一种立式搅拌机
技术领域
本实用新型涉及搅拌机技术领域,具体涉及一种立式搅拌机。
背景技术
搅拌机在加工业等众多行业中使用广泛,采用搅拌机对于材料加工起到了非常重要的作用;但是,目前普通的搅拌机,结构形式单一,进行搅拌的功能少,对于立式搅拌机,其底部由于受到原材料自身重力的影响,底部搅拌以及流动速度会受到一定的影响,从而降低了搅拌效果。
此外,立式搅拌机在使用过程中,由于搅拌头在工作过程中容易发生阻滞,影响搅拌效率。特别是立式搅拌机的搅拌轴较长,搅拌轴容易发生弯曲,影响搅拌头的稳定性。
实用新型内容
本实用新型为了解决上述现有的技术缺点,提供一种立式搅拌机,其可提高搅拌机底部搅拌效果,同时搅拌轴固定性好,从而提高搅拌机的工作效率。
为实现上述目的,本实用新型的目的在于提供一种立式搅拌机,包括搅拌机本体,所述搅拌机体内设置有第一搅拌轴,该第一搅拌轴的一端与电机的转轴连接,所述第一搅拌轴的上端设置有限位装置,该限位装置设于电机转轴的下方,所述第一搅拌轴的轴向上设有若干桨叶片,所述安装于第一搅拌轴下方的桨叶片的长度大于设置于所述第一搅拌轴上方的桨叶片的长度。
所述限位装置包括一方块状的限位基体,所述限位基体的上下两侧分别设有一对梯形的限位突出,所述每对限位突出之间构成一梯形的限位槽,所述的限位突出上分别设有一连接通孔,所述限位基体的左右两侧分别设有第一固定通孔和一对第二固定通孔。
还包括第二搅拌轴,所述第二搅拌轴上从上到下依次设置有限位装置、齿轮副、浆叶片,所述第一搅拌轴上还设置有与第二搅拌轴相对应的齿轮副,所述安装于第二搅拌轴下方的桨叶片的长度大于设置于所述第二搅拌轴上方的桨叶片的长度,所述第一搅拌轴通过齿轮副带动第二搅拌轴转动。
本实用新型具有以下有益效果:搅拌机内第一搅拌轴和第二搅拌轴下方设置的浆叶片长度大于上方设置的桨叶片长度,这样可大大增加了搅拌机底部的搅拌能力,从而提高了搅拌效果以及搅拌效率;采用限位基体上设有梯形的限位槽,能牢固地抱夹住搅拌轴,大大提高了搅拌轴的稳定性,从而提高了搅拌头及搅拌浆叶片的稳定性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一种立式搅拌机的结构示意图;
图2为本实用新型限位装置立体结构示意图;
图3为图2中沿A-A向结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
参见图1、图2和图3,本实用新型的目的在于提供一种立式搅拌机,包括搅拌机本体1,所述搅拌机体1内设置有第一搅拌轴3,该第一搅拌轴3的一端与电机7的转轴6连接,所述第一搅拌轴3的上端设置有限位装置5,该限位装置5设于电机7转轴6的下方,所述第一搅拌轴3的轴向上设有若干桨叶片2,所述安装于第一搅拌轴3下方的桨叶片2的长度大于设置于所述第一搅拌轴3上方的桨叶片2的长度。
所述限位装置5包括一方块状的限位基体56,所述限位基体56的上下两侧分别设有一对梯形的限位突出51,所述每对限位突出51之间构成一梯形的限位槽52,所述的限位突出51上分别设有一连接通孔53,所述限位基体56的左右两侧分别设有第一固定通孔54和一对第二固定通孔55。
本实用新型还包括第二搅拌轴8,所述第二搅拌轴8上从上到下依次设置有限位装置5、齿轮副4、浆叶片,所述第一搅拌轴上还设置有与第二搅拌轴相对应的齿轮副,所述安装于第二搅拌轴下方的桨叶片的长度大于设置于所述第二搅拌轴上方的桨叶片的长度,所述第一搅拌轴通过齿轮副带动第二搅拌轴转动。
本实用新型可以这样使用限位装置,将两个限位基体56中的限位突出51对应连接,此时两个限位槽52的截面成为一个六边形截面,第一搅拌轴3和第二搅拌轴8则穿过限位两个限位槽52,可用长螺丝穿过两对应的限位突出上的连接通孔53固定于搅拌机体1上,同时为了更好的稳固限位装置5,还可用长螺丝穿过两对应的第一固定通孔54和两对应的第二固定通孔55,将限位装置很好地固定在搅拌机体上。
搅拌机内第一搅拌轴和第二搅拌轴下方设置的浆叶片长度大于上方设置的桨叶片长度,这样可大大增加了搅拌底部的搅拌能力,从而提高了搅拌效果以及搅拌效率;采用限位基体上设有梯形的限位槽,能牢固地抱夹住搅拌轴,大大提高了搅拌轴的稳定性,从而提高了搅拌头及搅拌浆叶片的稳定性。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。