CN205068329U

CN205068329U - 触摸窗

Info

Publication number: CN205068329U
Application number: CN201520464918.1U
Authority: CN
Inventors: 金润泰; 吴炯默; 李拳震; 金秀烘
Original assignee: LG Innotek Co Ltd
Current assignee: LG Innotek Co Ltd
Priority date: 2014-07-01
Filing date: 2015-07-01
Publication date: 2016-03-02
Anticipated expiration: 2025-07-01
Also published as: US20160004340A1; US9817497B2; EP2966553B1; EP2966553A1

Abstract

本实用新型公开了一种触摸窗。该触摸窗包括基板；以及基板上的电极部。感测电极包括形成有图案部的基底基板；以及图案部上的电极层，其中电极层的厚度在0.03μm至3μm的范围内。

Description

触摸窗

技术领域

本实施方案涉及触摸窗。

背景技术

近来，通过借助输入装置如触控笔或手来触摸显示在显示器上的图像以执行输入功能的触摸窗已经被应用于各种电子设备。

最广泛地用于触摸窗的透明电极的铟锡氧化物(ITO)价格昂贵。并且由于基板的弯曲或翘曲容易受到物理损坏，以使得用于电极的ITO的特性变差。因此，ITO不适于柔性装置。此外，当ITO被应用至大的触摸面板时，可能由于高电阻而出现问题。

为了解决这个问题，一直在积极进行对替代电极的探索和研究。例如，已经针对通过以网格形状形成电极材料来用电极材料替代ITO进行了研究。可以使用各种材料通过各种方案来形成具有网格形状的电极。

例如，可以通过使用金属糊料来形成具有网格形状的电极。然而，当形成具有窄线宽的电极时，金属糊料可能不能被充分填充，因此可能生成缺陷，从而使可靠性劣化。

因此，需要提供一种具有可以解决上述问题的具有新结构的触摸窗。

实用新型内容

本实施方案提供一种具有改进的可靠性的触摸窗。

根据一个实施方案，提供了一种触摸窗，该触摸窗包括基板；以及基板上的电极部，其中感测电极包括形成有图案部的基底基板；和图案部上的电极层，其中电极层的厚度在0.03μm至3μm的范围内。

