CN204503064U - 一种双层新型反应釜 - Google Patents
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Abstract
一种双层新型反应釜，包括U型加热设备一侧设有进水口，其底部设有出水口；该装置通过单向阀可以实现反应釜内低压或真空反应，使得反应釜应用范围大大增加，提高设备的使用率，有效降低投资成本，增强企业竞争力；同时通过温度传感器和PLC，可以实现反应釜内恒温控制，使反应更加稳定，提高产品的稳定性，有效控制质量成本，提高产品竞争力。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种化工用反应设备，尤其是涉及一种双层新型反应釜。
背景技术
反应釜是用来进行化学反应的容器，为了适应各种工况条件的不同要求，反应釜的种类也比较繁多，被广泛应用与生物、化工、材料学和半导体学领域。现有的反应釜是综合反应容器，根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件的设计。从开始的进料-反应-出料均能够以较高的自动化程度完成预先设定好的反应步骤，其结构一般由釜体、传动装置、搅拌装置、加热装置、冷却装置、密封装置组成。
现有的反应釜在反应腔中不仅腔内自身有负压，而反应釜反应物产生反应后还会继续产生负压，在容腔的体积是一定的情况下，腔内的压力在不断增大后会产生爆炸等危险情况，同时现有的反应釜需适应不同的反应环境，若反应过程中产生大量的热量，若未察觉而温度逐步提高，最终导致反应过量或出现危险情况。
实用新型内容
本实用新型的目的是解决上述提出的问题，提供一种提高安全性，将腔体内的负压安全释放的一种双层新型反应釜。
本实用新型的目的是以如下方式实现的：一种双层新型反应釜，包括釜体以及位于釜体内部的中空腔体，从釜体顶部进入到釜体腔内的搅拌轴，所述搅拌轴的顶部连接搅拌电机，单向阀连接在釜体肩部位置，所述单向阀与釜体连通，位于釜体内安装由热电偶构成的温度传感器，所述温度传感器实时监控釜内温度，所述温度传感器将收集数据反馈到PLC上，所述釜体的外部布置有U型加热设备，所述加热设备为水循环加热系统，位于U型加热设备一侧设有进水口，其底部设有出水口。
更进一步的优化方案是，上述的一种双层新型反应釜，所述釜体顶部设有进料口，其底部连接有出料口，位于出料口安装有放料阀。
更进一步的优化方案是，上述的一种双层新型反应釜，所述搅拌轴上设有至少两组搅拌叶。
更进一步的优化方案是，上述的一种双层新型反应釜，所述搅拌叶为弧状面，所述弧状面的弧度为45°。
更进一步的优化方案是，上述的一种双层新型反应釜，位于釜体上临近进料口旁布置有观察口。
本实用新型的优点：本实用新型的装置通过单向阀可以实现反应釜内低压或真空反应，使得反应釜应用范围大大增加，提高设备的使用率，有效降低投资成本，增强企业竞争力；同时通过温度传感器和PLC，可以实现反应釜内恒温控制，使反应更加稳定，提高产品的稳定性，有效控制质量成本，提高产品竞争力。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
附图1是本实用新型的结构示意图。
附图标记：1、釜体，2、搅拌轴，3、搅拌电机，4、中空腔体，5、进料口，6、出料口，7、放料阀，8、搅拌叶，9、观察口，10、单向阀，11、加热设备，12、进水口，13、出水口，14、温度传感器。
具体实施方式：
见附图1所示，一种双层新型反应釜，包括釜体1以及位于釜体1内部的中空腔体4，从釜体1顶部进入到釜体1腔内的搅拌轴2，所述搅拌轴2的顶部连接搅拌电机3，单向阀10连接在釜体1肩部位置，所述单向阀10与釜体1连通，位于釜体1内安装由热电偶构成的温度传感器14，所述温度传感器14实时监控釜内温度，所述温度传感器14将收集数据反馈到PLC上，所述釜体1的外部布置有U型加热设备11，所述加热设备11为水循环加热系统，位于U型加热设备11一侧设有进水口12，其底部设有出水口13；所述釜体1顶部设有进料口5，其底部连接有出料口6，位于出料口6安装有放料阀7；所述搅拌轴2上设有至少两组搅拌叶8；所述搅拌叶8为弧状面，所述弧状面的弧度为45°；位于釜体1上临近进料口5旁布置有观察口9。
以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种双层新型反应釜，其特征在于：包括釜体(1)以及位于釜体(1)内部的中空腔体(4)，从釜体(1)顶部进入到釜体(1)腔内的搅拌轴(2)，所述搅拌轴(2)的顶部连接搅拌电机(3)，单向阀(10)连接在釜体(1)肩部位置，所述单向阀(10)与釜体(1)连通，位于釜体(1)内安装由热电偶构成的温度传感器(14)，所述温度传感器(14)实时监控釜内温度，所述温度传感器(14)将收集数据反馈到PLC上，所述釜体(1)的外部布置有U型加热设备(11)，所述加热设备(11)为水循环加热系统，位于U型加热设备(11)一侧设有进水口(12)，其底部设有出水口(13)。
2.根据权利要求1所述的一种双层新型反应釜，其特征在于：所述釜体(1)顶部设有进料口(5)，其底部连接有出料口(6)，位于出料口(6)安装有放料阀(7)。
3.根据权利要求2所述的一种双层新型反应釜，其特征在于：所述搅拌轴(2)上设有至少两组搅拌叶(8)。
4.根据权利要求3所述的一种双层新型反应釜，其特征在于：所述搅拌叶(8)为弧状面，所述弧状面的弧度为45°。
5.根据权利要求4所述的一种双层新型反应釜，其特征在于：位于釜体(1)上临近进料口(5)旁布置有观察口(9)。
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Publications (1)
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| CN204503064U true CN204503064U (zh) | 2015-07-29 |
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2014
- 2014-12-25 CN CN201420856420.5U patent/CN204503064U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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Granted publication date: 20150729 Termination date: 20151225 |
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