回风系统和一洁净空间;架构空间和洁净空间之间设有天花板;所述回风系统在天花板上方的架构空间内设有至少1个回风隔间,回风隔间内设有至少1个干盘管;所述天花板上设有第二回风口,且在该第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间;所述天花板回风隔间与回风隔间连通;所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方。本实用新型通过在设备(高发热机台)的上方设置第二回风口和天花板回风隔间,由高发热机台所散发的热空气会因为热空气上升原理直接被摄入至天花板回风隔间内,最后通入回风系统一起进行降温处理,避免了高发热机台干扰低发热机台的潜在风险。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种洁净室系统,具体涉及一种用于高温发热设备的洁净室系统,特别是机台经常会有摆放位置更动频繁的生产场合。
背景技术
洁净室是一个提供无尘环境的生产场所,伴随高新技术产业的发展,目前已经得到了广泛应用,而消费产品的快速进步与市场更替,更造成生产机台摆设更动频繁。
现有技术中,洁净室系统的设计可以通过有无高架地板分成2种,一种是具有高架地板的,其主要包括新风输送系统、排气系统和一洁净空间,所述洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板,洁净空间和循环空间之间设有高架地板。还有一种是不具有高架地板的,其洁净空间从上到下就包括架构空间1和洁净空间2,架构空间和洁净空间之间设有天花板3,而洁净空间的底部则没有高架地板和循环空间,而直接是地面(如水泥地板);针对这种不具有高架地板的洁净空间,一般是在洁净空间内设置多个回风道结构,回风道4设于地面和天花板之间,其顶部与架构空间连通,其底部侧面则设有回风口5,回风口内一般还设有回风百叶;参见附图1所示,洁净空气从架构空间的FFU往下吹,再由回风口进入回风道,最终由回风道循环至架构空间,从而形成了气流循环。但不论是有高架地板或是没有高架地板,都是借用该气流循环回到天花板上方空间的回风隔间,透过干盘管,形成车间内的温度控制。
然而,实际应用中发现,放置于洁净空间中的设备中,有一些设备(亦称为高发热机台)会产生较高的热量,而有一些设备(亦称为低发热机台)则不会,因此由高发热机台所散发的热空气会因为洁净室的气流循环而经过其它低发热机台才回到回风口,最终被干盘管冷却后再被FFU吸入送入洁净空间内,显然,这种方式存在如下问题:(1)存在高发热机台干扰低发热机台的潜在风险;(2)会造成洁净空间内温度的不均匀。而若针对高发热机台特别设计专用回风系统,却又因为产线更替频繁而失去弹性,增大了厂房维护的负荷。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种洁净室系统。
为达到上述发明目的,本实用新型采用的技术方案是:一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统、回风系统和一洁净空间;
所述洁净空间从上到下包括架构空间和洁净空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板;所述回风系统在天花板上方的架构空间内设有至少1个回风隔间,回风隔间内设有至少1个干盘管;
所述天花板上设有第二回风口,且在该第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间;
所述天花板回风隔间与回风隔间连通;
所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方。
上文中,所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方;这里的设备是指会产生较高的热量的设备(即高发热机台),这样便可把热空气直接摄入至天花板回风隔间内,最后通入回风系统一起进行降温处理,从而降低了回风系统的负荷;同时,由于第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方,因此由设备产生的热空气会自动上升,再由第二回风口摄入至天花板回风隔间内。
优选的,所述洁净空间从上到下包括架构空间和洁净空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板,洁净空间的底部为地面;
所述洁净空间内设置多个回风道结构,回风道设于地面和天花板之间,其顶部与架构空间连通,其底部侧面则设有回风口;
所述天花板上设有第二回风口;所述第二回风口分成至少2组,每组包括至少1个第二回风口;
其中一组第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方,且在该第二回风口上围设有回风罩,构成所述天花板回风隔间;其中另一组第二回风口设于所述回风道旁边,且在第二回风口和回风道上围设有回风罩,构成回风隔间,且隔间内设有干盘管;