方案1：本实用新型提供一种触摸窗，包括：

基板；以及

所述基板上的电极部，

其中所述电极部包括：

形成有图案部的基底基板；和

所述图案部上的电极层，及

其中所述电极层的厚度在0.03μm至3μm的范围内。

方案2：根据方案1所述的触摸窗，其中所述电极层具有网格形状。

方案3：根据方案1所述的触摸窗，其中所述电极层包括镀覆层。

方案4：根据方案1所述的触摸窗，其中所述基底基板包括与所述基板接触的底表面和与所述底表面相反的顶表面，以及

所述电极层的宽度从所述底表面至所述顶表面逐渐变大。

方案5：根据方案1所述的触摸窗，其中所述图案部包括第一表面、第二表面以及将所述第一表面和所述第二表面彼此相连接的第三表面，以及

所述电极层接触所述第一表面至所述第三表面中至少之一。

方案6：根据方案1所述的触摸窗，还包括所述电极层上的减反射层。

方案7：根据方案6所述的触摸窗，其中所述电极层的厚度不同于所述减反射层的厚度。

方案8：根据方案6所述的触摸窗，其中所述电极层的厚度大于所述减反射层的厚度。

方案9：根据方案6所述的触摸窗，其中所述电极层的厚度小于所述减反射层的厚度。

方案10：根据方案6所述的触摸窗，其中所述减反射层包括：

接触所述电极层的接触表面；及

暴露在外部的非接触表面，以及

其中所述接触表面的面积不同于所述非接触表面的面积。

方案11：根据方案10所述的触摸窗，其中所述接触表面的面积大于所述非接触表面的面积。

方案12：根据方案1所述的触摸窗，其中所述电极层的宽度在1μm至4μm的范围内。

方案13：根据方案1所述的触摸窗，其中所述电极部包括感测电极和线电极中至少之一。

方案14：根据方案1所述的触摸窗，其中所述电极部包括感测电极，

所述感测电极包括在相互不同的方向上延伸的第一感测电极和第二感测电极，以及

所述第一感测电极和所述第二感测电极布置在所述基板的一个表面和相反表面中至少之一上。

方案15：根据方案1所述的触摸窗，还包括所述基板上的盖基板。

方案16：本实用新型还提供一种触摸窗，包括：

基板；以及

所述基板上的电极部，

其中所述电极部包括：

形成有图案部的基底基板；和

所述图案部上的电极层，及

其中所述电极层包括金属层和在所述金属层上的金属氧化物层。

方案17：根据方案16所述的触摸窗，其中所述金属层和所述金属氧化物层彼此一体形成。

方案18：根据方案16所述的触摸窗，其中所述金属层的厚度大于所述金属氧化物层的厚度。

方案19：根据方案16所述的触摸窗，其中所述金属层和所述金属氧化物层包括彼此对应的金属元素。

方案20：根据方案16所述的触摸窗，其中所述金属氧化物层包括黑色、灰色及其混合色中至少之一。

根据本实施方案的触摸窗可以减小电极部的厚度。具体地，由于电极部，即，构成感测电极和线电极的电极层形成为镀覆层，所以即使电极部被设置为薄的厚度，仍可以保持电特性。因此，可以减小电极部的厚度，从而可以减小触摸窗的整体厚度。

此外，由于电极层形成为镀覆层，所以电极层可以以均匀的厚度被布置在图案部上并且布置在每个图案部上的电极层可以具有均匀的特性，从而可以改进触摸窗的可靠性。

此外，可以通过对电极层的一部分进行氧化来形成可以用作减反射层的氧化层。因此，在没有形成任何另外的减反射层的情况下，电极层本身可以执行减反射功能，从而可以改进触摸窗的可视性并且可以防止由于形成减反射层而导致的外观劣化。

附图说明

图1是示出根据本实施方案的触摸窗的平面图。

图2是沿图1中的线A-A’截取的截面图。

图3是沿图1中的线A-A’截取的另一截面图。

图4是沿图1中的线A-A’截取的又一截面图。

图5至图8是示出形成图2中的电极部的过程的图示。

图9至图12是示出形成图3中的电极部的过程的图示。

图13至图16是示出形成图4中的又一电极部的过程的图示。

图17至图19是示出耦接至根据实施方案的触摸窗和显示面板的触摸装置的图示。

图20至图23是示出应用根据实施方案的触摸窗的触摸装置的一个实例的图示。

具体实施方式

在本实施方案的以下描述中，应理解，当层(或膜)、区域、图案或结构被称为在另一基板、另一层(或膜)、另一区域、另一垫或另一图案“上”或“下”时，其可以“直接地”或“间接地”在另一基板、层(或膜)、区域、垫或图案上，或者还可以存在一个或更多个中间层。将参照附图描述层的这种位置。

在下面的描述中，当一部分连接至另一部分时，这些部分不仅可以彼此直接连接，而且可以当其间设置有另一部时彼此间接连接。此外，当预定部分“包括”预定部件时，除非另有说明，否则预定部分不排除其他部件，而是还可以包括其他部件。

为了方便或清楚的目的，可以将附图中所示的每层的厚度和尺寸放大、省略或示意性地绘制。此外，元件的尺寸不完全反映实际尺寸。

参照图1，根据实施方案的触摸窗可以包括基板100和基板100上的电极部200。

基板100可以是柔性或刚性的。

例如，基板100可以包括玻璃或塑料。具体地，基板100可以包括化学钢化/半钢化玻璃(如钠钙玻璃或铝硅酸盐玻璃)，增强/柔性塑料(如聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、(聚)丙二醇(PPG)或聚碳酸酯(PC))，或者蓝宝石。

此外，基板100可以包括光学各向同性膜。例如，基板100可以包括环烯烃共聚物(COC)、环烯烃聚合物(COP)、光学各向同性聚碳酸酯(PC)或光学各向同性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。

蓝宝石具有优异的电特性如介电常数，以使得可以大大提高触摸响应速度，并且可以容易地实现隔空触摸如悬停触摸。此外，由于蓝宝石具有高的表面硬度，所以蓝宝石可适用于盖基板。悬停指的是即使离开显示器少量距离也能识别坐标的技术。

此外，基板100可以被弯曲以具有局部曲形的表面。也就是说，基板100可以被弯曲以具有局部平坦的表面和局部曲形的表面。具体地，基板100的端部可以被弯曲以具有曲形的表面，或者基板100的端部可以被弯曲或折曲以具有包括随机曲率的表面。

此外，基板100可以包括具有柔性性质的柔性基板。

另外，基板100可以包括曲形的或弯曲的基板。也就是说，可以形成包括基板100的触摸窗以具有柔性、曲形或弯曲的性质。鉴于此，根据本实施方案的触摸窗可易于携带，并且可以在设计中进行各种变化。

基板可以包括盖基板。此外，盖基板可以附加地设置在基板上。基板100和盖基板可以当其间设置有粘合层时彼此粘合或者结合。因此，由于基板和盖基板可以分别形成，所以有利于大规模生产触摸窗。

