CN204854283U - 硅片清洗设备用烘干机 - Google Patents

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王会敏
何京辉
李立伟
张立涛
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Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗设备用烘干机,涉及硅片加工技术领域。本实用新型包括硅片清洗设备,所述硅片清洗设备出料端的工作台向外延长形成烘干硅片的烘干工作台,烘干工作台外设有密封罩,密封罩与烘干工作台形成烘干硅片的烘道,密封罩的底部侧面设有出风口,密封罩的顶部设有密封罩进风口,安装在密封罩外的鼓风机出风口与密封罩进风口连通,鼓风机进风口与密封罩的出风口连通,清洗完成后的硅片从清洗设备的工作台直接输送至烘干工作台上进入烘道,在鼓风机的作用下快速烘干,烘干后的硅片输送至烘干工作台的另一端,完成烘干。本实用新型是在对原有的硅片清洗设备进行改进后,实现对清洗完的硅片自动烘干,提高生产效率,减少企业的设备投资成本。

Description

硅片清洗设备用烘干机
技术领域
本实用新型涉及硅片加工技术领域,尤其是硅片清洗设备用烘干机。
背景技术
烘干一体式清洗设备已经被越来越多的被企业使用,应用该设备,硅片清洗后能够自动烘干,提高生产效率,降低破片率。
大多数企业早期投资购买的清洗设备不带有烘干功能,清洗完的硅片需要人工取出,再放入烘干设备进行干燥,传统的烘干设备较小,多采用热氮气吹扫或甩干机甩干,热氮气吹扫往往烘干体积小,产能有限,同时要消耗大量的氮气,成本较高;甩干机对硅片的除水效果差,由于需要人工夹取放片,容易导致碎片。但这些设备如果直接报废,购买新的烘干一体式清洗设备,对企业成本过高,尤其是对于还在正常使用的设备来说,直接报废处理存在很大的资源浪费。
因此有必要对现有清洗机进行改造,增加自动烘干功能,以降低企业生产成本,提高资源利用率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种硅片清洗设备用烘干机,在对原有的硅片清洗设备进行改进后,实现对清洗完的硅片自动烘干,提高生产效率,减少企业的设备投资成本。
为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:一种硅片清洗设备用烘干机,包括硅片清洗设备,所述硅片清洗设备出料端的工作台向外延长形成烘干硅片的烘干工作台,烘干工作台外设有密封罩,密封罩与烘干工作台形成烘干硅片的烘道,密封罩的底部侧面设有出风口,密封罩的顶部设有密封罩进风口,安装在密封罩外的鼓风机出风口与密封罩进风口连通,鼓风机进风口与密封罩的出风口连通,清洗完成后的硅片从硅片清洗设备的工作台直接输送至烘干工作台上进入烘道,在鼓风机的作用下快速烘干,烘干后的硅片输送至烘干工作台的另一端,完成烘干。
进一步的技术方案,所述烘干工作台为输送辊道。
进一步的技术方案,所述鼓风机设有2台以上,沿密封罩底部同一外侧设置。
进一步的技术方案,沿所述密封罩顶部每间隔0.5-1米设置一个密封罩进风口,相邻2个或3个密封罩进风口用一根两端封堵的风管串联,每一根风管均与一台鼓风机出风口连通。
进一步的技术方案,所述的密封罩采用PVC板制成,风管为PVC管。
进一步的技术方案,在鼓风机出风口与密封罩进风口连通的管路上设有阀门。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本实用新型是对现有硅片清洗设备的改进,具体是把硅片清洗设备的输送工作台延长一定的长度,形成烘干工作台,在烘干工作台外加装密封罩,在密封罩外安装鼓风机,利用鼓风机使烘道内的空气循环流通,实现烘干硅片的效果,硅片随输送辊道自动后移并烘干,不仅能够提高硅片的生产效率,并且也大大减少企业的设备投资成本。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图;
图2是图1的俯视图;
图中:1、硅片清洗设备;2、密封罩;3、鼓风机;4、鼓风机出风口;5、密封罩进风口;6、鼓风机进风口。
具体实施方式
为了解决现有技术清洗设备不带自动烘干功能的技术问题,本实用新型公开了一种硅片清洗设备用烘干机,硅片清洗和烘干为一体式,硅片清洗后直接进入烘干机进行烘干,过程连续,无需取下硅片再放置,减少中间环节,降低硅片碎片率,具体是通过采用延长清洗设备出料工作台并增设烘干装置的技术手段,能够使现有技术清洗设备实现对清洗完的硅片自动烘干,提高生产效率,减少企业的设备投资成本。为了能够更加清楚地描述本实用新型,现结合附图做进一步说明。
参见图1、图2所示,本实用新型包括硅片清洗设备1,所述硅片清洗设备1出料端的工作台向外延长形成烘干硅片的烘干工作台,烘干工作台外设有密封罩2,密封罩2与烘干工作台形成烘干硅片的烘道,密封罩2的底部侧面设有出风口,密封罩2的顶部设有进风口,安装在密封罩2外的鼓风机出风口4与密封罩进风口5连通,鼓风机进风口6与密封罩出风口连通,清洗完成后的硅片从清洗设备的工作台直接输送至烘干工作台上进入烘道,在鼓风机3的作用下,烘道内的空气循环流通,使硅片快速烘干,烘干后的硅片输送至烘干工作台的另一端,完成烘干。其中,烘干工作台的长度可根据硅片清洗设备的规格和生产能力,并结合本企业实际产能选择,一般延长2-6米即可,为使硅片输送顺畅,烘干工作台与清洗工作台为连贯的一体,并相应的对输送辊道的驱动源做相应的调整,使驱动能力匹配即可。
其中,所述烘干工作台为输送辊道,与硅片清洗设备1的输送辊道结构相同。是清洗工作台的延伸,可保证硅片连续顺畅输送,避免中间环节,避免取放硅片,降低硅片的碎片率。
对于工作台较长时,可以设2台以上鼓风机3,沿密封罩2底部同一外侧设置。同时,沿所述密封罩2顶部或靠近顶部的侧面每间隔0.5-1米设置一个进风口,相邻2个或3个进风口用一根两端封堵的风管串联,每一根风管均与一台鼓风机出风口4连通。鼓风机3均匀设置,保证烘道内的风量均匀,密封罩2开有多个进风口,也利于烘道内的风量均匀,使硅片均匀烘干。
其中,所述的密封罩2采用PVC板制成,风管为PVC管。
为便于维修或控制风量,进一步的在鼓风机出风口4与密封罩进风口5连通的管路上设有阀门。
本实用新型通过对现有硅片清洗设备的改进,不仅能够提高硅片的生产效率,并且也大大减少企业的设备投资成本。

