CN205092271U - 一种oled结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种OLED结构，包括基板玻璃(1)和封装玻璃(2)，所述基板玻璃(1)上间隔地设有pillar柱(3)，所述pillar柱(3)之间的基板玻璃(1)上设有ITO阳极层(4)和有机层(5)，在基板玻璃(1)的pillar柱(3)和有机层(5)上设有一层连续的金属阴极薄膜层(6)，所述封装玻璃(2)内侧面上设有ITO辅助阴极层(7)，本实用新型所述的OLED结构，在ITO辅助阴极层上、与基板玻璃上pillar柱对应的区域设弹性导电支撑柱，使基板玻璃上金属阴极薄膜层通过弹性导电支撑柱与封装玻璃上的ITO辅助阴极层连接导通，可以降低ITO辅助阴极层的厚度，保证透光率。

Description

一种OLED结构

技术领域

本实用新型属于有机发光二极管制造技术领域，涉及一种OLED结构。

背景技术

目前OLED器件有两种光出射方式：底发光和顶发光。顶发光OLED相对于底发光OLED器件有更好的分辨率和色彩饱和度，并且发光效率高、色域广、寿命长。但是，顶发光制作工艺也相对较难。

对于顶发光OLED器件而言，阴极对其性能有着至关重要的影响，而透光性和导电性则是阴极所必须考虑的重要因素。通常，用于阴极的材料(如Mg、Ag、Al等)只有在厚度非常薄的情况下才具有很好的透光性，然而，当阴极层很薄时，阴极的表面电阻会随膜厚降低而增大，导致AMOLED显示出现亮度不均匀的问题。因此，薄膜金属电极厚度决定了器件的透过率和表面电阻，顶发光AMOLED的阴极需要同时考虑透光性和导电性的问题。

在OLED器件中封装后盖板玻璃由于微量的凸起或凹陷，产生牛顿环现象，导致色差产生；

在器件受到外力的挤压或冲击时容易导致器件膜层结构损坏，产生不良。

实用新型内容

实用新型目的：本实用新型的目的是为了解决以上现有OLED器件在很薄的情况下电阻值高的不足，提供一种OLED结构。

技术方案：本实用新型所述的一种OLED结构，其目的是这样实现的，

一种OLED结构，包括基板玻璃和封装玻璃，所述基板玻璃上间隔地设有pillar柱，所述pillar柱之间的基板玻璃上设有ITO阳极层和有机层，在基板玻璃的pillar柱和有机层上设有一层连续的金属阴极薄膜层，所述封装玻璃内侧面上设有ITO辅助阴极层，其特征在于，所述ITO辅助阴极层上、与基板玻璃上pillar柱对应的区域设有弹性导电支撑柱，使封装玻璃上的ITO辅助阴极层通过弹性导电支撑柱与基板玻璃上金属阴极薄膜层连接导通。

所述弹性导电支撑柱为点状或条状，均匀分布于封装玻璃的ITO辅助阴极层上。

所述弹性导电支撑柱的材质为导电硅胶或掺杂金属微粒的UV胶、光刻胶等。

一般的OLED结构上，ITO辅助阴极层的厚度为100-300nm，在300nm及以上时，其透光率很低，而在100nm及以下时，其电阻率增加，导电性能差。本实用新型由于增加了弹性导电支撑柱，所述ITO辅助阴极层的厚度可以达到30nm，既保证了透光率，也不会影响导电性。

由于金属阴极薄膜层、ITO辅助阴极层和弹性导电支撑柱三者并联的关系，由并联电阻的特征可知：三者的总电阻阻值比任何一个单一电阻的阻值都小，ITO辅助阴极层、弹性导电支撑柱、金属阴极薄膜层的整体电阻较金属阴极薄膜层或ITO辅助阴极层的电阻均要小，在导电性能一致的情况下，ITO辅助阴极层可以做的更薄。

有益效果：本实用新型所述的OLED结构，在ITO辅助阴极层上、与基板玻璃上pillar柱对应的区域设弹性导电支撑柱，使基板玻璃上金属阴极薄膜层通过弹性导电支撑柱与封装玻璃上的ITO辅助阴极层连接导通，可以降低ITO辅助阴极层的厚度，保证透光率；由于基板玻璃和封装玻璃中间夹着弹性导电支撑柱，防止因封装后产生的微量凸起或凹陷而导致的牛顿环现象；并且OLED器件整体的抗外力冲击或挤压能力提高。

附图说明

图1是本实用新型的剖面结构示意图；

图2是本实用新型中弹性导电支撑柱的位置原理图；

图3是本实用新型的制作工艺流程图。

具体实施方式

为了加深对本实用新型的理解，下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述，该实施例仅用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型保护范围的限定。

参见图1-2所示，一种OLED结构，包括基板玻璃1和封装玻璃2，所述基板玻璃1上间隔地设有pillar柱3，所述pillar柱3之间的基板玻璃1上设有ITO阳极层4和有机层5，在基板玻璃1的pillar柱3和有机层5上设有一层连续的金属阴极薄膜层6，所述封装玻璃2内侧面上设有ITO辅助阴极层7，所述ITO辅助阴极层7上、与基板玻璃1上pillar柱3对应的区域，即图2中的非像素区(图2中，A代表像素区)，设有弹性导电支撑柱8，使封装玻璃2上的ITO辅助阴极层7通过弹性导电支撑柱8与基板玻璃1上金属阴极薄膜层6连接导通。

所述弹性导电支撑柱8为点状或条状，均匀分布于封装玻璃2的ITO辅助阴极层7上。

所述弹性导电支撑柱8的材质为导电硅胶或掺杂金属微粒的UV胶、光刻胶等。

工艺步骤：

①在沉积有pillar柱3和ITO阳极层4的基板玻璃1上，在像素开口区用蒸镀的方式沉积有机层；

②再在基板玻璃1上蒸镀沉积金属阴极薄膜层6；

③在沉积有ITO辅助阴极层7的封装玻璃2上涂布导电硅胶，并经过光刻去胶后形成弹性导电支撑柱；

④将基板玻璃和封装玻璃进行压合封装，使基板玻璃1上金属阴极薄膜层6通过弹性导电支撑柱8与封装玻璃2上的ITO辅助阴极层7连接导通。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种OLED结构，包括基板玻璃(1)和封装玻璃(2)，所述基板玻璃(1)上间隔地设有pillar柱(3)，所述pillar柱(3)之间的基板玻璃(1)上设有ITO阳极层(4)和有机层(5)，在基板玻璃(1)的pillar柱(3)和有机层(5)上设有一层连续的金属阴极薄膜层(6)，所述封装玻璃(2)内侧面上设有ITO辅助阴极层(7)，其特征在于，所述ITO辅助阴极层(7)上、与基板玻璃(1)上pillar柱(3)对应的区域设有弹性导电支撑柱(8)，使封装玻璃(2)上的ITO辅助阴极层(7)通过弹性导电支撑柱(8)与基板玻璃(1)上金属阴极薄膜层(6)连接导通。

2.根据权利要求1所述的OLED结构，其特征在于，所述弹性导电支撑柱(8)为点状或条状，均匀分布于封装玻璃(2)的ITO辅助阴极层(7)上。

3.根据权利要求1所述的OLED结构，其特征在于，所述ITO辅助阴极层(7)的厚度为30-300nm。