基板100可以具有限定在其中的有源区AA和非有源区UA。

可以在有源区AA中显示图像。在设置在有源区AA的外围部的非有源区UA中不显示图像。

此外，可以在有源区AA和非有源区UA中至少之一中感测输入装置(例如，手指、触控笔等)的位置。如果输入装置如手指触摸触摸窗，则在由输入装置触摸的部分中发生电容的变化，并且经历电容变化的触摸部分可以被检测为触摸点。

基板100可以支承电极部200。也就是说，基板100可以是支承电极部200的支承基板。

基板100可以具有限定在其中的有源区AA和非有源区UA。

此外，可以在有源区AA和非有源区UA中至少之一中感测输入装置(例如，手指)的位置。如果输入装置如手指触摸触摸窗，则在由输入装置触摸的部分中发生电容的变化，并且经历电容变化的触摸部分可以被检测为触摸点。

电极部200可以设置在基板100上。电极部200可以包括感测电极210和/或线电极220。

感测电极210可以设置在有源区AA和非有源区UA中至少之一上。优选地，感测电极210可以设置在基板的有源区AA上。

感测电极210可以包括在不妨碍光的透射的情况下允许电从其间流过的透明导电材料。例如，感测电极210可以包括金属氧化物如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铜、氧化锡、氧化锌或氧化钛。由于透明材料布置在感测有源区上，所以当形成感测电极的图案时可以改进自由度。

不同于上述，感测电极210可以包括纳米线、光敏纳米线膜、碳纳米管(CNT)、石墨烯、导电聚合物或其混合物。因此，当制造柔性或可弯曲的触摸窗时，可以改进自由度。

当使用纳米复合材料如纳米线或碳纳米管(CNT)时，感测电极300可以具有黑色并且具有在通过纳米粉体的内容控制确保电导率的情况下能够控制颜色和反射率的优点。

此外，感测电极210可以包括各种金属。例如，感测电极210可以包括Cr、Ni、Cu、Al、Ag、Mo、Au、Ti及其合金中至少之一。因此，当制造柔性或可弯曲的触摸窗时可以改进自由度。

感测电极210可以形成为网格形状。具体地，感测电极210可以包括多个子电极。所述子电极可以布置成网格形状同时彼此交叉。

可以从外部看到电极图案因此可视性可能劣化。优选地，网格线LA的线宽可以在约0.5μm至约7μm的范围内。更优选地，网格线的线宽可以在约1μm至约3.5μm的范围内。

此外，网孔可以形成为各种形状。例如，网孔OA可以具有各种形状如包括矩形形状、菱形形状、五边形形状或六边形形状的多边形形状，或者圆形形状。此外，可以以规则形状或不规则形状形成网孔。

感测电极210可以具有网格形状，因此在有源区AA如显示区上不能看到感测电极210的图案。也就是说，即使感测电极是由金属形成的，也不能看到感测电极。此外，即使感测电极被应用于大尺寸触摸窗，也可以降低触摸窗的电阻。此外，感测电极和线电极可以通过使用相同的材料被同时图案化。

线电极220可以布置在基板100的非有源区上。

线电极220可以连接至感测电极210，可以朝向非有源区UA延伸，并且可以连接至非有源区UA上的印刷电路板。

线电极220可以包括等同于或类似于感测电极210的材料的材料。此外，线电极220可以包括如同感测电极210的网格形状。

下文中，将参照图2至图4描述根据实施方案的触摸窗。

图2至图4是示出根据实施方案的各种触摸窗的截面图。

参照图2，根据实施方案的触摸窗可以包括基板100上的基底基板211和基底基板211上的电极层212。

基底基板211可以包括塑料。例如，基底基板211可以包括树脂。基底基板211可以包括UV树脂、光固化性树脂或热固性树脂。

基底基板211可以包括图案部P。虽然在图2中描绘了形成在基底基板211上的凹的图案部P，但是本实施方案不限于此，并且可以形成凸的图案部。

图案部P可以形成为网格形状。具体地，图案部P可以形成为网格形状同时彼此交叉。

图案部P的宽度可以随着图案部P从基底基板211的底表面向顶表面的延伸而逐渐变大。具体地，基底基板211可以包括与基板100接触的底表面211a和与底表面211a相反的顶表面211b，并且图案部P的宽度可以随着图案部P从底表面211a向顶表面211b的延伸而变大。因此，可以容易执行在图案部中形成电极层的过程。

电极层212可以布置在基底基板211上。具体地，电极层212可以布置在基板211上的图案部P上。例如，电极层212可以布置在图案部P中。因此，电极层212可以以网格形状布置在基底基板211上。此外，类似于图案部的形状，电极层212的宽度可以随着电极层212从基底基板211的底表面211a向顶表面211b的延伸而逐渐变大。因此，可以容易地执行在图案部中形成电极层的过程。例如，当底表面的宽度较大时，可以在电极层与图案部之间形成间隙。然而，当顶表面的宽度较大时，在图案部之间可以形成电极层且没有任何间隙。

