CN203950241U - 旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置 - Google Patents

Abstract

一种旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置。旋钮帽盖包括一帽盖本体及一集尘结构。帽盖本体包含一操作端及一卡合端。集尘结构设置于卡合端。集尘结构包括一由卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由底盘的周缘向操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于挡壁与帽盖本体的外表面间的集尘沟。电子装置包括一壳体、一旋钮帽盖及一电路组件。壳体具有一穿孔。电路组件具有一设置有一旋钮单元的电路基板。旋钮帽盖套设于旋钮单元上，且旋钮帽盖穿过穿孔，而旋钮帽盖的外表面与穿孔间形成有一间隙。集尘沟邻近于间隙，可承接由间隙进入的细小物体，借以可有效阻挡这些细小物体进入电路组件，可避免这些细小物体造成电路组件毁坏、降低电子装置使用寿命的问题。

Description

旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置

技术领域

本实用新型涉及一种旋钮帽盖及具有旋钮帽盖的电子装置，特别涉及一种具有集尘结构的旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置。

背景技术

常见设置于电子装置上的旋钮，通常是由一旋钮帽盖套设于可变电阻上所组成。而且，为了使旋钮可以顺畅地旋转，旋钮帽盖与电子装置的壳体间，常设计有一预定的间隙，以确保旋钮帽盖于旋转过程中不受壳体的干涉。然而，在实际应用中，当电子装置处于相对较差的作业环境中时，环境中的细小物体，例如粉尘、灰尘、木屑或是悬浮粒子等，将容易由该预定的间隙进入电子装置中，进而堆积于电子装置内部的电路板上，可能造成电路板的电子元件的使用寿命减少，甚至是短路而毁坏等问题，如此将大幅降低该电子装置的使用寿命，而间接使得成本上升。因此，本实用新型发明人乃潜心研究并配合学理的运用，而提出一种设计合理且有效改善上述问题的本实用新型。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置，用以解决现有技术中，灰尘或是其他细小物体，会经由旋钮帽盖与壳体的穿孔间的间隙进入电子装置内，进而堆积在电路板上，可能造成电子元件短路、毁坏或是使得电路板毁坏等，进而造成电子装置寿命减少的问题。

本实用新型的主要目的在于提供一种旋钮帽盖，其包括：一帽盖本体及一集尘结构。帽盖本体包含一操作端及一卡合端。集尘结构设置于卡合端。集尘结构包括一由卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由底盘的周缘向操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于挡壁与帽盖本体的外表面间的集尘沟。

根据本实用新型的一实施方式，帽盖本体穿设于一壳体的一穿孔时，帽盖本体的外表面与穿孔间形成有一间隙，集尘沟对应位于间隙下方。

根据另一实施方式，集尘沟的宽度大于或等于间隙宽度。

根据另一实施方式，挡壁位于壳体的下方，且当帽盖本体受拉力而向上移动时，挡壁抵顶于壳体的内侧。

根据另一实施方式，集尘结构还包括一缓降壁，缓降壁由帽盖本体的卡合端，向外向下延伸形成，而底盘是由缓降壁的周缘向外延伸形成。

根据另一实施方式，缓降壁包含一由卡合端向下向外延伸形成的倾斜部，及一由倾斜部向下延伸形成的垂直部。

根据另一实施方式，帽盖本体穿设于一壳体的一穿孔时，帽盖本体的外表面与穿孔间形成有一间隙，缓降壁的倾斜部对应位于间隙下方，以导引由间隙进入的细小物体进入集尘沟。

本实用新型的另一目的在于提供一种电子装置，其包括：一壳体、一旋钮帽盖及一电路组件。壳体具有一穿孔。旋钮帽盖包含：一帽盖本体及一集尘结构。帽盖本体包含一操作端及一卡合端。集尘结构设置于卡合端，集尘结构包括一由卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由底盘的周缘向操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于挡壁与帽盖本体的外表面间的集尘沟。电路组件具有一设置有一旋钮单元的电路基板。其中，旋钮帽盖套设于旋钮单元上，且旋钮帽盖穿过穿孔，而旋钮帽盖的外表面与穿孔间形成有一间隙，集尘沟对应邻近于间隙，以承接由间隙进入的细小物体。

