CN204849018U - 镀膜腔室高真空密封结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了镀膜腔室高真空密封结构，其包括内密封圈和外密封圈，在上腔体底板与下腔体面板接触处开设有一条方形槽；内密封圈和外密封圈安装在方形槽内，并在内密封圈和外密封圈之间安装有一将两者分离开的铝扣条，铝扣条的长度小于内密封圈的长度；铝扣条压紧内密封圈和外密封圈后通过锁紧螺钉固定安装在上腔体底板上；位于内密封圈和外密封圈之间的下腔体面板上开设有与内密封圈、外密封圈和铝扣条之间形成的空腔连通的通孔；通孔远离内密封圈的端部固定连接有一个管接头；管接头通过抽气管与真空泵连接。
Description
技术领域
本实用新型属于密封装置，具体涉及一种镀膜腔室高真空密封结构。
背景技术
传统的密封结构为双层密封结构，采用的密封件为O型密封圈（条）的环状密封结构。由于镀膜腔室内的真空度要求非常高，而双层环状密封之间储存有少量空气，当内层环状密封圈的密封能力减弱时，这些残留的少量空气就会被吸入到镀膜腔室内，破坏整个腔室内的高真空状况，影响产品镀膜质量。
实用新型内容
针对现有技术中的上述不足，本实用新型提供了一种镀膜腔室高真空密封结构，其能够将残留于其内部的少量空气排出。
为了达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案为：
提供一种镀膜腔室高真空密封结构，其包括内密封圈和外密封圈，在上腔体底板与下腔体面板接触处开设有一条方形槽；内密封圈和外密封圈安装在方形槽内，并在内密封圈和外密封圈之间安装有一将两者分离开的铝扣条，铝扣条的长度小于内密封圈的长度；
铝扣条压紧内密封圈和外密封圈后通过锁紧螺钉固定安装在上腔体底板上；位于内密封圈和外密封圈之间的下腔体面板上开设有与内密封圈、外密封圈和铝扣条之间形成的空腔连通的通孔；通孔远离内密封圈的端部固定连接有一个管接头；管接头通过抽气管与真空泵连接。
本实用新型的有益效果为：通过设置的通孔、管接头和真空泵的相互配合作用，能够将内密封圈、外密封圈和铝扣条之间形成的空腔内残余的气体抽出，保证了镀膜腔室一直处于高真空状态，进一步保证了产品的镀膜质量。
附图说明
图1为镀膜腔室高真空密封结构安装在镀膜腔室侧壁上后的剖视图。
其中，1、上腔体底板；2、锁紧螺钉；3、内密封圈；4、镀膜腔室；5、下腔体壁；6、通孔；7、管接头；8、下腔体面板；9、外密封圈；10、铝扣条；11、上腔体壁。
具体实施方式
下面对本实用新型的具体实施方式进行描述，以便于本技术领域的技术人员理解本实用新型，但应该清楚，本实用新型不限于具体实施方式的范围，对本技术领域的普通技术人员来讲，只要各种变化在所附的权利要求限定和确定的本实用新型的精神和范围内，这些变化是显而易见的，一切利用本实用新型构思的实用新型创造均在保护之列。
参考图1，图1示出了镀膜腔室高真空密封结构安装在镀膜腔室侧壁上后的剖视图。如图1所示，为了避免两个镀膜腔室4密封面之间的气体串入镀膜腔室4，在一个镀膜腔室4的上腔体壁11与另一个镀膜腔室4的下腔体壁5之间的上腔体底板1和下腔体面板8接触处设置有一个高真空密封结构。
再次参考图1，该高真空密封结构包括内密封圈3和外密封圈9，在上腔体底板1与下腔体面板8接触处开设有一条方形槽，内密封圈3和外密封圈9安装在方形槽内；该方形槽是环绕两个镀膜腔室4之间形成的整个密封面，所以内密封圈3和外密封圈9也是环绕整个密封面的双层环形密封。
在内密封圈3和外密封圈9之间安装有一将两者分离开的铝扣条10，且铝扣条10的长度小于内密封圈3的长度，这样内密封圈3、外密封圈9和铝扣条10三者之间能够形成一个空腔。该空腔能够将残留的少量空气聚集在此处。
设计时，优选铝扣条10的断面设置呈梯形，这样能够确保将内密封圈3和外密封圈9稳定地固定在方形槽内。
安装时，铝扣条10压紧内密封圈3和外密封圈9后通过锁紧螺钉2固定安装在上腔体底板1上；位于内密封圈3和外密封圈9之间的下腔体面板8上开设有与空腔连通的通孔6；通孔6远离内密封圈3的端部固定连接有一个管接头7；管接头7通过抽气管与真空泵连接。
采用上述结构的高真空密封结构后，可以启动真空泵，位于空腔内的残余气体就能够依次通过通孔6、管接头7、抽气管和真空泵排出。保证了镀膜腔室4一直处于高真空状态，进一步保证了产品的镀膜质量。