电极层212可以包括上述的感测电极和线电极中至少之一。此外，电极层212可以包括上述的导电材料。

此外，电极层212可以是镀覆层。具体地，电极层212可以通过化学镀方案布置在图案部P中。因此，电极层可以被形成为具有恒定的厚度并且电极层的厚度可以减小。

电极层212可以被形成为具有恒定的厚度。电极层212的厚度T1可以等于或小于约3μm。具体地，电极层212可以被形成为具有在约0.03μm至约3μm的范围内的厚度。更具体地，电极层212可以被形成为具有在约0.1μm至约1.5μm的范围内的厚度。

当电极层212的厚度小于0.03μm时，电极电阻可以增大因此效率可能降低。当电极层212的厚度超过约0.03μm时，感测电极的厚度变厚，因此触摸窗的整体厚度增大，从而使工艺效率劣化。

此外，电极层212可以具有恒定的宽度。具体地，例如，电极层212的宽度W可以为约4μm以下的平均值，以使得不能从外部看到电极层212的图案。具体地，电极层212的宽度可以在约1μm至约4μm的范围内。

电极层212可以与图案部P的内侧表面中至少之一接触。具体地，图案部P可以包括第一表面P1和第二表面P2，以及用于将第一表面P1和第二表面P2彼此相连接的第三表面P3。电极层212可以与第一表面P1至第三表面P3中至少之一接触。因此，可以防止在电极层与图案部之间形成间隙。

电极层212可以与第一表面P1至第三表面P3中至少之一接触，并且可以被布置成填充图案部P的一部分。

减反射层300还可以布置在电极层212上。具体地。减反射层300可以布置在图案部P中的电极层212上。

减反射层300可以是不透明的，并且具有黑色系颜色。例如，减反射层300可以包括黑色、灰色和其混合色中至少之一。也就是说，减反射层300可以是黑化层。

电极层212和减反射层300可以布置在图案部P中以具有相互不同的厚度。具体地，参照图2，电极层212的厚度T1可以大于减反射层300的厚度T2。因此，触摸窗的整体厚度可以减小，同时这有利于信号传输。

减反射层300可以布置在电极层212的至少一个表面上以防止由金属形成的电极层212被氧化以及防止由于金属的全反射性质而引起的光的反射。

此外，减反射层300可以是黑色金属氧化物。例如，减反射层300可以包括CuO、CrO、FeO和Ni₂O₃中至少之一，但是本实施方案不限于此。如果换句话说，减反射层400可以使用黑色系材料以限制电极层300的反射。

减反射层300和电极层212可以同时形成或者可以通过单独的过程形成。

参照图3，根据一个实施方案的触摸窗可以包括基板100上的基底基板211和基底基板211上的电极层212。在下面图3的描述中，将省略与上述图2中的部分相同或相似的部分的详细说明。

如图3中所示，电极层212可以仅布置在图案部的内侧表面上。也就是说，图案部P可以被布置成与第一表面P1至第三表面P3中至少之一接触。具体地，电极层212可以布置成与第一表面P1至第三表面P3中至少之一对应的形状。

此外，减反射层300可以布置在电极层212上。具体地，减反射层300可以由电极层212部分地包围。

例如，参照图3，减反射层300可以包括接触电极层212的接触表面CA以及暴露在外部而不接触电极层212的非接触表面NCA。

也就是说，由于减反射层300的接触表面CA，减反射层300可以由电极层212部分地包围。

此外，接触表面CA和非接触表面NCA可以具有相互不同的尺寸。具体地，接触表面CA的面积或长度可以大于非接触表面NCA的面积或长度。因此，可以有效地防止电极层的表面反射。

电极层212和减反射层300可以布置在图案部P中以具有相互不同的厚度。具体地，电极层212的厚度T1可以小于减反射层300的厚度T2。因此，可以增强形成有电极层的基板的强度。

参照图4，根据又一实施方案的触摸窗可以包括基板100上的基底基板211和基底基板211上的电极层212。在下面的描述中，将省略关于与上述图2和图3中的部分相同或相似的部分的详细说明。

参照图4，电极层212可以包括金属层212a和金属氧化物层212b。具体地，电极层212可以包括布置在图案部P中的金属层212a和金属层212a上的金属氧化物层212b。

金属层212a和金属氧化物层212b中至少之一的宽度可以随着其从基底基板的底表面211a向基底基板的顶表面211b的延伸而逐渐变大。因此，当形成电极层时，在电极层与图案部之间不形成间隙。

