CN204011372U - 辅助照射装置及晶圆检查系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种辅助照射装置及晶圆检查系统，其中，所述辅助照射装置包括凹面反射镜及移动装置，所述凹面反射镜设置于所述移动装置上。所述晶圆检查系统包括光学显微镜、载物台及辅助照射装置；当执行晶圆检查时，将待检查晶圆置于所述载物台上，在所述辅助照射装置的配合下，所述光学显微镜对所述待检查晶圆进行检查。通过凹面反射镜能够反射晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面的情况，从而在执行晶圆检查时，能够很方便的对晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面进行检查。

Description

辅助照射装置及晶圆检查系统

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造设备技术领域，特别涉及一种辅助照射装置及晶圆检查系统。

背景技术

在集成电路制造过程中，对于晶圆的检查非常普遍，也十分重要。通过对晶圆的检查能够及时发现集成电路制造工艺中可能存在的问题，从而可以尽快加以解决，尽量防止集成电路制造工艺中的缺漏对于集成电路产品的影响；此外，通过对晶圆的检查也能够防止缺陷产品流入市场，保证了产品质量。

例如，在现有技术中，在半导体器件制作完成后，需要通过光学显微镜对晶圆进行外观检查，以检出具有明显外观缺陷，从而会影响半导体器件质量的晶圆。其中，所述外观缺陷包括破损、裂纹、划痕、附着物或者污染等。

现有技术中通常采用Lecia、ADI或者AEI等机台对晶圆进行检查。由于机台视野的受限，通常仅能够检查晶圆的正面10以及晶边的上表面11(如图1所示)，对于晶圆的背面12、晶边的侧面13以及晶边的下表面14通常没有办法检查到。但是，在有些对晶圆的检查项目中，需要获悉晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面的情况，从而更加清楚、准确的判断出晶圆的质量以及相应集成电路制造工艺的可靠性。

因此，提供一种检查晶圆的装置，其能够获悉晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面的情况，成了本领域技术人员亟待解决的一个问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种辅助照射装置及晶圆检查系统，以解决现有技术中，难以对晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面进行检查的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种辅助照射装置，所述辅助照射装置包括：凹面反射镜及移动装置，所述凹面反射镜设置于所述移动装置上。

可选的，在所述的辅助照射装置中，还包括辅助光源，所述辅助光源设置于所述移动装置上。

可选的，在所述的辅助照射装置中，所述移动装置包括基座，所述基座底部设置有滚轮。

可选的，在所述的辅助照射装置中，所述基座底部还设置有滚轮锁定装置，所述滚轮与所述滚轮锁定装置连接。

可选的，在所述的辅助照射装置中，所述移动装置包括基座，所述基座底部设置有滑块，所述滑块置于滑轨上。

可选的，在所述的辅助照射装置中，所述移动装置还包括俯仰调节器，所述俯仰调节器设置于所述基座上，所述凹面反射镜与所述俯仰调节器连接，所述俯仰调节器调节所述凹面反射镜的焦点的竖直位置。

可选的，在所述的辅助照射装置中，所述移动装置还包括旋转调节器，所述旋转调节器设置于所述基座上，所述旋转调节器与所述俯仰调节器连接，所述旋转调节器调节所述凹面反射镜的焦点的水平位置。

可选的，在所述的辅助照射装置中，所述旋转调节器在所述基座上的高度可调。

本发明还提供一种晶圆检查系统，所述晶圆检查系统包括：

光学显微镜；

载物台；及

如上所述的辅助照射装置；

当执行晶圆检查时，将待检查晶圆置于所述载物台上，在所述辅助照射装置的配合下，所述光学显微镜对所述待检查晶圆进行检查。

可选的，在所述的晶圆检查系统中，还包括校准片，所述校准片与所述待检查晶圆处于同一平面内，在所述校准片的配合下，调整所述辅助照射装置的位置。

可选的，在所述的晶圆检查系统中，所述载物台为旋转式载物台。

在本实用新型提供的辅助照射装置及晶圆检查系统中，通过凹面反射镜能够反射晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面的情况，从而在执行晶圆检查时，能够很方便的对晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面进行检查。

