CN204731527U - 一种多轴联动uv曝光装置 - Google Patents

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蔡仁甲
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Abstract

本实用新型提出了一种多轴联动UV曝光装置,所述多轴联动UV曝光装置包括菲林架、底部固定板、四组自由度调节座、三个步进电机、三个丝杆模组、三个光电感应开关,所述四组自由度调节座安装在所述底部固定板上,其中三组自由度调节座的每组自由度调节座通过一个丝杆模组连接一个步进电机的输出端,所述菲林架通过四组自由度调节座连接底部固定板,连接丝杆模组的三组自由度调节座的每个自由度调节座上设有一个光电感应开关。本实用新型的多轴联动UV曝光装置提升生产中产品的对位精度,提升了良品率,降低了成本。

Description

一种多轴联动UV曝光装置
技术领域
本实用新型涉及一种多轴联动UV曝光装置。
背景技术
在对触摸屏的基板曝光作业中,需要配合CCD影像对玻璃基板和菲林架之间进行靶标对位调整,只有对位精度高才能在曝光后获得较标准的感光图像,对位过程中需要在X轴和Y轴方向不断进行比较调整。目前主流的生产工艺,是在手动或半自动的方式下,各轴单独进行调节。这种方式对生产效率产生极大的限制,并且曝光精度难以保证,良品率不高,成本增加,同时对往后的工艺升级产生限制。
手动或半自动的方式主要存在以下缺陷:1、手动或半自动对位调整时,节拍时间长,效率低;2、手动或半自动对位调整时,精度不稳定,品质不稳定;3、操作人员工作疲劳强度大,不利于长时间生产;4、后继生产工艺升级受到限制。
实用新型内容
本实用新型提出一种多轴联动UV曝光装置,克服现有技术的曝光精度难以保证,良品率不高,成本增加,同时对往后的工艺升级产生限制的缺陷。
本实用新型的技术方案是这样实现的:一种多轴联动UV曝光装置,所述多轴联动UV曝光装置包括菲林架、底部固定板、四组自由度调节座、三个步进电机、三个丝杆模组、三个光电感应开关,所述四组自由度调节座安装在所述底部固定板上,其中三组自由度调节座的每组自由度调节座通过一个丝杆模组连接一个步进电机的输出端,所述菲林架通过四组自由度调节座连接底部固定板,连接丝杆模组的三组自由度调节座的每个自由度调节座上设有一个光电感应开关。
优选的,所述自由度调节座包括固定底座、传感器座、传感器、第一Y型导轨、下滑块座、中间滑块座、隔环、支撑柱、感应片、旋转轴承、轴承压盖、上滑块座、第二Y型导轨、上部固定座,所述传感器安装在所述传感器座上,所述传感器座安装在所述固定底座上;所述固定底座上依次安装所述第一Y型导轨、所述下滑块座、所述中间滑块座、所述隔环、所述支撑柱、所述旋转轴承、所述轴承压盖、所述上滑块座、所述第二Y型导轨、所述上部固定座,所述感应片连接所述支撑柱。
优选的,所述丝杆模组包括丝母座和丝杆,所述丝杆安装在所述丝母座上。
优选的,所述步进电机通过电机座和联轴器连接所述丝杆。
优选的,所述丝杆通过丝母、丝杆螺母、法兰轴承与所述丝母座连接。
优选的,所述四组自由度调节座在所述底部固定板上呈正方形分布。
本实用新型的有益效果为:本实用新型的多轴联动UV曝光装置适用于触摸屏行业曝光工艺,配合UV光源系统,CCD影像对位系统,实现对涂胶玻璃基板表面的套刻曝光作业,获得高精度均衡的感光线路图像。本实用新型的多轴联动UV曝光装置提升生产中产品的对位精度,提升了良品率,降低了成本,替代了原有工作模式,自动联动对位调整的实现,极大降低工人操作疲劳强度,或者直接减少设备所需操作人员数量;使操作变得方便,快捷,易操作。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一种多轴联动UV曝光装置一个实施例的组装结构示意图;
图2为图1所示多轴联动UV曝光装置拆分结构示意图;
图3为图1所示多轴联动UV曝光装置的自由度调节座、步进电机、丝杆模组的拆分结构示意图。
附图中:21-底部固定板;22-菲林架;24-自由度调节座;231-第一丝杆模组;232-第二丝杆模组;233-第三丝杆模组;111-固定底座;112-上部固定座;2-传感器座;3-传感器;4-丝母座;5-丝杆;6-电机座;7-联轴器;8-步进电机;9-丝杆螺母;10-法兰轴承;11-丝母;12-隔环;13-轴承压盖;14-上滑块座;151-第一Y型导轨;152-第二Y型导轨;16-旋转轴承;17-支撑柱;18-感应片;19-中间滑块座;20-下滑块座。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1、2、3所示,一种多轴联动UV曝光装置,所述多轴联动UV曝光装置包括菲林架22、底部固定板21、四组自由度调节座24、三个步进电机8、三个丝杆模组、三个光电感应开关,所述四组自由度调节座24安装在所述底部固定板21上,其中三组自由度调节座24的每组自由度调节座24通过一个丝杆模组连接一个步进电机8的输出端,所述菲林架22通过四组自由度调节座24连接底部固定板21,连接丝杆模组的三组自由度调节座24的每个自由度调节座24上设有一个光电感应开关。所述四组自由度调节座24在所述底部固定板21上呈正方形分布。三个丝杆模组分别为231-第一丝杆模组、232-第二丝杆模组;、233-第三丝杆模组。