此外，电极层212可以包括导电层和非导电层。具体地，电极层212可以包括布置在图案部P中的导电层和导电层上的非导电层。

也就是说，导电层可以是金属层212a。此外，非导电层可以是金属氧化物层212b。

此外，导电层212可以包括高导电层和低导电层。具体地，电极层212可以包括布置在图案部P中的高导电层和高导电层上的低导电层。

也就是说，金属层212a可以是高导电层。此外，金属氧化物层212b可以是低导电层。

金属层212a和金属氧化物层212b可以彼此一体地形成。

此外，电极层212，即金属层212a和金属氧化物层212b可以是镀覆层。具体地，电极层212可以通过化学镀方案布置在图案部P中。

电极层212可以包括上述的导电材料。例如，导电层212可以包括上述的金属。

此外，金属层212a和金属氧化物层212b可以包括相同的材料，即，相同的金属。也就是说，可以通过对金属层212a的一个区域进行氧化来设置金属氧化物层212b。因此，可以在不分别形成金属层和金属氧化物层的情况下通过在图案中形成金属层之后对金属层进行氧化来形成图案。

金属氧化物层212b可以具有颜色。例如，金属氧化物层212b可以具有黑色系颜色。具体地，金属氧化物层212b可以包括黑色、灰色和其混合色中至少之一。

金属氧化物层212b可以防止反射。具体地，金属氧化物层212b可以布置在金属层212a上，从而可以防止由于金属层的闪光而看到金属层。也就是说，金属氧化物层212b可以是减反射层。此外，金属氧化物层212b可以是黑化层。

金属氧化物层212b可以布置在金属层212a的至少一个表面上，以使得可以防止由金属形成的金属层212a被氧化以及防止由于金属的全反射性质而引起的光的反射。

此外，金属氧化物层212b可以是黑色金属氧化物。例如，金属氧化物层212b可以包括CuO、CrO、FeO和Ni₂O₃中至少之一，但是本实施方案不限于此。只要可以防止金属层212a反射光，则可以应用任何黑色系材料而不受限制。

金属氧化物层212b和金属层212a可以同时形成或通过各自过程形成。

此外，电极层212可以是镀覆层。具体地，金属层212a和金属氧化物层212b可以通过化学镀方案被布置在图案部P中。

电极层212可以具有恒定的厚度。金属层212a的厚度T1可以等于约3μm或更小。具体地，金属层212a的厚度在约0.03μm至约3μm的范围内。更具体地，金属层212a的厚度在约0.1μm至约1.5μm的范围内。

当金属层212a的厚度被形成为小于约0.03μm时，电极电阻增大，因此效率可能降低。当金属层212a的厚度被形成为超过约0.03μm时，感测电极的厚度变厚，因此触摸窗的整体厚度可能变厚，从而降低工艺效率。

此外，金属层212a和金属氧化物层212b可以具有相互不同的厚度。具体地，金属层212a的厚度大于金属氧化物层212b的厚度。例如，金属层212a和金属氧化物层212b的厚度比可以在约6∶4至约9∶1的范围内。鉴于此，当电极层的信号传输能力增大时可以实现减反射功能。

当金属层212a和金属氧化物层212b的厚度比小于约6∶4时，金属氧化物层212b的厚度太薄，因此电性质可能劣化。当金属层212a和金属氧化物层212b的厚度比超过约9∶1时，金属氧化物层212b的厚度太薄，因此金属氧化物层212b可以不执行减反射功能，从而使可视性劣化。

此外，金属层212a可以具有恒定的宽度。具体地，金属层212a的宽度W为例如，约4μm以下的平均宽度，以使得不能从外部看到金属层212a的图案。更具体地，电极层212的宽度在约1μm至约4μm范围内。

图5至图8是示出形成根据实施方案的电极部的过程的图示。具体地，图5至图8是示出形成根据第一实施方案的电极部的过程的图示。

参照图5，基底基板211可以被布置在基板100上。然后，图案部P可以以恒定的宽度和高度被形成在基底基板211上。具体地，具有网格形状的图案部P可以被形成在基底基板211上。

接下来，参照图6，电极层212可以被布置在基底基板211上。具体地，金属电极层可以被布置在基底基板212上。

电极层212可以被布置在基底基板211上同时填充图案部P。可以通过化学镀方案沉积电极层212。通过化学镀方案直接沉积电极层212，可以将具有比糊料更优异的电性质的金属直接沉积在基底基板上。因此，可以沉积厚度薄的电极层，以使得可以减小电极层的厚度。

此外，由于电极层是通过化学镀方案沉积的，所以相较于糊料涂层方案，电极层可以以更均匀的厚度被沉积在图案部上。

因此，根据实施方案，可以减小电极部的厚度，即，感测电极和线电极的厚度，以使得可以减小触摸窗的厚度。此外，由于电极层是以均匀的厚度布置的，所以可以改进触摸窗的可靠性。