附图说明

图1是一晶圆的结构示意图；

图2是本实用新型实施例的辅助照射装置的结构示意图；

图3是本实用新型实施例的晶圆检查系统的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的辅助照射装置及晶圆检查系统作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

本实用新型的核心思想在于，通过凹面反射镜能够反射晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面的情况，从而在执行晶圆检查时，光学显微镜能够很方便的对晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面进行检查。

具体的，请参考图2，其为本实用新型实施例的辅助照射装置的结构示意图。如图2所示，所述辅助照射装置2包括：凹面反射镜20及移动装置21，所述凹面反射镜20设置于所述移动装置21上。在本申请实施例中，通过所述移动装置21能够使得所述凹面反射镜20的位置发生移动，从而便于所述凹面反射镜20将(待检查)晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面的情况反射出来，继而利于光学显微镜的观察，实现对晶圆的背面、晶边的侧面以及晶边的下表面进行检查。

进一步的，所述辅助照射装置2还包括辅助光源22，所述辅助光源22设置于所述移动装置21上。所述辅助光源22能够使得所述凹面反射镜20所照射的面(即需要反射的面)的亮度更高，从而使得所述凹面反射镜20所反射出来的图像更加清晰，进而便于光学显微镜的观察。

在本申请实施例中，所述移动装置21包括基座210，所述基座210底部设置有滚轮213。通过所述滚轮213的滚动，从而可以使得所述凹面反射镜20的位置发生移动。进一步的，所述基座210底部还设置有滚轮锁定装置214，所述滚轮213与所述滚轮锁定装置214连接。通过所述滚轮锁定装置214能够锁住所述滚轮213。由此，当所述凹面反射镜20到了特定的位置(即所述凹面反射镜20能够反射需要检查的面)时，通过所述滚轮锁定装置214对所述滚轮213的锁定，可以避免所述滚轮213发生滚动，造成所述凹面反射镜20发生位置偏差(即所述凹面反射镜20不能够很好的反射需要检查的面)。

在本申请的其他实施例中，所述基座210底部可以设置滑块，所述滑块置于滑轨上。通过所述滑块在所述滑轨上的移动，实现凹面反射镜20位置的移动。同时，滑块能够很稳定的停在滑轨的特定位置上，由此也能够避免凹面反射镜20到了特定的位置之后，因为滑块的误移动而发生位置的改变。

在本申请实施例中，所述移动装置21还包括俯仰调节器212，所述俯仰调节器212设置于所述基座210上，所述凹面反射镜20与所述俯仰调节器212连接，所述俯仰调节器212调节所述凹面反射镜20的焦点的竖直位置。即所述凹面反射镜20能够沿着与所述俯仰调节器212的连接线转动，从而可以在一定范围内改变所述凹面反射镜20能够反射的面，也就相当于细调所述凹面反射镜20能够反射的面。

进一步的，所述移动装置21还包括旋转调节器211，所述旋转调节器211设置于所述基座210上，所述旋转调节器211与所述俯仰调节器212连接(即在本申请实施例中，所述俯仰调节器212通过所述旋转调节器211而与所述基座210连接)，所述旋转调节器211调节所述凹面反射镜20的焦点的水平位置。即在所述旋转调节器211的(水平)转动下，所述凹面反射镜20也发生了转动。通过所述旋转调节器211转动一周，所述凹面反射镜20每个位置的焦点可以形成一个圈。同样的，由此所述凹面反射镜20可以在一定范围内改变其能够反射的面，也就相当于细调所述凹面反射镜20能够反射的面。

进一步的，所述旋转调节器211在所述基座210上的高度可调。即通过所述旋转调节器211的高度调节，可以使得所述凹面反射镜20的高度发生改变，在此也相当于调节了所述凹面反射镜20的焦点的竖直位置。

综上可见，通过所述旋转调节器211及俯仰调节器212能够进一步调整所述凹面反射镜20的位置。假设通过所述滚轮213的滚动，实现了对于凹面反射镜20位置的粗调，那么通过所述旋转调节器211及俯仰调节器212的调节，可以实现对于凹面反射镜20位置的细调。由此，能够使得所述凹面反射镜20更好的反射待检查晶圆需要检查的面(即晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面)。

