CN205122710U - 涂膜错位处理系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种涂膜错位处理系统。该涂膜错位处理系统,包括:第一传感器、第二传感器以及涂膜错位处理装置,其中,涂膜错位处理装置分别与第一传感器和第二传感器电连接;涂膜错位处理装置,用于从第一传感器中获取第一传感器检测的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,从第二传感器中获取第二传感器检测的集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离;并判断是否相等;当不相等时,调整集流体正面涂膜或者集流体反面涂膜,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离。本实用新型的涂膜错位处理系统提高涂膜错位的处理精度,同时又不会破坏极片,提高了锂离子电池的制造效率,降低了制造成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及锂离子电池技术领域,尤其涉及一种涂膜错位处理系统。
背景技术
随着锂离子电池技术的不断突破与发展,传统的卷绕式电池形状固定已经无法满足在某些特殊形状空间内使用,叠片电池因其具有外观整洁、不易变形、能量密度高、可制作成任意形状等优点,逐渐受到青睐,尤其是在某些特殊形状的空间内,通过叠片技术来将电池做成异形来满足需求。
叠片电池的内部通常分为正极极片、隔离膜和负极极片等,正极极片和负极极片的集流体表面均涂有活性物质膜,用于在充放电过程中发生化学反应。在生产极片过程中,每一片极片的集流体的正、反两面均涂有活性物质膜,集流体正面活性物质涂膜边缘到集流体边缘之间的距离、与集流体反面活性物质涂膜边缘到集流体边缘之间的距离的差值为涂膜错位值,根据涂膜错位值可以对正面活性物质涂膜边缘和/或反面活性物质涂膜边缘进行调整,使得涂膜错位值为零,以提高叠片电池的质量。
现有技术中,检测涂膜错位值通常需要将涂膜机停止,由操作人员使用针状物从极片反面活性物质涂层边缘刺穿极片,再使用软尺或直尺从极片正面测量针孔与极片正面活性物质涂膜边缘的距离,判断集流体表面的活性物质涂膜边缘是否需要纠正,进而手动调整极片正面活性物质涂膜位置。
实用新型内容
本实用新型提供一种涂膜错位处理系统,以解决现有技术中检测涂膜错位时需要将机器关闭,通过穿刺极片的形式人工测量涂膜错位值,进而手动调整极片正面活性物质涂膜位置,容易造成测量值误差大及破坏极片的问题。
本实用新型提供一种涂膜错位处理系统,包括:第一传感器、第二传感器以及涂膜错位处理装置,其中,所述第一传感器用于检测极片中的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,所述第二传感器用于检测集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离;所述涂膜错位处理装置分别与所述第一传感器和所述第二传感器电连接;所述涂膜错位处理装置,用于从所述第一传感器中获取所述第一传感器检测的所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离,从所述第二传感器中获取所述第二传感器检测的所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离;并判断所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离与所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离是否相等;当不相等时,调整所述集流体正面涂膜或者所述集流体反面涂膜,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。
进一步地,上述涂膜错位处理系统中,所述涂膜错位处理装置包括:
获取模块,分别与所述第一传感器和所述第二传感器连接,用于从所述第一传感器获取所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离,并从所述第二传感器获取所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离;
判断模块,与所述获取模块连接,用于判断所述获取模块获取的所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离,与所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离是否相等;
执行模块,与所述判断模块连接,所述执行模块用于当所述判断模块确定所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离与所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离不相等时,调整所述集流体正面涂膜或者所述集流体反面涂膜,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。
进一步地,上述涂膜错位处理系统中,所述判断模块,包括:
计算单元,与所述获取模块连接,用于根据所述获取模块获取的所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离与所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离,计算涂膜错位值;所述涂膜错位值等于所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离减去所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离的值;
确定单元,与所述计算单元连接,用于确定所述计算单元计算的所述涂膜错位值是否为零;
进一步地,所述执行模块,与所述确定单元连接,所述执行模块用于当所述确定单元确定所述涂膜错位值不为零时,根据所述涂膜错位值,调整所述集流体正面涂膜或者所述集流体反面涂膜,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。