参照图7，电极层212可以被蚀刻。具体地，可以通过蚀刻来去除除了电极层212的布置在基底基板211上的图案部212中的一部分以外的电极层。

接下来，参照图8，减反射层300可以布置在电极层212上。可以通过使用黑色颜料来形成减反射层300。

图9至图12是示出形成根据另一实施方案的电极部的过程的图示。具体地，图9至图12是示出形成图3中的电极部的过程的图示。

参照图9，基底基板211可以布置在基板100上，然后，图案部P可以以恒定的宽度和高度被形成在基底基板211上。具体地，具有网格形状的图案部P可以被形成在基底基板211上。

接下来，参照图10，电极层212可以被布置在基底基板211上。具体地，金属电极层可以被布置在基底基板212上。

电极层212可以被布置在基底基板211上同时填充图案部P。电极层212可以被布置在基底基板211的顶表面和图案部P的内表面上。也就是说，电极层212可以以均匀的厚度被布置在基底基板211的顶表面和图案部P的内表面上。

可以通过化学镀方案沉积电极层212。通过化学镀方案直接沉积电极层212，可以将具有比糊料更优异的电性质的金属直接沉积在基底基板上。因此，可以沉积厚度薄的电极层，以使得可以减小电极层的厚度。

此外，由于电极层是通过化学镀方案沉积的，所以相较于糊料涂布方案，电极层可以以更均匀的厚度沉积在图案部上。

因此，根据一个实施方案，可以减小电极部的厚度，即，感测电极和线电极的厚度，以使得可以减小触摸窗的厚度。此外，由于电极层以均匀的厚度布置，所以可以改进触摸窗的可靠性。

参照图11，减反射层300可以布置在基底基板212上。具体地，减反射层可以被布置在图案部P中。可以在填充图案部P的同时布置减反射层300。

然后，参照图12，电极层300可以被蚀刻。具体地，可以通过蚀刻来去除除了电极层300的布置在基底基板211上的图案部212中的一部分以外的电极层。

如上所述，在首先布置减反射层之后，蚀刻电极层，以使得当蚀刻电极层时减反射层可以起掩膜的作用。此外，黑化层被布置在电极层上，以使得可以防止当形成减反射层时导致的外观受损。

图13至图16是示出形成根据又一实施方案的电极部的过程的图示。图13至图16是示出形成图4中的又一电极部的过程的图示。

参照图13，基底基板211可以被布置在基板100上。然后，图案部P可以以恒定的宽度和高度形成在基底基板211上。具体地，在基底基板211上可以形成具有网格形状的图案部P。

接下来，参照图14，电极层212可以被布置在基底基板211上。具体地，金属电极层可以被布置在基底基板212上。

电极层212可以布置在基底基板211上同时填充图案部P。可以通过化学镀方案沉积电极层212。通过化学镀方案直接沉积电极层212，可以将具有比糊料更优异的电性质的金属直接沉积在基底基板上。

此外，由于电极层是通过化学镀方案沉积的，所以相较于糊料涂布方案，电极层可以以更均匀的厚度被沉积在图案部上。

因此，根据实施方案，可以减小电极部的厚度，即，感测电极和线电极的厚度，以使得可以减小触摸窗的厚度。此外，由于电极层是以均匀的厚度被布置的，所以可以改进触摸窗的可靠性。

参照图15，电极层212可以被蚀刻。具体地，可以通过蚀刻来去除除了电极层的布置在基底基板211上的图案部212中的一部分以外的电极层。

然后，参照图16，可以通过对电极层212的表面进行氧化来形成金属氧化物层。因此，电极层212可以包括金属层212a和金属氧化物层212b。可以通过对电极层212的表面进行氧化来形成包括例如黑色、白色和其混合色中至少之一的黑色系颜色的金属氧化物层212b。金属氧化物层212b可以是不透明的。

可以通过各种方案如物理或化学方案对金属氧化物层212b进行氧化。例如，可以通过使用化学溶液如硝酸银(AgNO₃)或者通过在恒温下加热电极层212的表面来对电极层212进行氧化。

在下文中，将参照图17至图19描述在其中上述触摸窗和显示面板彼此耦接的触摸装置。

参照图17，根据实施方案的触摸装置可以包括布置在显示面板600上的触摸窗。

参照图17，盖基板101可以布置在基板100上。基板100和盖基板101可以通过粘合层700彼此粘合。此外，第一感测电极201和第二感测电极202可以布置在基板和/或盖基板101上。此外，基板100和显示面板600可以通过粘合层700彼此粘合。例如，基板100和显示面板600可以通过包括光学透明粘合剂(OCA)的粘合层700彼此结合。因此，盖基板和基板的分别形成可以有利于触摸窗的大规模生产。

