CN204374611U - 曝光机吸盘结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型是一种曝光机吸盘结构，包括涂布机吸盘（1）、凸起部位Ⅰ（11）、凹槽部位Ⅰ（12）、晶元（3）、曝光机吸盘（2）、凸起部位Ⅱ（21）和凹槽部位Ⅱ（22），所述的涂布机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅰ和凹槽部位Ⅰ，涂布机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位Ⅰ上，所述的曝光机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅱ和凹槽部位Ⅱ，曝光机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位Ⅱ上；本实用新型不仅可以提升生产效率、生产良率提高，同时可以降低返工成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种曝光机吸盘结构，属于半导体领域。
背景技术
众所周知，半导体黄光工艺包含上光阻、曝光以及显影三道工序，其中上光阻是指借助离心力将光刻胶均匀地涂布于晶元，形成光刻胶膜的过程；曝光是利用曝光光束将覆有光刻胶膜的晶元进行照射，形成图案；而显影则是最后的操作，具体是将曝光形成的排列有序的图案再经显影工序显现出来，半导体领域所使用的曝光机配件吸盘的发明，涂布工序进行时，晶元放置于涂布机吸盘凸起部位，如果晶元背面接触吸盘凸起部位的区域受到污染，在进行下道工序即曝光工序时，曝光机吸盘与晶元之间由于颗粒物质的存在，曝光时晶元各区域并不处于同一水平面（存在高度差）， 从而引发曝光离焦不良。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种曝光机吸盘结构，不仅可以提升生产效率、生产良率提高，同时可以降低返工成本。
为了实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现：一种曝光机吸盘结构，包括涂布机吸盘、凸起部位Ⅰ、凹槽部位Ⅰ、晶元、曝光机吸盘、凸起部位Ⅱ和凹槽部位Ⅱ，所述的涂布机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅰ和凹槽部位Ⅰ，涂布机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位Ⅰ上，所述的曝光机吸盘表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅱ和凹槽部位Ⅱ，曝光机吸盘表面另一侧为平面，晶元放在凸起部位Ⅱ上。
所述凸起部位Ⅱ位于凸起部位Ⅰ内中外圈的中间，凸起部位Ⅱ与凸起部位Ⅰ相互错开。
所述的凸起部位Ⅰ和凸起部位Ⅱ的尺寸相同，凹槽部位Ⅰ和凹槽部位Ⅱ的尺寸相同。
本结构中涂布机吸盘与曝光机吸盘接触到的晶元背面位置错开，即使与涂布机吸盘接触的晶元背面附着颗粒物，污染源也不会蔓延至曝光机吸盘，从而避免了因颗粒物存在而出现曝光离焦不良，可以提升生产效率、生产良率提高，同时可以降低返工成本。
附图说明
图1是涂布机吸盘结构示意图；
图2是曝光机吸盘结构示意图；
图中：1、涂布机吸盘，11、凸起部位Ⅰ，12、凹槽部位Ⅰ，3、晶元，2、曝光机吸盘，21、凸起部位Ⅱ，22、凹槽部位Ⅱ。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
如图1和图2所示，本曝光机吸盘结构，包括涂布机吸盘1、凸起部位Ⅰ11、凹槽部位Ⅰ12、晶元3、曝光机吸盘2、凸起部位Ⅱ21和凹槽部位Ⅱ22，所述的涂布机吸盘1表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅰ11和凹槽部位Ⅰ12，涂布机吸盘1表面另一侧为平面，晶元3放在凸起部位Ⅰ2上，所述的曝光机吸盘2表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅱ21和凹槽部位Ⅱ22，曝光机吸盘4表面另一侧为平面，晶元3放在凸起部位Ⅱ21上。
所述凸起部位Ⅱ5位于凸起部位Ⅰ2内中外圈的中间，凸起部位Ⅱ5与凸起部位Ⅰ2相互错开，因两种吸盘凸起部位错开，而不会污染到曝光机吸盘2，从而避免了离焦不良，不仅生产良率得到提升，而且降低了返工成本。
所述的凸起部位Ⅰ11和凸起部位Ⅱ21的尺寸相同，凹槽部位Ⅰ12和凹槽部位Ⅱ22的尺寸相同。
凸起部位Ⅰ11接触的晶元3背面，附着颗粒物被局部污染；当局部被污染的晶元3放置在曝光机吸盘2时，由于涂布机吸盘1与凸起部位Ⅱ21相互错开，故不会出现因颗粒物存在而产生晶元3倾斜，晶元3在接受曝光光束照射时处于同一水平面，对焦更为精准，曝光后形成的图形更为均匀有序。
Claims (3)
1.一种曝光机吸盘结构，其特征在于，包括涂布机吸盘（1）、凸起部位Ⅰ（11）、凹槽部位Ⅰ（12）、晶元（3）、曝光机吸盘（2）、凸起部位Ⅱ（21）和凹槽部位Ⅱ（22），所述的涂布机吸盘（1）表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅰ（11）和凹槽部位Ⅰ（12），涂布机吸盘（1）表面另一侧为平面，晶元（3）放在凸起部位Ⅰ（2）上，所述的曝光机吸盘（2）表面一侧均匀等距设置有凸起部位Ⅱ（21）和凹槽部位Ⅱ（22），曝光机吸盘（4）表面另一侧为平面，晶元（3）放在凸起部位Ⅱ（21）上。
2.根据权利要求1所述的曝光机吸盘结构，其特征在于，所述凸起部位Ⅱ（5）位于凸起部位Ⅰ（2）内中外圈的中间，凸起部位Ⅱ（5）与凸起部位Ⅰ（2）相互错开。
3.根据权利要求1所述的曝光机吸盘结构，其特征在于，所述的凸起部位Ⅰ（11）和凸起部位Ⅱ（21）的尺寸相同，凹槽部位Ⅰ（12）和凹槽部位Ⅱ（22）的尺寸相同。
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2015
- 2015-01-22 CN CN201520042567.5U patent/CN204374611U/zh not_active Expired - Fee Related
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