所述天花板回风隔间和回风隔间连通。
上述结构是针对背景技术中所述的无高架地板的洁净室结构。即所述洁净空间从上到下包括架构空间和洁净空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板,洁净空间的底部为地面,即洁净空间的底部没有高架地板和循环空间,而直接是地面(如水泥地板或混凝土板)。所述洁净空间内设置多个回风道结构,以形成洁净空间内的气流循环,这属于现有技术。进一步的,所述回风柱内还可以设有风机。
上述技术方案中,所述回风口的高度小于等于20cm。
优选的,所述回风口的高度为8~15cm。
优选的,所述回风口处的回风量占总回风量的比例小于等于15%。
上述技术方案中,所述洁净空间内具有立柱,立柱的四周设有隔板,使立柱和隔板之间形成所述回风道结构。
上述技术方案中,相邻立柱之间设有所述第二回风口。
优选的,所述洁净空间从上到下包括架构空间、洁净空间和循环空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板,洁净空间和循环空间之间设有高架地板;洁净空间的侧边上设有回风通道;回风通道内设有回风隔间;
所述天花板回风隔间与所述回风通道连通。
上述结构是针对具有高架地板和回风通道的洁净室结构。
优选的,所述洁净空间从上到下包括架构空间和洁净空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板;
所述天花板上设有回风口和所述第二回风口;
回风口上围设有回风罩,构成第二天花板回风隔间,且隔间内设有干盘管;
第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间;
所述天花板回风隔间和第二天花板回风隔间连通。
上述结构是针对天花板回风的洁净室结构。
优选的,所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的正上方。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
1、本实用新型设计得到了一种洁净室系统,通过在设备(高发热机台)的上方设置第二回风口和天花板回风隔间,由高发热机台所散发的热空气会因为热空气上升原理直接被摄入至天花板回风隔间内,最后通入回风系统一起进行降温处理,从而不仅降低了回风系统的负荷,而且还可以避免高发热机台干扰低发热机台的潜在风险;
2、本实用新型将第二回风口的位置设于会产生较高的热量的设备的上方,把热空气直接摄入至第二回风口内进行降温处理,由于第二回风口极易重新设置,因此可以随意调整第二回风口的位置,即机台亦可随意调整位置,从而大大方便了机台根据实际情况摆放及后续的位置调整,取得了积极的现实意义;
3、针对背景技术中所述的无高架地板的洁净室结构,本实用新型在天花板上设置了第二回风口,该第二回风口的作用主要是吸收洁净空间中重量较小的颗粒灰尘,再由FFU进行过滤;而此时的回风道的回风口则主要吸收洁净空间中重量较大的颗粒灰尘,再通过回风道最终进入FFU进行过滤;这种结构可以使洁净空间中的颗粒灰尘等杂质形成大小分流,这便同时达到了降低扬尘现象、减少回风道的占用面积、以及满足和提高洁净度的目的,显然具有积极的现实意义;
4、本实用新型的结构简单,易于制备,适于推广应用。
附图说明
图1是背景技术中的洁净室系统的局部俯视图。
图2是图1中AA剖视图。
图3是本实用新型实施例一的局部俯视图。
图4是图3中BB剖视图。
图5是图3中CC剖视图。
图6是本实用新型实施例一的又一局部俯视图。
图7是本实用新型实施例一的局部剖视图。
图8是本实用新型实施例二的局部剖视图。
其中:1、架构空间;2、洁净空间;3、天花板;4、回风道;5、回风口;6、设备;7、第二回风口;8、立柱;9、隔板;10、干盘管;11、回风罩;12、天花板回风隔间;13、循环空间;14、高架地板;15、回风通道;16、回风隔间。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
实施例一
参见图3~7所示,一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统和一洁净空间;
所述洁净空间从上到下包括架构空间1和洁净空间2,架构空间和洁净空间之间设有天花板3,洁净空间的底部为地面;
所述洁净空间内设置多个回风道结构,回风道4设于地面和天花板之间,其顶部与架构空间连通,其底部侧面则设有回风口5;
所述回风口的高度为20cm;
所述天花板上设有第二回风口7;所述第二回风口的数量较多,分布于天花板上各处;
其中一组(包括1个第二回风口)的第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方,且在该第二回风口上围设有回风罩11,构成天花板回风隔间12;参见图6、7所示;其中另一组(包括2个第二回风口)设于所述回风道旁边,且在第二回风口和回风道上围设有回风罩,构成回风隔间16,且隔间内设有干盘管;