显示面板600可以包括第一基板610和第二基板620。

如果显示面板600是液晶显示面板，则显示面板600可以具有下述结构：其中包括薄膜晶体管(TFT)和像素电极的第一基板610结合包括滤色层的第二基板620，同时液晶层设置在第一基板610与第二基板620之间。

另外，显示面板600可以是具有晶体管上滤色器(COT)结构的液晶显示面板，同时液晶层设置在第一基板610与第二基板620之间，该晶体管上滤色器(COT)结构是通过将在其上形成有TFT、滤色器以及黑矩阵的第一基板610结合第二基板620形成的。换句话说，TFT可以形成在第一基板610上，保护层可以形成在TFT上，滤色层可以形成在保护层上。此外，与TFT接触的像素电极形成在第一基板610上。在这种情况下，为了改进开口率并且简化掩模工艺，可以省略黑矩阵，并且公共电极可以执行黑矩阵的功能以及其固有功能。

此外，当显示面板600是液晶面板时，显示装置还可以包括用于在显示面板600的背面提供光的背光单元。

当显示面板600是有机发光装置时，显示面板600包括不需要任何附加光源的自发光装置。薄膜晶体管形成在显示面板600的第一基板610上，并且形成与薄膜晶体管接触的有机发光装置(OLED)。OLED可以包括阳极、阴极和形成在阳极与阴极之间的有机发光层。此外，显示面板600还可以包括第二基板620，第二基板620对OLED执行用于封装的封装基板的功能。

参照图18，根据一个实施方案的触摸装置可以包括与显示面板600一体形成的触摸窗。也就是说，可以省略对至少一个感测电极进行支承的基板。

具体地，至少一个感测电极可以布置在显示面板600的至少一个表面上。也就是说，至少一个感测电极可以形成在第一基板610或第二基板620的至少一个表面上。

在这种情况下，至少一个感测电极可以形成在被布置在上部的基板的顶表面上。

参照图18，第一感测电极201可以布置在基板100的一个表面上。此外，连接至第一感测电极201的第一线可以布置在基板100的一个表面上。此外，第二感测电极202可以布置在显示面板600的一个表面上。另外，连接至第二感测电极202的第二线可以布置在显示面板600的一个表面上。

粘合层700可以布置在基板100与显示面板600之间，以使得基板100与显示面板600结合。

此外，基板100还可以包括基板100下方的偏振片。偏振片可以是线性偏振片或减反射偏振片。例如，当显示面板600是液晶显示面板时，偏振片可以是线性偏振片。此外，当显示面板600是有机电致发光显示面板时，偏振片可以是减反射偏振片。

根据一个实施方案的触摸装置，可以省略用于支承感测电极300的至少一个基板100。因此，可以形成厚度薄且重量轻的触摸装置。

接下来，将参照图19描述根据又一实施方案的触摸装置。在下面的描述中，为了清楚和简要说明的目的，将省略与前面描述的实施方案的部分相似或相同的部分。相同的附图标记表示相同的元件。

参照图19，根据实施方案的触摸装置可以包括与显示面板600一体的触摸面板。也就是说，可以省略用于支承至少一个感测电极的基板。

例如，感测电极和线可以形成在显示面板内部，所述感测电极用作布置在有源区中以感测触摸的传感器，通过所述线将电信号施加至感测电极。具体地，至少一个感测电极或至少一条线可以布置在显示面板内部。

显示面板包括第一基板610和第二基板620。在这种情况下，第一感测电极201和第二感测电极202中至少之一被布置在第一基板610与第二基板620之间。也就是说，至少一个感测电极可以布置在第一基板610或第二基板620的至少一个表面上。

参照图19，第一感测电极201可以布置在盖基板100的一个表面上。此外，可以布置连接至第一感测电极201的第一线。另外，第二感测电极202和第二线可以形成在第一基板610与第二基板620之间。也就是说，第二感测电极202和第二线可以布置在显示面板内部，并且第一感测电极201和第一线可以布置在显示面板外部。

第二感测电极202和第二线可以布置在第一基板610的顶表面上或第二基板620的后表面上。

此外，偏振片还可以设置在盖基板100的下部。

当显示面板是液晶显示面板并且第二感测电极形成在第一基板610的顶表面上时，可以采用薄膜晶体管(TFT)或像素电极来形成感测电极。此外，当第二感测电极形成在第二基板620的后表面上时，滤色层可以形成在感测电极上或者感测电极可以形成在滤色层上。当显示面板是有机发光装置并且第二感测电极形成在第一基板610的顶表面上时，可以用薄膜晶体管或有机发光装置来形成第二感测电极。