根据另一实施方式，壳体邻近于穿孔的周缘处，具有一环状遮蔽结构，集尘结构对应位于环状遮蔽结构下方，当帽盖本体受拉力而向上移动时，挡壁抵顶于环状遮蔽结构。

根据另一实施方式，集尘结构还包括一缓降壁，缓降壁由帽盖本体的卡合端，向外向下延伸形成，而底盘是由缓降壁的周缘向外延伸形成。

根据另一实施方式，缓降壁包含一由卡合端向下向外延伸形成的倾斜部，及一由倾斜部向下延伸形成的垂直部，以导引由间隙进入的细小物体进入集尘沟。

根据另一实施方式，环状遮蔽结构对应于挡壁具有一第一承抵部，而对应于倾斜部具有一第二承抵部，当帽盖本体受拉力而向上移动时，挡壁对应抵顶于第一承抵部，而倾斜部对应抵顶于第二承抵部。

根据另一实施方式，环状遮蔽结构由穿孔的侧壁依序沿垂直方向及水平方向延伸形成，且环状遮蔽结构的内侧表面与集尘结构的缓降壁间，形成有一弯曲通道。

本实用新型的有益效果在于：通过旋钮帽盖的集尘沟，可以有效拦截并收集由旋转帽盖与壳体的穿孔间的间隙进入的环境中的细小物体，例如灰尘、木屑等，以避免这些细小物体进入电子装置内部，而可能造成电路板、电子元件等毁坏，进而造成电子装置寿命减少的问题。

为使能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，然而所附附图仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。

附图说明

图1为本实用新型的旋钮帽盖的立体示意图。

图2为本实用新型的旋钮帽盖的剖面示意图。

图3为本实用新型的旋钮帽盖穿设于壳体的穿孔的剖面示意图。

图4为图3中的圈选处A的局部放大示意图。

图5为本实用新型的具有旋钮帽盖的电子装置的分解图。

图6为本实用新型的具有旋钮帽盖的电子装置的组装示意图。

图7为本实用新型的具有旋钮帽盖的电子装置的剖面示意图。

图8为图7中的圈选处B的局部放大示意图。

其中，附图标记说明如下：

旋钮帽盖         1

电子装置         2

帽盖本体         10

操作端           101

卡合端           102

集尘结构         20

底盘             21

挡壁             22

集尘沟           23

缓降壁           24

倾斜部           241

垂直部           242

壳体             30

穿孔             301

穿孔             302

环状遮蔽结构     31

第一承抵部       311

第二承抵部       312

电路组件         40

旋钮单元         41

电子单元         42

弯曲通道         C

间隙             S

具体实施方式

以下借由特定的具体实例说明本实用新型的旋钮帽盖及具有该旋钮帽盖的电子装置的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型亦可借由其他不同的具体实例加以施行或应用，本说明书中的各项细节亦可基于不同观点与应用，在不悖离本实用新型的精神下进行各种修饰与变更。并且，本实用新型的附图仅为简单说明，并非依实际尺寸描绘，亦即未反应出相关构成的实际尺寸，先予说明。以下的实施方式进一步详细说明本实用新型的观点，但并非以任何观点限制本实用新型。

第一实施例

请一并参阅图1及图2，其为本实用新型的旋钮帽盖的实施例的示意图。如图所示，旋钮帽盖1包含一帽盖本体10及一集尘结构20。帽盖本体10包含有一操作端101及一卡合端102。操作端101用以供使用者握持，以旋转帽盖本体10，实际实施中，操作端101可依需求加设防滑结构(图未标示)或是相关指示结构(图未标示)，于此不加限制。

集尘结构20设置于卡合端102，且集尘结构20包含：一底盘21、一挡壁22及一集尘沟23。底盘21是由帽盖本体10的卡合端102向外延伸形成，挡壁22则由底盘21的周缘向上延伸形成，而挡壁22与帽盖本体10间，以此形成集尘沟23。于本实施例附图中，挡壁22是以垂直的壁面为例，但不局限于此，其外观可依据需求加以变更设计，例如挡壁22的顶端可以是向卡合端102延伸形成的倒钩状(图未示)，又或者，挡壁22可以是向远离或接近帽盖本体10的方向倾斜。其中，关于集尘沟23的外观、宽度及深度等，于此不多加限制，可依实际需求加以设计。