所述天花板回风隔间和回风隔间连通。
上述技术方案中,所述回风口处的回风量占总回风量的比例为12%。
所述回风道底部侧面的回风口处设有回风百叶。所述天花板上的第二回风口处设有回风百叶。
所述洁净空间内具有立柱8,立柱的四周设有隔板9,使立柱和隔板之间形成所述回风道结构。参见图3所示。相邻立柱之间设有所述第二回风口7。即在原本是设置回风道结构的相邻立柱之间的位置上变成第二回风口。
上文中,所述洁净空间从上到下包括架构空间和洁净空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板,洁净空间的底部为地面,即洁净空间的底部没有高架地板和循环空间,而直接是地面(如水泥地板或混凝土板)。
本实用新型的创造性主要在于3个方面:(1)大大降低了回风口的高度,20cm的高度与现有设备(一般一米左右)是相差很大的,参见图5所示,这便不会造成离回风口近的底部气体饶过设备进入回风口而形成扬尘现象,从而大大提高了产品良率。(2)在天花板上设置了第二回风口,该第二回风口的作用主要是吸收洁净空间中重量较小的颗粒灰尘,再由FFU进行过滤;而此时的回风道的回风口则主要吸收洁净空间中重量较大的颗粒灰尘,再通过回风道最终进入FFU进行过滤;这种结构可以使洁净空间中的颗粒灰尘等杂质形成大小分流,即:大的、重的颗粒由回风道的回风口吸收,而小的、轻的颗粒则由第二回风口吸收;参见图4、5所示。这便同时达到了降低扬尘现象、减少回风道的占用面积、以及满足和提高洁净度的目的,显然具有积极的现实意义。(3)将第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方,且在该第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间,这样便可把热空气直接摄入至天花板回风隔间内,最后通入回风隔间一起进行降温处理,从而降低了回风系统的负荷。参见图7所示。
对比例一
参见图1~2所示,一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统和一洁净空间;
所述洁净空间从上到下包括架构空间1和洁净空间2,架构空间和洁净空间之间设有天花板3,洁净空间的底部为地面;
所述洁净空间内设置多个回风道结构,回风道4设于地面和天花板之间,其顶部与架构空间连通,其底部侧面则设有回风口5;
所述回风口的高度为1.2米。
为了合理安排空间,一般将相邻2个立柱联合包裹起来,形成回风道结构,参见图1所示。所述回风道结构占洁净空间底部地面的面积比为10%。
为了尽量降低回风道的数量,以及尽量提高洁净室系统的排尘能力,将回风道上的回风口的高度设计成1.2m。
上述实施例和对比例能够达到相同的洁净度等级,但实际检测证明:在实施例的洁净室系统中制造产品的良品率为99.9%左右,而对比例的良品率为99.5%左右。说明本实用新型的洁净室系统不会形成扬尘现象,从而大大提高了产品良率。
此外,本实用新型的系统还大大降低了回风系统的负荷,节约了系统的能量消耗。
实施例二
参见图8所示,一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统、回风系统和一洁净空间;
所述洁净空间从上到下包括架构空间1、洁净空间2和循环空间13,架构空间和洁净空间之间设有天花板3,洁净空间和循环空间之间设有高架地板14;洁净空间的侧边上设有回风通道15;回风通道内设有回风隔间16;
所述天花板上设有第二回风口,且在该第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间12;
所述天花板回风隔间与所述回风通道连通;参见图8所示;
所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的正上方。
上述结构是针对具有高架地板和回风通道的洁净室结构。
实施例三
一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统和一洁净空间;
所述洁净空间从上到下包括架构空间和洁净空间,架构空间和洁净空间之间设有天花板;
所述天花板上设有回风口和所述第二回风口;
回风口上围设有回风罩,构成第二天花板回风隔间,且隔间内设有干盘管;
第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间;
所述天花板回风隔间和第二天花板回风隔间连通。
上述结构是针对天花板回风的洁净室结构。
Claims (10)
1.一种洁净室系统,包括新风输送系统、排气系统、回风系统和一洁净空间;
所述洁净空间从上到下包括架构空间(1)和洁净空间(2),架构空间和洁净空间之间设有天花板(3);
所述回风系统在天花板上方的架构空间内设有至少1个回风隔间(16),回风隔间内设有至少1个干盘管(10);其特征在于:
