CN204604108U - 抛光设备的喷水结构 - Google Patents
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Abstract
抛光设备的喷水结构包括抛光磨头、输水管、喷头和供水机构，抛光磨头设于陶瓷抛光砖的下方，抛光磨头上开设有由其上端面延伸至下端面通孔；输水管穿设于抛光磨头的通孔中；喷头安装于输水管穿出通孔上端部的部分；供水机构连接于输水管的下端并用于为输水管供水。本实用新型在工作时，抛光磨头在驱动机构带动下转动并由下至上地抛光工件的待加工面，这样抛光时产生的磨屑因为自重容易下落，通过供水机构为输水管供水，并通过喷头将水由下至上地喷设于工件的待加工面上，只需要少量的水冲击磨屑并使磨屑脱离工件的待加工面，即可使磨屑自动下落，这样可以在保证工件待加工面的清洁度的前提下，减少水的用量。
Description
技术领域
本实用新型涉及工件抛光领域，特别涉及抛光设备的喷水结构。
背景技术
瓷砖在进行抛光时，通常是将瓷砖置于输送带上，利用抛光磨头由上至下对瓷砖的待抛光面进行抛光打磨，在打磨过程中，为了带走瓷砖表面的磨屑，需要对瓷砖的待抛光面喷水，利用水的冲击力将磨屑带走；由于现有的瓷砖打磨过程中，磨屑残留在瓷砖的上表面，因此，如果要保证瓷砖的待抛光面足够清洁，则必须要向瓷砖表面提供大量的水，将磨屑冲到瓷砖的外侧，因此，在打磨过程中耗费的水较多，成本较高，并且，在实际的生产过程中，由于供水量较大，较多的水会渗入到瓷砖内部，增加了后续脱水工序的难度。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型的目的旨在于提供抛光设备的喷水结构，在保证工件待加工面清洁度的前提下，减少水的用量。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
抛光设备的喷水结构，包括：
设于工件下方的抛光磨头，抛光磨头用于在驱动机构带动下转动并由下至上地抛光工件的待加工面，抛光磨头上开设有由其上端面延伸至下端面的通孔；
输水管，输水管穿设于抛光磨头的通孔中；
喷头，安装于输水管穿出通孔上端部的部分；
供水机构，连接于输水管的下端并用于为输水管供水。
供水机构包括水泵和供水管，供水管的两端分别连接水泵和输水管的下端。
该喷头为雾化喷头。
通孔开设于抛光磨头的中心轴上。
本实用新型的有益效果在于：
相比于现有技术，本实用新型在工作时，抛光磨头在驱动机构带动下转动并由下至上地抛光工件的待加工面，这样抛光时产生的磨屑因为自重容易下落，通过供水机构为输水管供水，并通过喷头将水由下至上地喷设于工件的待加工面上，只需要少量的水冲击磨屑并使磨屑脱离工件的待加工面，即可使磨屑自动下落，这样可以在保证工件待加工面的清洁度的前提下，减少水的用量。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
其中：10、抛光磨头；11、通孔；20、输水管；30、喷头；40、供水机构；41、水泵；42、供水管；50、陶瓷抛光砖；51、装饰面。
具体实施方式
下面，结合附图以及具体实施方式，对本实用新型做进一步描述：
如图1所示，本实用新型的抛光设备的喷水结构包括抛光磨头10、输水管20、喷头30和供水机构40。抛光磨头10设于陶瓷抛光砖50的下方(本实施例的工件为陶瓷抛光砖50，装饰面51即陶瓷抛光砖50较为光滑的表面，装饰面51为陶瓷抛光砖50的待加工面)，抛光磨头10用于在驱动机构带动下转动并由下至上地抛光陶瓷抛光砖50的装饰面51，抛光磨头10上开设有由其上端面延伸至下端面的通孔11；输水管20固设于抛光设备的机架上，输水管20穿设于抛光磨头10的通孔11中；喷头30安装于输水管20穿出通孔11上端部的部分；供水机构40连接于输水管20的下端并用于为输水管20供水。
在工作时，抛光磨头10在驱动机构带动下转动并由下至上地抛光陶瓷抛光砖50的装饰面51，这样抛光时产生的磨屑因为自重容易下落，通过供水机构40为输水管20供水，并通过喷头30将水由下至上地喷设于陶瓷抛光砖50的装饰面51上，只需要少量的水冲击磨屑并使磨屑脱离陶瓷抛光砖50的装饰面51，即可使磨屑自动下落，这样可以在保证装饰面51清洁度的前提下，减少水的用量。
水流不会被抛光磨头10的外侧阻挡，可以喷设到装饰面51与抛光磨头10之间的内侧，因此，水流与装饰面51的接触面积较大，而且水流的喷设处为装饰面51的中部区域，可以方便地将磨屑冲向装饰面51的外侧，这样可以较好地带走磨屑。
应当注意，驱动机构可以是电机或除电机以外的其他类似的驱动部件。
优选地，通孔11开设于抛光磨头10的中心轴上，这样，抛光磨头10在转动时，输水管20不随抛光磨头10转动。
进一步地，供水机构40包括水泵41和供水管42，供水管42的两端分别连接水泵41和输水管20的下端。
进一步地，该喷头30为雾化喷头，雾化喷头将输水管20的水流成水雾状喷出，进一步增加了水与装饰面51的接触面积，而且由于雾化喷头的压力较大，喷出的水雾更容易冲走装饰面51上的磨屑。
进一步地，该抛光设备的喷水结构还包括一传输机构，该传输机构用于输送陶瓷抛光砖50并且使陶瓷抛光砖50的装饰面51朝向地面。进一步地，该传输机构可以是皮带传送机构，陶瓷抛光砖50设于皮带的下方，利用皮带粗糙面与陶瓷抛光砖50的背面的摩擦力带动陶瓷抛光砖50。当然，传输机构还可以是其他形式的结构。
对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (4)
1.抛光设备的喷水结构，其特征在于，包括：
设于工件下方的抛光磨头，抛光磨头用于在驱动机构带动下转动并由下至上地抛光工件的待加工面，抛光磨头上开设有由其上端面延伸至下端面的通孔；
输水管，输水管穿设于抛光磨头的通孔中；
喷头，安装于输水管穿出通孔上端部的部分；
供水机构，连接于输水管的下端并用于为输水管供水。
2.如权利要求1所述的抛光设备的喷水结构，其特征在于，供水机构包括水泵和供水管，供水管的两端分别连接水泵和输水管的下端。
3.如权利要求1所述的抛光设备的喷水结构，其特征在于，该喷头为雾化喷头。
4.如权利要求1所述的抛光设备的喷水结构，其特征在于，通孔开设于抛光磨头的中心轴上。
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| CN105798716A (zh) * | 2016-03-21 | 2016-07-27 | 陈瑞琼 | 一种抛光方法及抛光装置 |
| CN107322449A (zh) * | 2016-04-28 | 2017-11-07 | 广东科达洁能股份有限公司 | 一种微水抛光机 |
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| CN107471116B (zh) * | 2017-07-28 | 2019-02-05 | 义乌市台荣超硬制品有限公司 | 一种环间给水磨轮结构 |
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