CN204622981U - 一种镭雕真空电镀的外壳 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种镭雕真空电镀的外壳，包括塑胶壳体和覆盖在塑胶壳体上的多涂层，其特征在于：所述的多涂层包括依次设置的PU白底层、PU珠光白层、UV底漆层、真空电镀层、UV保护漆层和UV面漆层，所述的真空电镀层为局部镭雕的真空电镀层，UV底漆层为局部镭雕的UV底漆层，PU白底层厚度为6~7μm，PU珠光白层为2~3μm，UV底漆层为15~18μm，真空电镀层为40~60纳米，UV保护漆层为2~4μm，UV面漆层为23~26μm。本实用新型通过局部镭雕电镀层和UV底漆层，可雕出具有图案花纹并显示珠光白的外观效果，且产品表面效果均匀自然，柔性好耐弯折，同时富有金属感、层次感和立体感。
Description
技术领域
本实用新型涉及基材表面处理领域，尤其是一种镭雕真空电镀的外壳。
背景技术
目前，电子产品的使用已成为了人们生活当中的重要部分，并满足了人们在出行、通讯、娱乐乃至烹饪等多种需求。电子产品的外观装饰性、耐用程度也是很多消费者所十分看重的，在电子产品的外壳制作中，真空电镀由于适用范围广、具有金属质感、保护性好而在塑胶壳体的表面处理上得到了很好的应用，同时此基础上，通过涂层的设计和色彩的搭配则能取得更令普通消费者满意的效果。
发明内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供一种变化性好、具有立体感、美观耐用的镭雕真空电镀的外壳。
本实用新型的技术方案为：一种镭雕真空电镀的外壳，包括塑胶壳体和覆盖在塑胶壳体上的多涂层，其特征在于：所述的多涂层包括依次设置的PU白底层、PU珠光白层、UV底漆层、真空电镀层、UV保护漆层和UV面漆层，所述的真空电镀层为局部镭雕的真空电镀层，UV底漆层为局部镭雕的UV底漆层。
作为优选，所述的PU白底层厚度为6~7μm，PU珠光白层为2~3μm，UV底漆层为15~18μm，真空电镀层为40~60纳米，UV保护漆层为2~4μm，UV面漆层为23~26μm。
作为优选，所述的塑胶壳体为由PC或ABS材料制成的壳体，厚度为0.8~1.8mm。
作为优选，所述真空电镀层由铟、锡、铝或其合金制成。
本实用新型的有益效果为：本实用新型所采用的PU白底层消除了塑胶壳体受水气的影响，UV底漆层反射出珠光白层的效果，UV保护漆层保护真空电镀层并增加了附着力， UV面漆层则使外表面更耐磨。由于本实用新型局部镭雕了电镀层和UV底漆层，可雕出具有图案花纹并显示珠光白的外观效果，且产品表面效果均匀自然，柔性好耐弯折，同时富有金属感、层次感和立体感。
附图说明
图1为本实用新型的切面放大图。
图中，1-塑胶壳体，2-PU白底层，3-PU珠光白层，4-UV底漆层，5-真空电镀层，6-UV保护漆层，7-UV面漆层。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明：
如图1所示，一种镭雕真空电镀的外壳，包括塑胶壳体1和覆盖在塑胶壳体1上的多涂层，其特征在于：所述的多涂层包括依次设置的PU白底层2、PU珠光白层3、UV底漆层4、真空电镀层5、UV保护漆层6和UV面漆层7，所述的真空电镀层5为局部镭雕的真空电镀层5，UV底漆层4为局部镭雕的UV底漆层4。
在本实施例中，所述的塑胶壳体1为由PC或ABS材料制成的壳体，厚度为0.8~1.8mm，PU白底层2厚度为6~7μm，PU珠光白层3为2~3μm，UV底漆层4为15~18μm，真空电镀层5由铟、锡、铝中的一种或两种的合金制成且厚度为40~60纳米，UV保护漆层6为2~4μm，UV面漆层7为23~26μm。
本实用新型的制作工艺为：PC/ABS塑胶壳装夹上线→涂覆PU白底→涂覆PU珠光白→涂覆UV底漆→形成真空电镀层→镭雕(局部电镀层和UV底漆层4)→清洗干燥→涂覆UV保护漆→涂覆UV面漆，通过依次进行上述步骤可以有效保障镭雕外壳成品的品质。
上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理和最佳实施例，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。
Claims (3)
1.一种镭雕真空电镀的外壳，包括塑胶壳体和覆盖在塑胶壳体上的多涂层，其特征在于：所述的多涂层包括依次设置的PU白底层、PU珠光白层、UV底漆层、真空电镀层、UV保护漆层和UV面漆层，所述的真空电镀层为局部镭雕的真空电镀层，UV底漆层为局部镭雕的UV底漆层。
2.根据权利要求1所述的镭雕真空电镀的外壳，其特征在于：所述的PU白底层厚度为6~7μm，PU珠光白层为2~3μm，UV底漆层为15~18μm，真空电镀层为40~60纳米，UV保护漆层为2~4μm，UV面漆层为23~26μm。
3.根据权利要求1所述的镭雕真空电镀的外壳，其特征在于：所述的塑胶壳体为由PC或ABS材料制成的壳体，厚度为0.8~1.8mm。
Priority Applications (1)
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| CN201520238145.5U CN204622981U (zh) | 2015-04-18 | 2015-04-18 | 一种镭雕真空电镀的外壳 |
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| CN201520238145.5U CN204622981U (zh) | 2015-04-18 | 2015-04-18 | 一种镭雕真空电镀的外壳 |
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Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN204622981U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117047293A (zh) * | 2023-08-15 | 2023-11-14 | 昆山吉山会津塑料工业股份有限公司 | 一种基于镭雕机的镀膜工艺 |
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2015
- 2015-04-18 CN CN201520238145.5U patent/CN204622981U/zh not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117047293A (zh) * | 2023-08-15 | 2023-11-14 | 昆山吉山会津塑料工业股份有限公司 | 一种基于镭雕机的镀膜工艺 |
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