CN203991539U

CN203991539U - 消除毛细管堵塞的装置

Info

Publication number: CN203991539U
Application number: CN201420330721.4U
Authority: CN
Inventors: 宋健
Original assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Current assignee: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
Priority date: 2014-06-19
Filing date: 2014-06-19
Publication date: 2014-12-10
Anticipated expiration: 2024-06-19

Abstract

本实用新型提供了一种消除毛细管堵塞的装置，包括：进液管以及容置清洗液的清洗瓶，所述进液管的一端连接毛细管，所述进液管的另一端插入所述清洗瓶内容置的清洗液中，清洗液通过进液管进至毛细管中，与毛细管中的堵塞物发生反应，以达到清除毛细管的堵塞的目的；并且，所述进液管插入清洗瓶中且位于所述清洗液面之下，方便清洗液进入进液管中；毛细管的另一端通过出液管连接至废液瓶，使得清洗液与堵塞物反应之后的废液流至废液瓶，方便废液的收集；在清洗瓶的进气管上安装有压力平衡阀，以保证清洗瓶中的清洗液连续的进入毛细管；同时，在出液管上安装有单向三通阀，单向三通阀的第三接口连接有蠕动泵，以保证整个装置的脉冲式负压。

Description

消除毛细管堵塞的装置

技术领域

本实用新型涉集成电路制造技术领域，具体涉及一种消除毛细管堵塞的装置。

背景技术

在半导体的制造过程中，使用到的化学试剂中一般都含有金属杂质，而金属杂质的含量对半导体的制程有重要影响，例如，晶片会受到金属杂质的污染。因此，需要对化学试剂中的金属杂质的含量进行分析和监控。

现有技术中，通常采用电感耦合离子质谱分析法(Inductively Coupled PlasmaMass Spectrometry，ICP-MS)与石墨炉原子吸收光谱分析法(Graphite FurnaceAtomic Absorption Spectrometry，GFAAS)对化学试剂中的金属杂质的含量进行分析。在ICP-MS与GFAAS中都含有毛细管的进样结构，以保证微流进样，一般的进样流量规格是100～200ul/min。

由于在平常分析的化学试剂的样品中，大部分含有氟化氢腐蚀下来的含有硅的物质、光刻胶等有机物、金属氧化物等，容易堵塞毛细管的进样器，导致ICP-MS或GFAAS设备不可用，所以如何消除半导体工业中毛细管的堵塞是一个重要的课题。

目前消除堵塞，常规的方法是超生震荡清洗，但是由于毛细管较细的结构以及部分堵塞物不溶于水的原因，上述方法的效果不大，因此，需要经常更换毛细管以保证ICP-MS或GFAAS设备可以正常运作。但是，毛细管的价格比较昂贵，增加了分析金属含量的成本。

因此，亟需提供一种消除毛细管堵塞的装置，以方便、安全、快捷的消除毛细管的堵塞，减少成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种消除毛细管堵塞的装置，用于解决现有技术中毛细管的堵塞无法完全消除导致需要更换毛细管的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种消除毛细管堵塞的装置，其包括：进液管以及容置清洗液的清洗瓶，所述进液管的一端连接毛细管，所述进液管的另一端插入所述清洗瓶内容置的清洗液中。

可选的，还包括出液管以及容置废液的废液瓶，所述出液管的一端连接所述毛细管，所述出液管的另一端插入所述废液瓶中；所述出液管的另一端位于所述废液的液面之上。

可选的，所述毛细管在进液管与出液管之间的安装方向与所述毛细管使用时进样的方向相反。

可选的，还包括进气管以及设置于所述进气管上的压力平衡阀，所述进气管插入所述清洗瓶中。

可选的，还包括设置于所述出液管上的单向三通阀；所述单向三通阀呈T型，包括第一接口、第二接口与第三接口，所述第二接口垂直于所述第一接口与所述第三接口。

可选的，所述单向三通阀的第一接口通过出液管连接至毛细管，第二接口通过出液管连接至废液瓶。

可选的，还包括导管以及蠕动泵，所述单向三通阀的第三接口通过所述导管连接至所述蠕动泵。

可选的，还包括设置于所述第二接口上的瓣膜，通过所述瓣膜使所述毛细管至所述废液瓶为单向通道

与现有技术相比，本实用新型的消除毛细管堵塞的装置具有以下有益效果：

1、所述消除毛细管堵塞的装置包括进液管以及容置清洗液的清洗瓶，通过将毛细管的一端通过进液管连接至清洗瓶，在清洗瓶中放置有清洗液，清洗液通过进液管进至毛细管中，与毛细管中的堵塞物发生反应，以达到清除毛细管的堵塞的目的；并且，所述进液管插入清洗瓶中且位于所述清洗液面之下，方便清洗液进入进液管中；