Claims (6)

1.一种硅片清洗设备用烘干机,包括硅片清洗设备(1),其特征在于,所述硅片清洗设备(1)出料端的工作台向外延长形成烘干硅片的烘干工作台,烘干工作台外设有密封罩(2),密封罩(2)与烘干工作台形成烘干硅片的烘道,密封罩(2)的底部侧面设有出风口,密封罩(2)的顶部设有密封罩进风口(5),安装在密封罩(2)外的鼓风机(3)的出风口与密封罩进风口(5)连通,鼓风机进风口(6)与密封罩(2)的出风口连通,清洗完成后的硅片从硅片清洗设备(1)的工作台直接输送至烘干工作台上进入烘道,在鼓风机(3)的作用下快速烘干,烘干后的硅片输送至烘干工作台的另一端,完成烘干。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗设备用烘干机,其特征在于,所述烘干工作台为输送辊道。
3.根据权利要求1所述的硅片清洗设备用烘干机,其特征在于,所述鼓风机(3)设有2台以上,沿密封罩(2)底部同一外侧设置。
4.根据权利要求3所述的硅片清洗设备用烘干机,其特征在于,沿所述密封罩(2)顶部每间隔0.5-1米设置一个密封罩进风口(5),相邻2个或3个密封罩进风口(5)用一根两端封堵的风管串联,每一根风管均与一台鼓风机出风口(4)连通。
5.根据权利要求1-4中任一权利要求所述的硅片清洗设备用烘干机,其特征在于,所述的密封罩(2)采用PVC板制成,风管为PVC管。
6.根据权利要求1所述的硅片清洗设备用烘干机,其特征在于,在鼓风机出风口(4)与密封罩进风口(5)连通的管路上设有阀门。
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