进一步的，本申请实施例还提供了一种晶圆检查系统，具体的，请参考图3，其为本实用新型实施例的晶圆检查系统的结构示意图。如图3所示，所述晶圆检查系统包括：光学显微镜3；载物台4；及如上所述的辅助照射装置2；当执行晶圆检查时，将待检查晶圆6置于所述载物台4上，在所述辅助照射装置2的配合下，所述光学显微镜3对所述待检查晶圆6进行检查。

在本申请实施例中，所述晶圆检查系统还包括校准片5，所述校准片5与所述待检查晶圆6处于同一平面内，在所述校准片5的配合下，调整所述辅助照射装置2的位置。进一步的，所述载物台4为旋转式载物台，即所述载物台4能够转动，从而带动其上的待检查晶圆6进行相应的转动。

具体的，可通过如下方式对待检查晶圆进行检查(在此主要描述对待检查晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面进行检查，当对待检查晶圆的正面进行检查时，可通过现有技术实现，即仅使用光学显微镜对待检查晶圆的正面进行观察)：

移动辅助照射装置2，使得凹面反射镜20照射到待检查晶圆需要检查的面/位置A(即待检查晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面)。在此，可通过校准片5的配合，使得所述辅助照射装置2(即凹面反射镜20)移动到特定的位置，其中，所述校准片5为透明薄片，其上具有标记。具体的，将所述校准片5置于所述待检查晶圆6的同一平面内，进一步的，所述校准片5位于所述光学显微镜3的观察视野内；移动所述辅助照射装置2，当发现待检查晶圆需要检查的面/位置A上显示有所述标记，则说明所述辅助照射装置2(即凹面反射镜20)移动到了特定的位置，此时所述辅助照射装置2即可停止移动，所述辅助照射装置2将反射待检查晶圆需要检查的面/位置A。

接着，即可通过所述光学显微镜3对检查晶圆需要检查的面/位置A进行观察，即方便的实现了对晶圆的背面、晶边的侧面或者晶边的下表面的检查。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (11)

1.一种辅助照射装置，用于晶圆检查，其特征在于，包括：凹面反射镜及移动装置，所述凹面反射镜设置于所述移动装置上。

2.如权利要求1所述的辅助照射装置，其特征在于，还包括辅助光源，所述辅助光源设置于所述移动装置上。

3.如权利要求1所述的辅助照射装置，其特征在于，所述移动装置包括基座，所述基座底部设置有滚轮。

4.如权利要求3所述的辅助照射装置，其特征在于，所述基座底部还设置有滚轮锁定装置，所述滚轮与所述滚轮锁定装置连接。

5.如权利要求1所述的辅助照射装置，其特征在于，所述移动装置包括基座，所述基座底部设置有滑块，所述滑块置于滑轨上。

6.如权利要求3～5中任一项所述的辅助照射装置，其特征在于，所述移动装置还包括俯仰调节器，所述俯仰调节器设置于所述基座上，所述凹面反射镜与所述俯仰调节器连接，所述俯仰调节器调节所述凹面反射镜的焦点的竖直位置。

7.如权利要求6所述的辅助照射装置，其特征在于，所述移动装置还包括旋转调节器，所述旋转调节器设置于所述基座上，所述旋转调节器与所述俯仰调节器连接，所述旋转调节器调节所述凹面反射镜的焦点的水平位置。

8.如权利要求7所述的辅助照射装置，其特征在于，所述旋转调节器在所述基座上的高度可调。

9.一种晶圆检查系统，其特征在于，包括：

光学显微镜；

载物台；及

如权利要求1～8中任一项所述的辅助照射装置；

当执行晶圆检查时，将待检查晶圆置于所述载物台上，在所述辅助照射装置的配合下，所述光学显微镜对所述待检查晶圆进行检查。

10.如权利要求9所述的晶圆检查系统，其特征在于，还包括校准片，所述校准片与所述待检查晶圆处于同一平面内，在所述校准片的配合下，调整所述辅助照射装置的位置。

11.如权利要求9所述的晶圆检查系统，其特征在于，所述载物台为旋转式载物台。