为了便于通孔的开设，将通孔设置呈L形。在通孔6远离内密封圈3的端部处还开设有一用于与管接头7配合的螺纹孔；螺纹孔的直径大于通孔6的直径，且螺纹孔的中心线与部分通孔6的中心线为同一条直线。螺纹孔的引入，可以快速实现管接头7的安装或更换。
虽然结合附图对本实用新型的具体实施方式进行了详细地描述，但不应理解为对本专利的保护范围的限定。在权利要求书所描述的范围内，本领域技术人员不经创造性劳动即可做出的各种修改和变形仍属本专利的保护范围。
Claims (4)
1.镀膜腔室高真空密封结构，包括内密封圈和外密封圈，其特征在于：在上腔体底板与下腔体面板接触处开设有一条方形槽；所述内密封圈和所述外密封圈安装在所述方形槽内，并在所述内密封圈和所述外密封圈之间安装有一将两者分离开的铝扣条，所述铝扣条的长度小于所述内密封圈的长度；
所述铝扣条压紧所述内密封圈和所述外密封圈后通过锁紧螺钉固定安装在所述上腔体底板上；位于所述内密封圈和所述外密封圈之间的下腔体面板上开设有与所述内密封圈、所述外密封圈和所述铝扣条之间形成的空腔连通的通孔；所述通孔远离内密封圈的端部固定连接有一个管接头；所述管接头通过抽气管与真空泵连接。
2.根据权利要求1所述的镀膜腔室高真空密封结构，其特征在于：所述铝扣条的断面呈梯形。
3.根据权利要求1或2所述的镀膜腔室高真空密封结构，其特征在于：在通孔远离内密封圈的端部处还开设有一用于与所述管接头配合的螺纹孔；所述螺纹孔的直径大于通孔的直径。
4.根据权利要求3所述的镀膜腔室高真空密封结构，其特征在于：将所述通孔设置呈L形。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520431891.6U CN204849018U (zh) | 2015-06-23 | 2015-06-23 | 镀膜腔室高真空密封结构 |
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| CN201520431891.6U CN204849018U (zh) | 2015-06-23 | 2015-06-23 | 镀膜腔室高真空密封结构 |
Publications (1)
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|---|---|
| CN204849018U true CN204849018U (zh) | 2015-12-09 |
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ID=54739586
Family Applications (1)
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| CN201520431891.6U Active CN204849018U (zh) | 2015-06-23 | 2015-06-23 | 镀膜腔室高真空密封结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204849018U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020078147A1 (zh) * | 2018-10-16 | 2020-04-23 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 腔室密封组件及生长炉 |
| CN115584485A (zh) * | 2022-10-11 | 2023-01-10 | 拓荆科技股份有限公司 | 一种用于薄膜沉积设备的密封结构以及反应腔室 |
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2015
- 2015-06-23 CN CN201520431891.6U patent/CN204849018U/zh active Active
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| CN115584485A (zh) * | 2022-10-11 | 2023-01-10 | 拓荆科技股份有限公司 | 一种用于薄膜沉积设备的密封结构以及反应腔室 |
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