所述天花板上设有第二回风口(7),且在该第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间(12);
所述天花板回风隔间与所述回风隔间连通;
所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方。
2.根据权利要求1所述的洁净室系统,其特征在于:所述洁净空间从上到下包括架构空间(1)和洁净空间(2),架构空间和洁净空间之间设有天花板(3),洁净空间的底部为地面;
所述洁净空间内设置多个回风道结构,回风道(4)设于地面和天花板之间,其顶部与架构空间连通,其底部侧面则设有回风口(5);
所述天花板上设有第二回风口(7);所述第二回风口分成至少2组,每组包括至少1个第二回风口,
其中一组第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的上方,且在该第二回风口上围设有回风罩,构成所述天花板回风隔间(12);其中另一组第二回风口设于所述回风道旁边,且在第二回风口和回风道上围设有回风罩(11),构成所述回风隔间,且隔间内设有干盘管;
所述天花板回风隔间和回风隔间连通。
3.根据权利要求2所述的洁净室系统,其特征在于:所述回风口的高度小于等于20cm。
4.根据权利要求3所述的洁净室系统,其特征在于:所述回风口的高度为8~15cm。
5.根据权利要求2所述的洁净室系统,其特征在于:所述回风口处的回风量占总回风量的比例小于等于15%。
6.根据权利要求2所述的洁净室系统,其特征在于:所述洁净空间内具有立柱(8),立柱的四周设有隔板(9),使立柱和隔板之间形成所述回风道结构。
7.根据权利要求6所述的洁净室系统,其特征在于:相邻立柱之间设有所述第二回风口。
8.根据权利要求1所述的洁净室系统,其特征在于:所述洁净空间从上到下包括架构空间(1)、洁净空间(2)和循环空间(13),架构空间和洁净空间之间设有天花板(3),洁净空间和循环空间之间设有高架地板(14);洁净空间的侧边上设有回风通道(15);回风通道内设有回风隔间(16);
所述天花板回风隔间与所述回风通道连通。
9.根据权利要求1所述的洁净室系统,其特征在于:所述洁净空间从上到下包括架构空间(1)和洁净空间(2),架构空间和洁净空间之间设有天花板(3);
所述天花板上设有回风口和所述第二回风口;
回风口上围设有回风罩,构成第二天花板回风隔间,且隔间内设有干盘管;
第二回风口上围设有回风罩,构成天花板回风隔间;
所述天花板回风隔间和第二天花板回风隔间连通。
10.根据权利要求1所述的洁净室系统,其特征在于:所述第二回风口的位置位于放置于洁净空间中的设备的正上方。
Priority Applications (1)
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CN201520938982.9U CN205135002U (zh) | 2015-11-23 | 2015-11-23 | 洁净室系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201520938982.9U CN205135002U (zh) | 2015-11-23 | 2015-11-23 | 洁净室系统 |
Publications (1)
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CN205135002U true CN205135002U (zh) | 2016-04-06 |
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CN201520938982.9U Active CN205135002U (zh) | 2015-11-23 | 2015-11-23 | 洁净室系统 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN205135002U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106288059A (zh) * | 2016-08-05 | 2017-01-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 厂房通风除尘系统 |
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2015
- 2015-11-23 CN CN201520938982.9U patent/CN205135002U/zh active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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