CN204514882U - 一种光化学柱后的衍生反应器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种光化学柱后衍生反应器，包括反应容器、衍生管路、位于反应容器内部的温度控制装置和紫外光源；衍生管路从反应容器一端进入，另一端伸出，中间缠绕在温度控制装置周围；紫外光源嵌入温度控制装置与衍生管路之间；温度控制装置包括加热装置、导热载体和位于导热载体上的温度探头。本实用新型广泛应用于液相色谱检测分析。使用时，将该衍生反应器置于色谱柱和检测器之间，对待检测物进行柱后连续光化学衍生反应，可提高荧光、紫外、电化学检测和化学发光检测器的灵敏度和响应的选择性。本实用新型与其它衍生系统相比，提供了更稳定的工作温度，减少了检测误差。
Description
技术领域
本实用新型属于液相色谱检测分析技术领域，涉及一种光化学柱后的衍生反应器。
背景技术
光化学衍生器广泛应用于黄曲霉毒素和磺胺类药物的HPLC法检测，它能够增强黄曲霉毒素B1和G1的荧光强度。目前广泛使用的光化学柱后衍生没有温控装置，其缺点为：样品检测时，保留时间易受温度变化影响，对检测结果的准确性造成影响。
发明内容
本实用新型针对上述现有技术中存在的问题，提供了一种光化学柱后衍生反应器。
本实用新型为解决这一问题所采取的技术方案是：
一种光化学柱后的衍生反应器，包括反应容器、衍生管路、位于反应容器内部的温度控制装置和紫外光源；衍生管路从反应容器一端进入，另一端伸出，中间缠绕在温度控制装置周围；紫外光源嵌入温度控制装置与衍生管路之间；温度控制装置包括加热装置、导热载体和位于导热载体上的温度探头。
本实用新型的光化学柱后衍生反应器的工作原理为：当经过色谱柱分离后有检测物通过衍生系统时，紫外光源可增强物质的荧光强度，进而提高检测度的灵敏度。而温控系统可为提供衍生过程恒定的反应温度，进而降低因环境温度变化而造成的检测误差。
本实用新型具有的优点和积极效果是：
本实用新型的光化学柱后衍生反应器，广泛应用于液相色谱检测分析，尤其是对黄曲霉毒素和磺胺类药物的HPLC法检测。使用时，将该衍生反应器置于色谱柱和检测器之间，对待检测物进行柱后连续光化学衍生反应，可提高荧光、紫外、电化学检测和化学发光检测器的灵敏度和响应的选择性。本实用新型与其它衍生系统相比，提供了更稳定的工作温度，减少了检测误差。
附图说明
图1是本实用新型的光化学柱后衍生反应器的结构示意图；
图中主要部件符号说明：
1：反应容器 2：衍生管路
3：紫外光源 4：温度控制装置。
具体实施方式
以下参照附图对本实用新型的光化学柱后衍生反应器进行详细的说明。下面描述的具体实施例仅是本实用新型的最佳实施方式，而不能理解为对本实用新型的限制。
图1是本实用新型的光化学柱后衍生反应器的结构示意图。如图1所示，本实用新型的光化学柱后衍生反应器，包括反反应容器1、衍生管路2、位于反应容器1内部的温度控制装置4和紫外光源3。温度控制装置4对称设置有两组，每组温度控制装置4包括加热装置、导热载体和位于导热载体上的温度探头。加热装置可以是电加热管，导热载体可以是铜管或铜棒，套接在加热装置外部或连接在加热装置一端。衍生管路2从反应容器1一端进入，另一端伸出，中间缠绕在温度控制装置4周围。紫外光源3嵌入温度控制装置4与衍生管路之间。
温度控制装置4主要用来控制加热装置的温度达到规定的使用要求。而紫外光源可提供全紫外波长的光源，使衍生管路全面的受到光源的照射，促进衍生物的衍生。
本实用新型的光化学柱后衍生反应器，广泛应用于液相色谱检测分析，尤其是对黄曲霉毒素和磺胺类药物的HPLC法检测，它能够增强黄曲霉毒素B1和G1的荧光强度，黄曲霉毒素B1和G1灵敏度能够达到0.1ppb；还能够增强磺胺类药物的荧光强度：磺胺嘧啶，磺胺吡啶，磺胺甲基嘧啶，磺胺二甲嘧啶，磺胺对甲氧嘧啶，磺胺喹噁啉，灵敏度达到10ppb左右。在线对黄曲霉毒素B1、G1进行衍生，重现性好；不需要任何化学衍生试剂，减少了液相系统的清洗工作，延长了其使用寿命。
使用时，将该衍生反应器置于色谱柱和检测器之间，对待检测物进行柱后连续光化学衍生反应，可提高荧光、紫外、电化学检测和化学发光检测器的灵敏度和响应的选择性。其具体工作过程如下：在对黄曲霉等需要衍生的物质进行检测时，首先需要将衍生管路的进口与液相色谱柱的出口连接，出口与荧光或紫外检测器连接，然后打开电源开关，开启紫外灯，开启温控装置，预热光源10分钟，同时运行液相泵，并打开检测器采集基线，待基线平稳后便可以开始对样品进行分析。
Claims (1)
1.一种光化学柱后的衍生反应器，其特征在于：该反应器包括反应容器（1）、衍生管路（2）、位于反应容器内部的温度控制装置（4）和紫外光源（3）；衍生管路（2）从反应容器一端进入，另一端伸出，中间缠绕在温度控制装置（4）周围；紫外光源（3）嵌入温度控制装置（4）与衍生管路（2）之间；温度控制装置包括加热装置、导热载体和位于导热载体上的温度探头。
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