CN204973470U - 一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置 - Google Patents

一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置 Download PDF

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靳丽婕
张云伟
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Abstract

本实用新型公开了一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置包括:过滤装置本体,所述过滤装置本体上设置有进气口、出气口和排气口,所述进气口与分子泵连接,所述出气口与机械泵连接,过滤装置本体内部设置有过滤腔,所述过滤腔中靠近进气口装有变色硅胶,靠近出气口装有活性炭,过滤腔中安装有加热源。本装置可同时除去来自炉腔和空气中的水分子以及来自机械泵产生的油分子和其他杂质。保护了分子泵和机械泵不被污染,延长了使用寿命;增加了单晶生长室内气氛的纯净度,提高单晶生长质量。

Description

一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置
技术领域
本发明涉及半导体生长技术领域,特别是涉及半导体晶体生长真空系统过滤装置。
背景技术
碳化硅单晶生长过程中需要冷却水不断地循环带走大量热量。这样在炉腔内就不可避免地凝结一些水分子,在分子泵运行时,这些水分子会随着气路进入机械泵,引起机械泵抽真空能力下降,使用寿命减少。同时,机械泵在运行过程中挥发出油气和其他杂质,在气体传输过程中,这些杂质会进入分子泵和炉腔内,进入分子泵的油分子会严重降低分子泵使用寿命,进入炉腔的杂质会被吸附进生长坩埚内,作为杂质离子降低晶体质量,造成资源浪费。
实用新型内容
针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置,该气体过滤装置可以同时吸收水分子和油分子等杂质离子,净化进入炉腔和机械泵的气体,提高晶体生长质量,增加设备使用寿命,为企业带来效益。
为了达到上述目的,本实用新型的技术方案如下:
一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置包括:过滤装置本体,所述过滤装置本体上设置有进气口、出气口和排气口,所述进气口与分子泵连接,所述出气口与机械泵连接,过滤装置本体内部设置有过滤腔,所述过滤腔中靠近进气口装有变色硅胶,靠近出气口装有活性炭,过滤腔中安装有加热源。
进一步,所述进气口外安装有单向插板阀。
进一步,所述过滤装置本体为圆柱型,所述进气口和所述出气口分别位于轴对称两侧的顶部和底部,所述排气口位于过滤装置本体的顶面。
在分子泵和机械泵之间的管道上加入本实用新型的气体过滤装置,其中滤芯由两部分组成,靠近分子泵的一侧内装变色硅胶,可以吸收来自炉腔的水分子,保护机械泵不被水分子破坏;靠近机械泵一侧装入活性炭,活性炭对油分子及由油分子转化来的杂质有很强的吸附作用,从而进入分子泵和炉腔的气体基本可以保证纯净,有效的保护了分子泵,提高了晶体生长质量。
在分子泵与进气口间的单向插板阀闭合时,用加热源对过滤腔进行加热,可以使吸收了杂质的滤芯恢复原始状态,增加了滤芯的可重复利用性,同时滤芯可更换,更换操作简便,降低了使用成本。
附图说明
图1为本实用新型用于单晶炉真空系统的气体过滤装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图,详细说明本实用新型的具体实施方式。
如图1所示为本实用新型一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置的具体实施例,在本实施例中气体过滤装置具体包括:过滤装置本体6,过滤装置本体6为圆柱型,过滤装置本体6上设置有进气口2、出气口5和排气口3,进气口2与分子泵连接,进气口2与分子泵的连接管路上安装有单向插板阀1,出气口5与机械泵连接,进气口2和出气口5分别位于轴对称两侧的顶部和底部,排气口3位于过滤装置本体6的顶面,过滤装置本体6内部设置有过滤腔,过滤腔中靠近进气口2装有变色硅胶7,靠近出气口5装有活性炭8,过滤腔中安装有加热源4。
在分子泵和机械泵之间的管道上加入本实用新型的气体过滤装置,其中滤芯由两部分组成,靠近分子泵的一侧内装变色硅胶,可以吸收来自炉腔的水分子,保护机械泵不被水分子破坏;靠近机械泵一侧装入活性炭,活性炭对油分子及由油分子转化来的杂质有很强的吸附作用,从而进入分子泵和炉腔的气体基本可以保证纯净,有效的保护了分子泵,提高了晶体生长质量。
在分子泵与进气口间的单向插板阀闭合时,用加热源对过滤腔进行加热,可以使吸收了杂质的滤芯恢复原始状态,增加了滤芯的可重复利用性,同时滤芯可更换,更换操作简便,降低了使用成本。
上述示例只是用于说明本实用新型,本实用新型的实施方式并不限于这些示例,本领域技术人员所做出的符合本实用新型思想的各种具体实施方式都在本实用新型的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置,其特征在于,该气体过滤装置包括:过滤装置本体,所述过滤装置本体上设置有进气口、出气口和排气口,所述进气口与分子泵连接,所述出气口与机械泵连接,过滤装置本体内部设置有过滤腔,所述过滤腔中靠近进气口装有变色硅胶,靠近出气口装有活性炭,过滤腔中安装有加热源。
2.如权利要求1所述的气体过滤装置,其特征在于,所述进气口外安装有单向插板阀。
3.如权利要求1所述的气体过滤装置,其特征在于,所述过滤装置本体为圆柱型,所述进气口和所述出气口分别位于轴对称两侧的顶部和底部,所述排气口位于过滤装置本体的顶面。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104941387A (zh) * 2015-07-14 2015-09-30 北京世纪金光半导体有限公司 一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置
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