进一步地,上述涂膜错位处理系统中,所述执行模块,具体用于当所述确定单元确定所述涂膜错位值大于零时,调整所述集流体正面涂膜向靠近所述集流体边缘的方向移动,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。
进一步地,上述涂膜错位处理系统中,所述执行模块,具体用于当所述确定单元确定所述涂膜错位值大于零时,调整所述集流体反面涂膜向远离所述集流体边缘的方向移动,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。
进一步地,上述涂膜错位处理系统中所述执行模块,具体用于当所述确定单元确定所述涂膜错位值小于零时,调整所述集流体正面涂膜向远离所述集流体边缘的方向移动,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。
进一步地,上述涂膜错位处理系统中,所述执行模块,具体用于当所述确定单元确定所述涂膜错位值小于零时,调整所述集流体反面涂膜向靠近所述集流体边缘的方向移动,使得所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离接近所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离。进一步地,上述涂膜错位处理系统中,所述第一传感器和所述第二传感器分别采用电荷耦合元件图像传感器。
本实用新型涂膜错位处理系统,通过第一传感器检测极片中的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,第二传感器检测集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,且第一传感器和第二传感器分别与涂膜错位处理装置电连接,并且通过涂膜处理装置获取第一传感器与第二传感器的数据,调整集流体正面涂膜或者集流体反面涂膜的位置,解决了现有技术中,检测涂膜错位时需要将机器关闭,通过穿刺极片的形式人工测量涂膜错位值,进而手动调整极片正面活性物质涂膜位置,容易造成测量值误差大及破坏极片的问题,实现自动计算涂膜错位值,并在涂膜错位值不为零时,根据涂膜错位值调整集流体正面涂膜或集流体反面涂膜,使得涂膜错位值为零,提高涂膜错位的处理精度,同时又不会破坏极片,提高了锂离子电池的制造效率,降低了制造成本。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型涂膜错位处理系统实施例一的结构示意图;
图2为本实用新型涂膜错位处理系统实施例二的结构示意图;
图3为本实用新型涂膜错位处理系统实施例三的结构示意图;
图4为本实用新型涂膜错位处理系统实施例的使用场景图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
图1为本实用新型涂膜错位处理系统实施例一的结构示意图,如图1所示,本实施例的涂膜错位处理系统可以包括:第一传感器11、第二传感器12以及涂膜错位处理装置13;其中,第一传感器11与涂膜错位处理装置13电连接,该第一传感器11用于检测极片中的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离;第二传感器12与涂膜错位处理装置13电连接,该第二传感器12用于检测集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离。
具体地,涂膜错位处理装置13用于从第一传感器11中获取第一传感器11检测的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,从第二传感器12中获取第二传感器12检测的集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离;并判断集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离是否相等;当不相等时,调整集流体正面涂膜或者集流体反面涂膜,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离。
本实施例的涂膜错位处理系统,通过第一传感器11和第二传感器12分别与涂膜错位处理装置13电连接,其中,第一传感器11用于检测极片中的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,第二传感器12用于检测集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,解决了现有技术中,检测涂膜错位时需要将机器关闭,通过穿刺极片的形式人工测量涂膜错位值,进而手动调整极片正面活性物质涂膜位置,容易造成测量值误差大及破坏极片的问题,实现自动计算涂膜错位值,并在涂膜错位值不为零时,根据涂膜错位值调整集流体正面涂膜或集流体反面涂膜,使得涂膜错位值为零,提高涂膜错位的处理精度,同时又不会破坏极片,提高了锂离子电池的制造效率,降低了制造成本。
图2为本实用新型涂膜错位处理系统实施例二的结构示意图,如图2所示,本实施例在上述图1所示的涂膜错位处理系统的技术方案的基础上,进一步更加详细地介绍本实用新型的技术方案。如图2所示,本实施例的涂膜错位处理系统中的涂膜错位处理装置13具体可以包括:获取模块131、判断模块132和执行模块133;其中,获取模块131分别与第一传感器11和第二传感器12连接,该获取模块131用于从第一传感器11获取集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,并从第二传感器12获取集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离;判断模块132与获取模块131连接,该判断模块132用于判断,获取模块131获取的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,是否相等;执行模块133与判断模块132连接,该执行模块133用于当判断模块132得到的结果为集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离不相等时,调整集流体正面涂膜或者集流体反面涂膜,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离等于集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离为本实施例的最佳效果。