根据一个实施方案的触摸装置还可以使得能够省略支承感测电极300的至少一个基板。鉴于此，可以形成厚度薄且重量轻的触摸装置。此外，采用形成在显示面板上的装置来形成感测电极和线以使得可以简化工艺并且可以降低成本。

图20至图23是示出包括上述触摸窗的触摸装置的一个实例的图示。

参照图20，移动终端可以包括有源区AA和非有源区UA。有源区AA可以通过手指触摸来感测触摸信号，而命令图标图案部和标识可以形成在非有源区UA中。

此外，参照图21，触摸窗可以包括能够被弯曲的柔性触摸窗。因此，包括柔性触摸窗的触摸显示器可以是柔性触摸显示器。因此，用户可以使用用户的手来弯曲或弯折柔性触摸窗。

例如，这种柔性触摸窗可以适用于实现可穿戴式触摸。也就是说，可以通过将柔性触摸窗应用于穿戴在人身上的眼镜或手表来实现可穿戴式触摸。

此外，参照图22，触摸窗可以应用于车辆导航系统。

此外，参照图23，触摸窗可以应用于车辆的内部。换句话说，触摸窗可以应用于车辆中的各部。因此，触摸窗可以应用于仪表盘100以及PND(个人导航显示)，因此可以实现CID(中心信息显示)。然而，本实施方案不限于上述，并且这种触摸装置可以用于各种电子设备，并且当然适用于穿戴在这种人身上的可穿戴式设备。

本说明书中对“一个实施方案”、“实施方案”、“示例性实施方案”等的任何提及是指结合实施方案所描述的具体特征、结构或特性被包括在本实用新型的至少一个实施方案中。在说明书中的各个位置中出现的这种短语未必都指相同的实施方案。此外，当结合任意实施方案描述具体特征、结构或特性时，认为它在结合实施方案中的其他特征实现这样的特征、结构或特性在本领域的技术人员的视野范围之内。

虽然已经参照多个说明性实施方案对实施方案进行了描述，但是应理解，本领域技术人员可以想出落入本公开的原则的精神和范围内的许多其他修改和实施方案。更具体地，可以在本公开内容、附图和所附的权利要求的范围内对主题组合布置的部件部分和/或布置进行各种变型和修改。对本领域技术人员而言，除了对部件部分和/或布置方面的变型和修改以外，替代使用也是显而易见的。

Claims

1.一种触摸窗，包括：

基板；以及

所述基板上的电极部，

其中所述电极部包括：

形成有图案部的基底基板；和

所述图案部上的电极层，及

其中所述电极层的厚度在0.03μm至3μm的范围内。

2.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述电极层具有网格形状。

3.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述电极层包括镀覆层。

4.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述基底基板包括与所述基板接触的底表面和与所述底表面相反的顶表面，以及

所述电极层的宽度从所述底表面至所述顶表面逐渐变大。

5.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述图案部包括第一表面、第二表面以及将所述第一表面和所述第二表面彼此相连接的第三表面，以及

所述电极层接触所述第一表面至所述第三表面中至少之一。

6.根据权利要求1所述的触摸窗，还包括所述电极层上的减反射层。

7.根据权利要求6所述的触摸窗，其中所述电极层的厚度不同于所述减反射层的厚度。

8.根据权利要求6所述的触摸窗，其中所述电极层的厚度大于所述减反射层的厚度。

9.根据权利要求6所述的触摸窗，其中所述电极层的厚度小于所述减反射层的厚度。

10.根据权利要求6所述的触摸窗，其中所述减反射层包括：

接触所述电极层的接触表面；及

暴露在外部的非接触表面，以及

其中所述接触表面的面积不同于所述非接触表面的面积。

11.根据权利要求10所述的触摸窗，其中所述接触表面的面积大于所述非接触表面的面积。

12.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述电极层的宽度在1μm至4μm的范围内。

13.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述电极部包括感测电极和线电极中至少之一。

14.根据权利要求1所述的触摸窗，其中所述电极部包括感测电极，

15.根据权利要求1所述的触摸窗，还包括所述基板上的盖基板。

16.一种触摸窗，包括：

基板；以及

所述基板上的电极部，

其中所述电极部包括：

形成有图案部的基底基板；和

所述图案部上的电极层，及

17.根据权利要求16所述的触摸窗，其中所述金属层和所述金属氧化物层彼此一体形成。

18.根据权利要求16所述的触摸窗，其中所述金属层的厚度大于所述金属氧化物层的厚度。

19.根据权利要求16所述的触摸窗，其中所述金属层和所述金属氧化物层包括彼此对应的金属元素。