2、所述消除毛细管堵塞的装置还包括出液管以及容置废液的废液瓶，毛细管的另一端通过出液管连接至废液瓶，使得清洗液与堵塞物反应之后的废液流至废液瓶，方便废液的收集，同时，所述进液管插入废液瓶中且位于所述废液面之上，防止废液进入出液管中；

3、所述消除毛细管堵塞的装置的清洗瓶上连接有进气管，并且在进气管上安装有压力平衡阀，以保证清洗瓶中的清洗液连续的进入毛细管以清除堵塞；在出液管上安装有单向三通阀，单向三通阀的第三接口连接有蠕动泵，以保证整个装置的脉冲式负压，并且连接至废液瓶的第二接口上设置有瓣膜，保证废液流向废液瓶而不进入蠕动泵。

附图说明

图1为本实用新型一实施例所提供的消除毛细管堵塞的装置的结构示意图。

图2为本实用新型一实施例所提供的消除毛细管堵塞的装置中单向三通阀的放大示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。

本实用新型可以利用多种替换方式实现，下面通过较佳的实施例来加以说明，当然本实用新型并不局限于该具体实施例，本领域内的普通技术人员所熟知的一般的替换无疑涵盖在本实用新型的保护范围内。

其次，本实用新型利用示意图进行了详细的描述，在详述本实用新型实施例时，为了便于说明，示意图不依一般比例局部放大，不应以此作为对本实用新型的限定。

请参考图1，其为本实用新型一实施例所提供的消除毛细管堵塞的装置的结构示意图，如图1所示，所述消除毛细管堵塞的装置包括：进液管12以及容置清洗液的清洗瓶11，所述进液管12的一端连接至毛细管10，所述进液管12的另一端插入所述清洗瓶11内容置的清洗液中。

清洗液可以通过进液管11进至毛细管10中，与毛细管10的堵塞物发生反应，以达到清除毛细管10的堵塞的目的，并且，所述进液管12插入清洗瓶11中且位于所述清洗液面之下，方便清洗液进入进液管12中。所述清洗液可以是氟化氢(HF)、硝酸(HNO₃)、双氧水(H₂O₂)与去离子水(DIW)的混合物，其均是针对半导体工业中出现的各种杂质，例如：HF针对半导体工业中含硅的杂质，HNO₃针对半导体工业中的金属氧化物杂质，H₂O₂针对半导体工业中有机物杂质，所述混合物中各物质的含量百分比可以根据实际需要清除的毛细管中堵塞物的材质来确定，当然也可以选择其他本领域技术人员已知的其他材质来清除毛细管；可以理解的是，所述清除毛细管堵塞的装置并不局限于半导体工业中，也可以应用于其他的领域，需要根据毛细管中堵塞物的成分来确定清洗液的成分。

所述消除毛细管堵塞的装置还包括：出液管14以及容置废液的废液瓶13，所述出液管14的一端连接至所述毛细管10，所述出液管14的另一端插入所述废液瓶13中；所述出液管14的另一端位于所述废液的液面之上，防止废液进入出液管14中。

本实施例中，所述毛细管10在进液管12与出液管14之间的安装方向与所述毛细管使用时进样的方向相反，如图1所示，具体的为：将毛细管10与进液管12连接的一端标示为101，与出液管14连接的另一端标示为102，所述毛细管10在设备上使用时样品流动的方向是从102至101，而在清楚堵塞时毛细管中清洗液流动的方向与使用时的进样方向相反，以保证堵塞物的高效去除；可以理解的是，在其他实施例中，所述毛细管10在进液管12与出液管14之间的安装方向与所述毛细管10使用时进样的方向也可以相同，只需达到清除堵塞的目的即可。