本实施例的涂膜错位处理系统,通过获取模块131从第一传感器11获取集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离并从第二传感器12获取集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,判断模块132判断获取模块131获取到的数据是否相等,执行模块133用于根据判断模块132的结果执行相应的操作,解决了现有技术中,检测涂膜错位时需要将机器关闭,通过穿刺极片的形式人工测量涂膜错位值,进而手动调整极片正面活性物质涂膜位置,容易造成测量值误差大及破坏极片的问题,实现自动计算涂膜错位值,并在涂膜错位值不为零时,根据涂膜错位值调整集流体正面涂膜或集流体反面涂膜,使得涂膜错位值为零,提高涂膜错位的处理精度,同时又不会破坏极片,提高了锂离子电池的制造效率,降低了制造成本。
图3为本实用新型涂膜错位处理系统实施例三的结构示意图,如图3所示,本实施例在上述图2所示的涂膜错位处理系统的技术方案的基础上,进一步更加详细地介绍本实用新型的技术方案。如图3所示,本实施例的涂膜错位处理系统中的涂膜错位处理装置13中的判断模块132具体可以包括:计算单元1321与确定单元1322;其中计算单元1321与获取模块131连接,该计算单元1321用于根据获取模块131获取的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,计算涂膜错位值,涂膜错位值等于集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离减去集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离的值;确定单元1322与计算单元1321连接,该确定单元1322用于确定计算单元1321计算的涂膜错位值是否为零。进一步地,执行模块133与确定单元1322连接,该执行模块133用于当确定单元1322确定涂膜错位值不为零时,根据涂膜错位值,调整集流体正面涂膜或者集流体反面涂膜,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离。
具体地,本实施例中的执行模块133具体用于当确定单元1322确定涂膜错位值大于零时,调整集流体正面涂膜向靠近集流体边缘的方向移动,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,或者当涂膜错位值小于零时,调整集流体反面涂膜向远离集流体边缘的方向移动,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离等于集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离为最佳效果;或者执行模块133还用于当确定单元1322确定涂膜错位值小于零时,调整集流体正面涂膜向远离集流体边缘的方向移动,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,或者当涂膜错位值大于零时,调整集流体反面涂膜向靠近集流体边缘的方向移动,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离等于集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离为最佳效果。
本实施例的涂膜错位处理系统在上述实施例的基础上对判断模块132进行更加详细地说明,判断模块132包括计算单元1321与确定单元1322,其中计算单元1321用于计算涂膜错位值,确定单元1322用于确定涂膜错位值是否为零,解决了现有技术中,检测涂膜错位时需要将机器关闭,通过穿刺极片的形式人工测量涂膜错位值,进而手动调整极片正面活性物质涂膜位置,容易造成测量值误差大及破坏极片的问题,实现自动计算涂膜错位值,并在涂膜错位值不为零时,根据涂膜错位值调整集流体正面涂膜或集流体反面涂膜,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近于集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,提高涂膜错位的处理精度,同时又不会破坏极片,提高了锂离子电池的制造效率,降低了制造成本。
图4为本实用新型涂膜错位处理系统实施例的使用场景图,如图4所示,涂膜错位处理系统具体可以包括:第一电荷耦合元件(ChargeCoupledDevice;CCD)图像传感器11、第二CCD图像传感器11’、涂膜头12、第一纠偏平台13、电机A、第二纠偏平台14、电机B以及控制装置15;其中,涂膜头12与第一纠偏平台13机械连接固定。集流体的卷料与支架滚动连接,支架与第二纠偏平台14机械连接固定。本实施例中的第一纠偏平台13和第二纠偏平台14分别用于执行上述图2或者图3所示实施例的涂膜错位处理装置中的执行模块133的功能,具体地,该控制装置15还分别与第一纠偏平台13和第二纠偏平台14电连接,在涂膜错位值不为零时,控制装置15控制第一纠偏平台13和第二纠偏平台14调整集流体正面涂膜或集流体反面涂膜,使得集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离接近于集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离。
第一CCD图像传感器11与第二CCD图像传感器11’分别通过信号线与控制装置15电连接,控制装置15用于从第一CCD图像传感器11与第二CCD图像传感器11’分别获取集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,并根据第一CCD图像传感器11检测到的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离,与第二CCD传感器11’检测到的集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离,计算涂膜错位值,然后判断涂膜错位值是否为零。电机A、电机B分别通过信号线与控制装置15电连接。控制装置15用于执行上述图2或者图3所示实施例的涂膜错位处理装置中的获取模块131和判断模块132的功能,第一CCD图像传感器11与第二CCD图像传感器11’以机械连接方式固定在涂膜机底座或其支架上,并且在极片上方、下方各一个。
