CN204392325U - 手机外壳保护膜 - Google Patents

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闫会朝
丁磊
李晓哲
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Xiamen Yu Tong Photoelectric Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开一种手机外壳保护膜,是将PET树脂层、印花胶水、氧化锆层、氧化钛层复合在一起不导电结构,本实用新型是应用在手机塑料外壳表面,在PET上面,涂上印花浇水,印花浇水上面可以有花纹及图案;再磁控溅射上氧化锆,然后再磁控溅射氧化钛,使得最后具有不导电性和亚光效果,降低反射率,本实用新型生产成本低,量产效率高,良率高达95%以上。

Description

手机外壳保护膜
技术领域
本实用新型公开一种手机外壳保护膜,按国际专利分类表(IPC)划分属于手机塑料壳表面装饰技术领域。
背景技术
随着信息时代的蓬勃发展,人们越来越依赖使用手机等电子产品进行交流,但手机外壳大多采用塑胶注塑成型,外观较差,需要进一步表面装饰工艺,如表面喷涂、不导电真空金属化等,中国文献 CN 103147045 A公开了一种塑胶壳体的金属化表面装饰处理方法,是直接在塑胶壳体上镀膜来获得金属化效果,工艺复杂。
目前,手机壳体制造商往往在壳体表面附着保护膜以起到保护装饰作用,然而现有的手机壳膜层颜色单一且表面易产生反光,没有亚光效果及图案。同时,作为手机外壳的外膜层,还必须保证安全,达到不导电效果。
发明内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种手机外壳保护膜,其贴附在手壳外壳表面,具备不导电性、亚光效果以及微弱的金属光泽。
为达到上述目的,本实用新型是通过以下技术方案实现的:
一种手机外壳保护膜,是由底膜及其上依次叠加的胶水层、亚光层及耐磨层组成,其中底膜为PET层,亚光层为氧化锆层具备亚光效果及微弱的金属感,耐磨层为氧化钛层,且氧化锆层与氧化钛层厚度相同。
进一步,所述胶水层厚度为0.05-0.1nm,其上压印花纹或图案使得最终具备印花纹路。
进一步,所述氧化锆层厚度为8-10nm,使得具备半透明白色。
进一步,所述氧化钛层厚度为8-10nm,增加耐磨性。
本实用新型将PET树脂层、印花胶水、氧化锆层、氧化钛层复合在一起,可以控制手机外壳表面的膜层在不导电范围内。本实用新型是应用在手机塑料外壳表面,在PET上面,涂上印花浇水,印花浇水上面可以有花纹及图案;再磁控溅射上氧化锆,然后再磁控溅射氧化钛,使得最后具有不导电性,降低反射率,和亚光性,本实用新型生产成本低,量产效率高,良率高达95%以上。
附图说明
图1是本实用新型示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
实施例:请参阅图1,一种手机外壳保护膜,是由底膜及其上依次叠加的胶水层2、亚光层及耐磨层组成,其中底膜为PET层1,亚光层为氧化锆层3具备亚光效果及微弱的金属感,耐磨层为氧化钛层4,且氧化锆层3与氧化钛层4厚度相同。本实用新型胶水层2厚度为0.05-0.1nm,优选为0.07 nm,其上压印花纹或图案使得最终具备印花纹路。本实用新型采用氧化锆层3厚度为8-10nm,使得具备半透明白色,氧化锆层为二氧化锆层;所述氧化钛4层厚度为8-10nm,增加耐磨性,氧化钛层为二氧化钛层。
本实用新型将PET树脂层、印花胶水、氧化锆层、氧化钛层复合在一起,可以控制手机外壳表面的膜层在不导电范围内。本实用新型是应用在手机塑料外壳表面,在PET上面,涂上印花浇水,印花浇水上面可以有花纹及图案;再磁控溅射上氧化锆,然后再磁控溅射氧化钛,使得最后具有不导电性,降低反射率,和亚光性。
以上所记载,仅为利用本创作技术内容的实施例,任何熟悉本项技艺者运用本创作所做的修饰、变化,皆属本创作主张的专利范围,而不限于实施例所揭示者。

Claims (4)

1.一种手机外壳保护膜,其特征在于:该保护膜是由底膜及其上依次叠加的胶水层、亚光层及耐磨层组成,其中底膜为PET层,亚光层为氧化锆层具备亚光效果及微弱的金属感,耐磨层为氧化钛层,且氧化锆层与氧化钛层厚度相同。
2.根据权利要求1所述的手机外壳保护膜,其特征在于:所述胶水层厚度为0.05-0.1nm,其上压印花纹或图案使得最终具备印花纹路。
3.根据权利要求1所述的手机外壳保护膜,其特征在于:所述氧化锆层厚度为8-10nm具备半透明白色。
4.根据权利要求1至3之一所述的手机外壳保护膜,其特征在于:所述氧化钛层厚度为8-10nm增加耐磨性。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108912373A (zh) * 2018-08-14 2018-11-30 泉州市智通联科技发展有限公司 一种含有二氧化锆涂层的手机外壳及其制备方法

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