另外，较佳地，集尘结构20还可以包含有一由卡合端102向外向下延伸所形成的缓降壁24，而底盘21则可以是由缓降壁24向外延伸所形成的。缓降壁24可以包含有一由卡合端102向外延伸形成的倾斜部241及一由该倾斜部241向下延伸形成的垂直部242。或者，帽盖本体10的卡合端102可以是向下向外延伸形成倾斜部241，而倾斜部241再向下延伸形成垂直部242，垂直部242则再向外延伸形成底盘21，最后底盘21的周缘再向操作端101方向向上延伸形成挡壁22，并以此形成集尘沟23。换言之，帽盖本体10、缓降壁24、底盘21及挡壁22可以是一体成型的设置。

如图3、4所示，旋钮帽盖1穿设于一壳体30的穿孔301中，而帽盖本体10的外表面与穿孔301间，具有一间隙S，以使旋钮帽盖1可自由地于穿孔301中受控制地旋转作动。其中，旋钮帽盖1的集尘结构20即对应位于间隙S下方，举例来说，可以是如同附图中所绘示，缓降壁24对应位于间隙S的下方，当然，缓降壁24的外观形式并不局限于附图中所绘示的形式，可依据实际需求加以设计，例如，垂直部242可以是并非垂直设置于底盘21上，而可以是向远离帽盖本体10的外表面的方向倾斜的结构。

当细小物体(例如粉尘、木屑、灰尘等)由间隙S进入时，这些细小物体将可沿着缓降壁24的倾斜部241及垂直部242的导引，集中落入集尘沟23中，而不会落入旋钮帽盖1下方的电路板(图未标示)上，借以可有效避免电路板受这些细小物体的影响，而造成损毁或是使用寿命减少的问题。其中，缓降壁24的倾斜部241的倾斜度，可以是趋于平缓，让由间隙S进入的细小物体，可以先行堆积于倾斜部241，而堆积至一定量后，才向下落入至集尘沟23中。换言之，于实际应用中，可以通过调整倾斜部241的斜率，以使倾斜部241作为阻挡细小物体进入电路板的第一道防线，或者是使倾斜部241作为导引细小物体进入集尘沟23的导引壁。

另外，值得一提的是，当帽盖本体10的操作端101受力拉动时，缓降壁24的倾斜部241将可抵顶于穿孔301的侧壁，而使得旋钮帽盖1不被拔离穿孔301；换言之，本实施例所载的缓降壁24不但可以达到协助导引由间隙S进入的细小物体落入集尘沟23的功效外，还可同时达到防止旋钮帽盖1被拔离穿孔301的功效。

特别说明的是，于本实施例附图中，是以集尘结构具有缓降壁为例，但实际应用不局限于此，集尘结构亦可以是不具有缓降壁(图未示)的设计；而，不具有缓降壁的集尘结构，当旋钮帽盖穿设于穿孔中时，集尘沟可以是直接对应位于间隙的下方，以使由间隙进入的细小物体可直接落入集尘沟中；且较佳地集尘沟的宽度可以是大于间隙的宽度，而使挡壁位于壳体下方，借以当帽盖本体的操作端受拉力时，挡壁可抵顶于壳体的内表面，而使旋钮帽盖免于被拔离穿孔。

综合上述，本实施例的旋钮帽盖，通过集尘结构的集尘沟，而可有效地阻挡并收集，由旋钮帽盖与穿孔的间隙进入的细小物体，以此可有效保护位于旋钮帽盖下方的电路板，免于受细小物体的污染而影响其运作；且本实施例还通过集尘结构的缓降壁的结构设计，以有效地导引由间隙进入的细小物体，移动至集尘沟中，并且缓降壁的倾斜部还可提供用以细小物体堆积的区域。换言之，本实施例的缓降壁的倾斜部，不但可以导引细小物体进入集尘沟外，还可用以堆积细小物体。

又，本实施例的集尘结构位于壳体下方，而非对应位于穿孔的下方，借以当旋钮帽盖的操作端受拉力时，通过集尘结构的挡壁或是缓降壁与壳体的相互抵顶，而可使旋钮帽盖免于被拔离穿孔。换言之，本实施例所举的旋钮帽盖通过集尘结构不但可有效阻挡并收集由间隙进入的细小物体外，还可有效防止旋钮帽盖被拔离于壳体的穿孔。