本实施例的涂膜错位处理系统使用方法一:当第一CCD图像传感器11检测到极片中的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与第二CCD图像传感器11’检测到集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离后,由控制装置15计算出极片的涂膜错位值△W。如果△W大于0,说明需要将极片正面涂膜往靠近集流体边缘的方向移动,以减小涂膜错位值△W。当△W大于0时,控制装置15通过信息线反馈信息给电机A,电机A顺时针方向转动,带动第一纠偏平台13向靠近集流体边缘的方向移动,涂膜头12也同步往靠近集流体边缘的方向移动。在这种情况下,从涂膜头12挤出的浆料,在形成极片正面涂膜时,在集流体的相位位置就会往靠近集流体边缘的方向移动,而从实现降低涂膜错位值△W。同理,当涂膜错位值△W小于0时,涂膜头12也同步往远离集流体边缘的方向移动,其实现原理同△W大于0时相同,此处不再赘述。
本实施例的涂膜错位处理系统使用方法二:当第一CCD图像传感器11检测到极片中的集流体正面涂膜边缘到集流体边缘的距离与第二CCD图像传感器11’检测到集流体反面涂膜边缘到集流体边缘的距离后,由控制装置15计算出极片的涂膜错位值△W。如果△W大于0,说明需要将集流体往靠近集流体正面涂膜边缘的方向移动,以减小涂膜错位值△W,控制装置15通过信息线反馈信息给放卷装置的电机B,电机B逆时针方向转动,带动第二纠偏平台14往靠近集流体正面涂膜边缘的方向移动,所以当第二纠偏平台14往靠近集流体正面涂膜边缘的方向移动时,集流体也同步往靠近集流体正面涂膜边缘的方向移动。这种情况下,涂膜头12的绝对位置不变,从涂膜头12挤出的极片正面涂膜的绝对位置也不变。而集流体与涂膜头12的相对位置往靠近集流体正面涂膜边缘的方向移动,在形成极片正面涂膜时,集流体及极片反面涂膜会往靠近集流体正面涂膜边缘的方向移动。从而实现降低涂膜错位值△W。同理,如果△W小于0,集流体及极片反面涂膜会往远离集流体正面涂膜边缘的方向移动,其实现原理同△W大于0时相同,此处不再赘述。
需要说明的是,本实用新型中的第一传感器和第二传感器分别采用电荷耦合元件图像传感器来完成相应的操作。
以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,其中作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到至少两个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。本领域普通技术人员在不付出创造性的劳动的情况下,即可以理解并实施。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。
Claims (7)
1.一种涂膜错位处理系统,其特征在于,包括:第一传感器、第二传感器以及涂膜错位处理装置;
所述第一传感器经由与所述涂膜错位处理装置之间的连接,将检测的集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离发送给所述涂膜错位处理装置;
所述第二传感器经由与所述涂膜错位处理装置之间的连接,将检测的所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离发送给所述涂膜错位处理装置;
所述涂膜错位处理装置根据所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离与所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离,调整所述集流体正面涂膜或者所述集流体反面涂膜。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述涂膜错位处理装置,具体包括:
获取模块,分别与所述第一传感器和所述第二传感器连接,将从所述第一传感器获取的所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离发送给判断模块,将从所述第二传感器获取的所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离发送给判断模块;
判断模块,与所述获取模块连接,向执行模块发送所述集流体正面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离与所述集流体反面涂膜边缘到所述集流体边缘的距离是否相等的判断结果;
执行模块,与所述判断模块连接,根据所述判断结果调整所述集流体正面涂膜或者所述集流体反面涂膜。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述执行模块调整所述集流体正面涂膜向靠近所述集流体边缘的方向移动。
4.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述执行模块调整所述集流体反面涂膜向远离所述集流体边缘的方向移动。
5.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述执行模块调整所述集流体正面涂膜向远离所述集流体边缘的方向移动。
6.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述执行模块调整所述集流体反面涂膜向靠近所述集流体边缘的方向移动。
7.根据权利要求1-6中任一所述的系统,其特征在于,所述第一传感器和所述第二传感器分别采用电荷耦合元件图像传感器。
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2015
- 2015-08-21 CN CN201520635953.5U patent/CN205122710U/zh active Active
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |