CN204503008U - 一种反应釜温度控制装置 - Google Patents
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Abstract
一种反应釜温度控制装置，包括釜体以及位于釜体内部的中空腔体，从釜体顶部进入到釜体腔内的搅拌轴，所述加热设备为水循环加热系统，位于加热设备一侧设有进水口，其底部设有出水口；该装置通过压力传感器和PLC，可以实现反应釜内稳压控制，使反应更加稳定，提高产品的稳定性，有效控制质量成本，提高产品竞争力；同时通过温度传感器和PLC，可以实现反应釜内恒温控制，使反应更加稳定，提高产品的稳定性，有效控制质量成本，提高产品竞争力。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种化工用反应设备，尤其是涉及一种反应釜温度控制装置。
背景技术
反应釜是用来进行化学反应的容器，为了适应各种工况条件的不同要求，反应釜的种类也比较繁多，被广泛应用与生物、化工、材料学和半导体学领域。现有的反应釜是综合反应容器，根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件的设计。从开始的进料-反应-出料均能够以较高的自动化程度完成预先设定好的反应步骤，其结构一般由釜体、传动装置、搅拌装置、加热装置、冷却装置、密封装置组成。
现有的反应釜在反应腔中不仅腔内自身有压力，而反应釜反应物产生反应后还会继续产生压力，在容腔的体积是一定的情况下，腔内的压力在不断增大后，若没有定时检测会发生爆炸等危险情况产生，造成人员和财产的重大损失，同时反应釜需适应不同的反应环境，若反应过程中产生大量的热量，若未察觉而温度逐步提高，最终导致反应过量或出现危险情况。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决上述提出的问题，提供一种不仅能够提高生产效率，同时能够有效监控反应釜内温度的一种反应釜温度控制装置。
本实用新型的目的是以如下方式实现的：一种反应釜温度控制装置，包括釜体以及位于釜体内部的中空腔体，从釜体顶部进入到釜体腔内的搅拌轴，搅拌轴的顶部连接搅拌电机，位于搅拌轴和釜体的连接部位安装有压力传感器，所述压力传感器实时监控釜内压力，所述压力传感器将收集到的信号反馈给PLC，所述PLC-连接到显示屏上，所述显示屏外置在釜体的外侧，位于釜体内安装由热电偶构成的温度传感器，所述温度传感器实时监控釜内温度，所述温度传感器将收集数据反馈到PLC上，所述釜体的外部布置有加热设备，所述加热设备为水循环加热系统，位于加热设备一侧设有进水口，其底部设有出水口。
更进一步的优化方案是，上述的一种反应釜温度控制装置，所述釜体顶部设有进料口，其底部连接有出料口，位于出料口安装有放料阀。
更进一步的优化方案是，上述的一种反应釜温度控制装置，所述搅拌轴上设有至少两组搅拌叶。
更进一步的优化方案是，上述的一种反应釜温度控制装置，所述搅拌叶为弧状面，所述弧状面的弧度为60°。
更进一步的优化方案是，上述的一种反应釜温度控制装置，位于釜体上临近进料口旁布置有观察口。
本实用新型的优点：本实用新型的装置通过压力传感器和PLC，可以实现反应釜内稳压控制，使反应更加稳定，提高产品的稳定性，有效控制质量成本，提高产品竞争力；同时通过温度传感器和PLC，可以实现反应釜内恒温控制，使反应更加稳定，提高产品的稳定性，有效控制质量成本，提高产品竞争力。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
附图1是本实用新型的结构示意图。
附图标记：1、釜体，2、搅拌轴，3、搅拌电机，4、中空腔体，5、进料口，6、出料口，7、放料阀，8、搅拌叶，9、观察口，10、压力传感器，11、显示屏，12、温度传感器，13、加热设备，14、进水口，15、出水口。
具体实施方式：
见附图1所示，一种反应釜温度控制装置，包括釜体1以及位于釜体1内部的中空腔体4，从釜体1顶部进入到釜体1腔内的搅拌轴2，搅拌轴2的顶部连接搅拌电机3，位于搅拌轴2和釜体1的连接部位安装有压力传感器10，所述压力传感器10实时监控釜内压力，所述压力传感器10将收集到的信号反馈给PLC，所述PLC连接到显示屏11上，所述显示屏11外置在釜体1的外侧，位于釜体1内安装由热电偶构成的温度传感器12，所述温度传感器12实时监控釜内温度，所述温度传感器12将收集数据反馈到PLC上，所述釜体1的外部布置有加热设备13，所述加热设备13为水循环加热系统，位于加热设备13一侧设有进水口14，其底部设有出水口15；所述釜体1顶部设有进料口5，其底部连接有出料口6，位于出料口6安装有放料阀7；所述搅拌轴2上设有至少两组搅拌叶8；所述搅拌叶8为弧状面，所述弧状面的弧度为60°；位于釜体1上临近进料口5旁布置有观察口9。
以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种反应釜温度控制装置，其特征在于：包括釜体(1)以及位于釜体(1)内部的中空腔体(4)，从釜体(1)顶部进入到釜体(1)腔内的搅拌轴(2)，搅拌轴(2)的顶部连接搅拌电机(3)，位于搅拌轴(2)和釜体(1)的连接部位安装有压力传感器(10)，所述压力传感器(10)实时监控釜内压力，所述压力传感器(10)将收集到的信号反馈给PLC，所述PLC连接到显示屏(11)上，所述显示屏(11)外置在釜体(1)的外侧，位于釜体(1)内安装由热电偶构成的温度传感器(12)，所述温度传感器(12)实时监控釜内温度，所述温度传感器(12)将收集数据反馈到PLC上，所述釜体(1)的外部布置有加热设备(13)，所述加热设备(13)为水循环加热系统，位于加热设备(13)一侧设有进水口(14)，其底部设有出水口(15)。
2.根据权利要求1所述的一种反应釜温度控制装置，其特征在于：所述釜体(1)顶部设有进料口(5)，其底部连接有出料口(6)，位于出料口(6)安装有放料阀(7)。
3.根据权利要求2所述的一种反应釜温度控制装置，其特征在于：所述搅拌轴(2)上设有至少两组搅拌叶(8)。
4.根据权利要求3所述的一种反应釜温度控制装置，其特征在于：所述搅拌叶(8)为弧状面，所述弧状面的弧度为60°。
5.根据权利要求4所述的一种反应釜温度控制装置，其特征在于：位于釜体(1)上临近进料口(5)旁布置有观察口(9)。
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| CN201420853544.8U CN204503008U (zh) | 2014-12-25 | 2014-12-25 | 一种反应釜温度控制装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201420853544.8U CN204503008U (zh) | 2014-12-25 | 2014-12-25 | 一种反应釜温度控制装置 |
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| CN204503008U true CN204503008U (zh) | 2015-07-29 |
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| CN (1) | CN204503008U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109213232A (zh) * | 2018-11-15 | 2019-01-15 | 上海量能生物科技有限公司 | 具备温度控制功能的高压反应釜系统 |
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2014
- 2014-12-25 CN CN201420853544.8U patent/CN204503008U/zh not_active Expired - Fee Related
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