第二实施例

请一并参阅图5至图8，其为本实用新型的具有旋钮帽盖的电子装置的实施例示意图。如图5、6所示，电子装置2包含：一壳体30、一旋钮帽盖1及一电路组件40。壳体30具有至少一个穿孔；于本实施例附图中，是以两个穿孔301、302为例(穿孔301用以提供旋钮帽盖1设置，穿孔302用以提供其他电子元件设置)，但不局限于此。其中，壳体30邻近于穿孔301的周缘，还可以包含有一环状遮蔽结构31，用以遮蔽部分的穿孔301的周缘。旋钮帽盖1具有一帽盖本体10及一集尘结构20。关于旋钮帽盖1的详细结构及其连接关系，与上述实施例相同，于此不多加赘述。电路组件40具有一旋钮单元41及至少一个电子单元42；本实施例中，旋钮单元41是以可旋转的可变电阻为例，但实际应用不局限于此；电子单元42是以显示单元为例，亦不局限于此。其中，关于电子单元42与穿孔302的形式及其相互关系，并非本实用新型的技术重点，于此不多加着墨。

如图7、8所示，其显示旋钮帽盖1套设于旋钮单元41，且穿过穿孔301的侧面剖视图。环状遮蔽结构31可以是壳体30表面由穿孔301的侧壁延伸形成，而与帽盖本体10的外表面，形成有一间隙S；帽盖本体10的集尘结构20则位于环状遮蔽结构31的下方。

更详细地说，环状遮蔽结构31可以是由穿孔301的侧壁，先向垂直方向(平行于穿孔301的中心线)延伸后，再向水平方向(朝向穿孔301的中心)延伸形成的，以此可使环状遮蔽结构31的内侧表面与集尘结构20的缓降壁24间，形成有一弯曲通道C。其中，环状遮蔽结构31向垂直方向延伸的侧壁，可以是对应位于集尘沟23的上方；而且，环状遮蔽结构31向水平方向延伸的侧壁，则可以是对应位于倾斜部241的上方，亦即，环状遮蔽结构31的内侧壁可以是对应于集尘结构20的形状外观。较佳地，集尘沟23的宽度可以是大于或等于环状遮蔽结构31向垂直方向延伸的侧壁与缓降壁24的垂直部242的间隔距离，借以集尘沟23可有效地承接由弯曲通道C落下的细小物体。

具体来说，细小物体多是受重力作用，而由间隙S进入电子装置2内，其穿过间隙S，以进入弯曲通道C后，将因为弯曲通道C的水平及垂直方向组成的弯曲结构，而不易持续地向下移动，亦即大部分的细小物体，由间隙S进入弯曲通道C后，将直接堆积于缓降壁24的倾斜部241上；而，少部分的细小物体，将沿着倾斜部241向下移动，并受限于环状遮蔽结构31向垂直方向延伸的侧壁与缓降壁24的垂直部242，而集中落入集尘沟23中，亦即部分的未堆积于倾斜部241的细小物体，将受环状遮蔽结构31向垂直方向延伸的侧壁及垂直部242的导引，而落入集尘沟23中。换言之，本实施例通过环状遮蔽结构31配合集尘结构20，以形成弯曲通道C，以此阻挡并收集由间隙S进入的细小物体，以有效大幅降低细小物体进入电路组件40中的机率，进而可有效解决电路组件40因细小物体的进入后，而可能发生的毁坏或是使用寿命减少的问题。

另外，值得一提的是，环状遮蔽结构31由穿孔301向垂直方向延伸并向水平方向延伸后，于其侧壁同时形成有一第一承抵部311及一第二承抵部312；其中，第一承抵部311即对应于集尘结构20的挡壁22，而第二承抵部312则对应于集尘结构20的缓降壁24；借以，当帽盖本体10的操作端101受拉力时，集尘结构20的缓降壁24及挡壁22可对应抵顶于第一承抵部311及第二承抵部312，以有效避免帽盖本体10被拔离穿孔301。

综合上述，本实施例所举的电子装置，其通过设置于穿孔周缘的环状遮蔽结构与旋钮帽盖的集尘结构，对应形成弯曲通道，以此使由间隙进入的细小物体，不易持续向下移动，而多是堆积于缓降壁的倾斜部或是集尘沟中，以防止细小物体进入电路组件，而可能造成电路组件毁坏的问题；且通过与集尘结构相对应的外型的环状遮蔽结构的第一承抵部及第二承抵部，以此可有效避免旋钮帽盖被拔离穿孔。

