CN204455271U - 一种掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种掩膜板，包括：板体、设置于所述板体上的开口，以及根据模拟受力分析结果来减少各开口变形不均匀而设计的多个镂空孔。应用本实用新型技术方案，能够减少掩膜板两端受力而使得各开口变形不均的情形，从而提高OLED器件的良率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体器件制备技术领域，特别是涉及一种掩膜板。
背景技术
有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diodes)是自发光器件，无需背光源，外观轻而薄，并且具有显示功耗低、视角宽、屏幕响应快的优点。因此，有机发光二极管有望取代液晶显示器。
在有机发光二极管制备过程中，目前较为成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在器件制备过程中，有机材料会淀积在位于蒸发源上方的基板上，为了形成特有的图案，在基板下方紧贴有掩膜板，掩膜板上预先留有设计排版好的开口，最终有机材料会通过开口，淀积到基板上面。
在传统技术中，大尺寸基板镀膜工艺的掩膜板多采用分割式的掩膜板，通过对各个掩膜板施加一定的拉力并将掩膜板焊接到掩膜板边框上。在掩膜板的各个开口在受力拉伸的过程中，由于受力不均，使得各个开口的变形不均匀，影响了各开口的精度，从而影响了OLED器件的良率。
发明内容
基于此，有必要提供一种掩膜板，应用本发明技术方案，能够减少掩膜板两端受力而使得各开口变形不均的情形，从而提高OLED器件的良率。
一种掩膜板，包括：板体、设置于所述板体上的开口，以及根据模拟受力分析结果来减少各开口变形不均匀而设计的多个镂空孔。
上述掩膜板，包括根据模拟受力分析结果来减少各开口变形不均匀而设计的多个镂空孔，因而在掩膜板两端受力时，能够减少各开口变形不均匀的程度，从而提高OLED器件的良率。
附图说明
图1为一个实施例中的掩膜板的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
参见图1，在图中左部分为原始掩膜板的结构，该原始掩膜板包括板体以及根据有机物沉积图案而预先设计的多个开口。图1中部为原始掩膜板模拟受力分析后的变形结果。图1中的右部为根据模拟受力分析结果而设计的掩膜板，该掩膜板包括：板体、设置于所述板体上的开口，以及根据模拟受力分析结果来减少各开口变形不均匀而设计的多个镂空孔。其中，根据模拟受力分析结果而设计的多个镂空孔是不均匀的。
上述实施例中的掩膜板，包括根据模拟受力分析结果来减少各开口变形不均匀而设计的多个镂空孔，因而在掩膜板两端受力时，能够减少各开口变形不均匀的程度，从而提高OLED器件的良率。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (1)
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：板体、设置于所述板体上的开口，以及根据模拟受力分析结果来减少各开口变形不均匀而设计的多个镂空孔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420812667.7U CN204455271U (zh) | 2014-12-18 | 2014-12-18 | 一种掩膜板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420812667.7U CN204455271U (zh) | 2014-12-18 | 2014-12-18 | 一种掩膜板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN204455271U true CN204455271U (zh) | 2015-07-08 |
Family
ID=53662184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201420812667.7U Active CN204455271U (zh) | 2014-12-18 | 2014-12-18 | 一种掩膜板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| CN (1) | CN204455271U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106591775A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-04-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法 |
| CN109423600A (zh) * | 2017-08-25 | 2019-03-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜条及其制备方法、掩膜板 |
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2014
- 2014-12-18 CN CN201420812667.7U patent/CN204455271U/zh active Active
Cited By (4)
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| WO2018120727A1 (zh) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法 |
| CN106591775B (zh) * | 2016-12-26 | 2019-06-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板本体、掩膜板及其制作方法 |
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Legal Events
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