所述清洗瓶11上还连接有进气管15，向所述清洗瓶11通入气体，在所述进气管15上安装有压力平衡阀16，保证清洗液可以连续的进入毛细管10以清除堵塞。所述进气管16插入所述清洗瓶11中并位于所述清洗液面之上。

在所述出液管14上安装有单向三通阀17，所述单向三通阀17呈T型，包括第一接口171、第二接口172、第三接口173，具体请参见图2，所述第二接口172垂直于所述第一接口171与所述第三接口173；在其他实施例中，所述单向三通阀17也可以采用其他的形状，例如Y型。所述第一接口171通过出液管14连接至所述毛细管10，所述第二接口172通过出液管14连接至所述废液瓶13，所述第三接口通过导管连接至蠕动泵18，所述蠕动泵18保证整个装置的脉冲式负压。在所述第二接口172上设置有瓣膜，可以打开与关闭，保证废液流向废液瓶13而不是蠕动泵17，并且从所述毛细管10至所述废液瓶为单向通道。

由于蠕动泵17提供的额是脉冲式负压，当所述蠕动泵17提供负压时，由于压力的作用第二接口172的瓣膜闭合，装置中从第一接口171至清洗瓶11都处于负压，清洗液通过出液管12进入毛细管10，与堵塞物发生反应；当所述蠕动泵17不提供负压时，第二接口172的瓣膜打开，反应产物废液流入废液瓶13中。从图2中可以看出，第三接口173在所述单向三通阀17中的导管是朝向第二接口172的，可以防止废液进入蠕动泵17中，也可以方便第二接口172瓣膜的关闭与打开。

综上所述，所述消除毛细管堵塞的装置包括进液管以及容置清洗液的清洗瓶，通过将毛细管的一端通过进液管连接至清洗瓶，在清洗瓶中放置有清洗液，清洗液通过进液管进至毛细管中，与毛细管中的堵塞物发生反应，以达到清除毛细管的堵塞的目的；并且，所述进液管插入清洗瓶中且位于所述清洗液面之下，方便清洗液进入进液管中；所述消除毛细管堵塞的装置还包括出液管以及容置废液的废液瓶，毛细管的另一端通过出液管连接至废液瓶，使得清洗液与堵塞物反应之后的废液流至废液瓶，方便废液的收集，同时，所述进液管插入废液瓶中且位于所述废液面之上，防止废液进入出液管中；所述消除毛细管堵塞的装置的清洗瓶上连接有进气管，并且在进气管上安装有压力平衡阀，以保证清洗瓶中的清洗液连续的进入毛细管以清除堵塞；在出液管上安装有单向三通阀，单向三通阀的第三接口连接有蠕动泵，以保证整个装置的脉冲式负压，并且连接至废液瓶的第二接口上设置有瓣膜，保证废液流向废液瓶而不进入蠕动泵。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims

1.一种消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，包括进液管以及容置清洗液的清洗瓶，所述进液管的一端连接毛细管，所述进液管的另一端插入所述清洗瓶内容置的清洗液中。

2.如权利要求1所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，还包括出液管以及容置废液的废液瓶，所述出液管的一端连接所述毛细管，所述出液管的另一端插入所述废液瓶中。

3.如权利要求2所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，所述出液管的另一端位于所述废液的液面之上。

4.如权利要求1所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，所述毛细管在进液管与出液管之间的安装方向与所述毛细管使用时进样的方向相反。

5.如权利要求1所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，还包括进气管以及设置于所述进气管上的压力平衡阀，所述进气管插入所述清洗瓶中。

6.如权利要求2所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，还包括设置于所述出液管上的单向三通阀。

7.如权利要求6所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，所述单向三通阀呈T型，包括第一接口、第二接口与第三接口，所述第二接口垂直于所述第一接口与所述第三接口。

8.如权利要求7所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，所述单向三通阀的第一接口通过出液管连接至毛细管，第二接口通过出液管连接至废液瓶。

9.如权利要求8所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，还包括导管以及蠕动泵，所述单向三通阀的第三接口通过所述导管连接至所述蠕动泵。

10.如权利要求9所述的消除毛细管堵塞的装置，其特征在于，还包括设置于所述第二接口上的瓣膜，通过所述瓣膜使所述毛细管至所述废液瓶为单向通道。