所述自由度调节座包括固定底座111、上部固定座112、传感器座2、传感器3、第一Y型导轨151、下滑块座20、中间滑块座19、隔环12、支撑柱17、感应片18、旋转轴承16、轴承压盖13、上滑块座14、第二Y型导轨152、上部固定座112,所述传感器3安装在所述传感器座2上,所述传感器座2安装在所述固定底座111上;所述固定底座111上依次安装所述第一Y型导轨151、所述下滑块座20、所述中间滑块座19、所述隔环12、所述支撑柱17、所述旋转轴承16、所述轴承压盖13、所述上滑块座14、所述第二Y型导轨152、所述上部固定座112,所述感应片18连接所述支撑柱17。
所述丝杆模组包括丝母座4和丝杆5,所述丝杆5安装在所述丝母座4上。
所述步进电机8通过电机座6和联轴器7连接所述丝杆5。
所述丝杆5通过丝母11、丝杆螺母9、法兰轴承10与所述丝母座4连接。
工作时,当步进电机8和第一丝杆模组231工作而第二丝杆模组232、第三丝杆模组233不工作时,实现菲林架22在X轴方向的位移;当步进电机8、第二丝杆模组232和第三丝杆模组233工作而第一丝杆模组231不工作时,实现菲林架在Y轴方向的位移;当第一丝杆模组231、第二丝杆模组232及第三丝杆模组233同时同方向工作时,实现菲林架22在一个角度上的运动。
本实用新型采用了多轴联动方式进行产品精准定位,取缔市场上一般的手动或半自动方式,在生产精准度及生产效率中都是以往技术未能达到的,多轴联动将根据生产需要自动调节以确保生产的精准性,在很大程度上减少了不合格品,节约成本及能耗。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种多轴联动UV曝光装置,其特征在于:所述多轴联动UV曝光装置包括菲林架、底部固定板、四组自由度调节座、三个步进电机、三个丝杆模组、三个光电感应开关,所述四组自由度调节座安装在所述底部固定板上,其中三组自由度调节座的每组自由度调节座通过一个丝杆模组连接一个步进电机的输出端,所述菲林架通过四组自由度调节座连接底部固定板,连接丝杆模组的三组自由度调节座的每个自由度调节座上设有一个光电感应开关。
2.如权利要求1所述的多轴联动UV曝光装置,其特征在于:所述自由度调节座包括固定底座、传感器座、传感器、第一Y型导轨、下滑块座、中间滑块座、隔环、支撑柱、感应片、旋转轴承、轴承压盖、上滑块座、第二Y型导轨、上部固定座,所述传感器安装在所述传感器座上,所述传感器座安装在所述固定底座上;所述固定底座上依次安装所述第一Y型导轨、所述下滑块座、所述中间滑块座、所述隔环、所述支撑柱、所述旋转轴承、所述轴承压盖、所述上滑块座、所述第二Y型导轨、所述上部固定座,所述感应片连接所述支撑柱。
3.如权利要求2所述的多轴联动UV曝光装置,其特征在于:所述丝杆模组包括丝母座和丝杆,所述丝杆安装在所述丝母座上。
4.如权利要求3所述的多轴联动UV曝光装置,其特征在于:所述步进电机通过电机座和联轴器连接所述丝杆。
5.如权利要求3所述的多轴联动UV曝光装置,其特征在于:所述丝杆通过丝母、丝杆螺母、法兰轴承与所述丝母座连接。
6.如权利要求1所述的多轴联动UV曝光装置,其特征在于:所述四组自由度调节座在所述底部固定板上呈正方形分布。
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CN108357086A (zh) * 2018-04-13 2018-08-03 深圳市诺峰光电设备有限公司 iphone全自动贴膜及其高精度UVW对位装置
WO2019061585A1 (zh) * 2017-09-27 2019-04-04 武汉华星光电技术有限公司 曝光设备及透明基板的曝光方法
US10254659B1 (en) 2017-09-27 2019-04-09 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Exposure apparatus and method for exposure of transparent substrate

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