CN204018159U - 吸附式硅片涂布旋转台 - Google Patents

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CN204018159U CN201420406595.6U CN201420406595U CN204018159U CN 204018159 U CN204018159 U CN 204018159U CN 201420406595 U CN201420406595 U CN 201420406595U CN 204018159 U CN204018159 U CN 204018159U
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许玉雷
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JINAN JINGBO ELECTRONICS Co Ltd
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JINAN JINGBO ELECTRONICS Co Ltd
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Abstract

一种吸附式硅片涂布旋转台,包括台面,其特征在于,在所述台面上设置有与其同心的,且呈阶梯状径向排列的圆环台,在所述台面的边缘设置有向圆心延伸的开口;在所述开口的末端设置有与最内侧的所述圆环台等高的挡板,所述挡板的两端与最内侧的所述圆环台连接,在所述挡板上设置有缺口。本实用新型通过在台面上设置圆环台,解决了操作人员在放置硅片时与台面不同心的问题,在台面边缘设置开口方便硅片放取;本实用新型结构简单,不仅实现了可以放置不同直径的硅片,而且成本比夹持式旋转设备底,且不容易损坏。

Description

吸附式硅片涂布旋转台
技术领域
    本实用新型涉及硅片涂布设备,具体地说是一种吸附式硅片涂布旋转台。
背景技术
目前,硅片加工涂布工艺中涂布旋转设备主要有两种,一种是夹持式,它设置有夹持装置,可以将硅片夹持在台面上;另一种是吸附式,它包括台面、转轴、马达、真空泵和开关,台面设置在转轴的顶端,在转轴的中心轴向设置一通孔,真空泵的吸气端连接到转轴的中心通孔上,马达用于驱动转轴旋转,台面为圆形平面,台面中心设置有与转轴上的通孔相同的通孔。吸附式设备在使用时,将硅片放在台面上,按下开关,马达和真空泵同时工作,硅片被吸附在台面上,开始转动,操作人员用手拿着沾有涂液的毛刷对硅片进行涂层。
但是,由于吸附式设备的台面上没有卡位装置,而且台面的直径小于硅片直径,因此,操作人员很难将硅片放在与台面同心的位置,如果硅片与台面圆心偏离较大,不仅不方便涂布,而且会造成涂布不均。
实用新型内容
为了克服上述现有技术存在的缺点,本实用新型的目的在于提供一种放置硅片方便,保证硅片与台面同心的吸附式硅片涂布旋转台。
    为了解决上述问题,本实用新型采用以下技术方案:一种吸附式硅片涂布旋转台,包括台面,其特征在于,在所述台面上设置有与其同心的,且呈阶梯状径向排列的圆环台,在所述台面的边缘设置有向圆心延伸的开口。
    进一步的,在所述开口的末端设置有与最内侧的所述圆环台等高的挡板,所述挡板的两端与最内侧的所述圆环台连接,在所述挡板上设置有缺口。
    优选的,所述开口包括上下左右对称设置的四个。
    本实用新型的有益效果是:它通过在台面上设置圆环台,解决了操作人员在放置硅片时与台面不同心的问题,在台面边缘设置开口方便硅片放取;本实用新型结构简单,不仅实现了可以放置不同直径的硅片,而且成本比夹持式旋转设备底,且不容易损坏。
附图说明
    下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明:
图1为本实用新型台面的俯视图;
图2为图1中沿A-A线剖视图。
图中,1台面、11圆环台、12开口、2挡板、21缺口。
具体实施方式
如图1和图2所示,本实用新型的具体实施例包括台面1,在所述台面1上设置有与其同心的,且呈阶梯状径向排列的圆环台11,阶梯状为从圆心向外递增,圆环台11的高度与硅片的高度相同或略小于硅片高度,这样,在涂布时,硅片边缘也能均匀涂抹。
为了方便取放硅片,在所述台面1的边缘设置有向圆心延伸的开口12,开口12为半圆弧形,优选的,所述开口12包括上下对称设置的两个和左右对称设置的两个,这样台面1就被开口12分成四个叶片,不仅方便硅片取放,而且节省了材料,降低了成本。
为了对硅片产生更大的吸附力,需要将开口12与圆环台11之间的缝隙减小,本实施例中,在所述开口12的末端设置有与最内侧的所述圆环台11等高的挡板2,挡板2与开口12末端的弧形相配合,所述挡板2的两端与最内侧的所述圆环台11连接,为了防止硅片与最内侧的圆环台及挡板2形成密闭空间,在真空泵工作时造成硅片破裂,在所述挡板2上设置有缺口21,这样,部分气体可以从缺口21通过。
以上所述只是本实用新型的优选实施方式,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也被视为本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.一种吸附式硅片涂布旋转台,包括台面,其特征在于,在所述台面上设置有与其同心的,且呈阶梯状径向排列的圆环台,在所述台面的边缘设置有向圆心延伸的开口。
2.根据权利要求1所述的吸附式硅片涂布旋转台,其特征在于,在所述开口的末端设置有与最内侧的所述圆环台等高的挡板,所述挡板的两端与最内侧的所述圆环台连接,在所述挡板上设置有缺口。
3.根据权利要求1或2所述的吸附式硅片涂布旋转台,其特征在于,所述开口包括上下左右对称设置的四个。
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Effective date of abandoning: 20170623

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