以上所述仅为本实用新型的较佳可行实施例，非因此局限本实用新型，故凡运用本实用新型说明书及附图内容所做的等效技术变化，均包含于本实用新型的权利要求书范围内。

Claims (13)

1.一种旋钮帽盖，其特征在于，所述旋钮帽盖包括： 

一帽盖本体，所述帽盖本体包含一操作端及一卡合端；以及 

一集尘结构，所述集尘结构设置于所述卡合端，所述集尘结构包括一由所述卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由所述底盘的周缘向所述操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于所述挡壁与所述帽盖本体的外表面间的集尘沟。 

2.如权利要求1所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述帽盖本体穿设于一壳体的一穿孔时，所述帽盖本体的外表面与所述穿孔间形成有一间隙，所述集尘沟对应位于所述间隙下方。 

3.如权利要求2所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述集尘沟的宽度大于或等于所述间隙宽度。 

4.如权利要求3所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述挡壁位于所述壳体的下方，且当所述帽盖本体受拉力而向上移动时，所述挡壁抵顶于所述壳体的内侧。 

5.如权利要求1所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述集尘结构还包括一缓降壁，所述缓降壁由所述帽盖本体的所述卡合端，向外向下延伸形成，而所述底盘是由所述缓降壁的周缘向外延伸形成。 

6.如权利要求5所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述缓降壁包含一由所述卡合端向下向外延伸形成的倾斜部，及一由所述倾斜部向下延伸形成的垂直部。 

7.如权利要求6所述的旋钮帽盖，其特征在于，所述帽盖本体穿设于一壳体的一穿孔时，所述帽盖本体的外表面与所述穿孔间形成有一间隙，所述缓降壁的所述倾斜部对应位于所述间隙下方，以导引由所述间隙进入的细小物体进入所述集尘沟。 

8.一种电子装置，其特征在于，所述电子装置包含： 

一壳体，所述壳体具有一穿孔； 

一旋钮帽盖，所述旋钮帽盖包含： 

一帽盖本体，所述帽盖本体包含一操作端及一卡合端；以及 

一集尘结构，所述集尘结构设置于所述卡合端，所述集尘结构包括一由所述卡合端的周缘向外延伸形成的底盘、一由所述底盘的周缘向所述操作端方向延伸形成的挡壁及一形成于所述挡壁与所述帽盖本体的外表面间的集尘沟；以及 

一电路组件，所述电路组件具有一设置有一旋钮单元的电路基板； 

其中，所述旋钮帽盖套设于所述旋钮单元上，且所述旋钮帽盖穿过所述穿孔，而所述旋钮帽盖的外表面与所述穿孔间形成有一间隙，所述集尘沟对应位于所述间隙下方。 

9.如权利要求8所述的电子装置，其特征在于，所述壳体邻近于所述穿孔的周缘处，具有一环状遮蔽结构，所述集尘结构对应位于所述环状遮蔽结构下方，当所述帽盖本体受拉力而向上移动时，所述挡壁抵顶于所述环状遮蔽结构。 

10.如权利要求9所述的电子装置，其特征在于，所述集尘结构还包括一缓降壁，所述缓降壁由所述帽盖本体的所述卡合端，向外向下延伸形成，而所述底盘是由所述缓降壁的周缘向外延伸形成。 

11.如权利要求10所述的电子装置，其特征在于，所述缓降壁包含一由所述卡合端向下向外延伸形成的倾斜部，及一由所述倾斜部向下延伸形成的垂直部，以导引由所述间隙进入的细小物体进入所述集尘沟。 

12.如权利要求11所述的电子装置，其特征在于，所述环状遮蔽结构对应于所述挡壁具有一第一承抵部，而对应于所述倾斜部具有一第二承抵部，当所述帽盖本体受拉力而向上移动时，所述挡壁对应抵顶于所述第一承抵部，而所述倾斜部对应抵顶于所述第二承抵部。 

13.如权利要求10所述的电子装置，其特征在于，所述环状遮蔽结构由所述穿孔的侧壁依序沿垂直方向及水平方向延伸形成，且所述环状遮蔽结构的内侧表面与所述集尘结构的所述缓降壁间，形成有一弯曲通道。