CN203946907U - 高精度除硅设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种有效将处理水中的硅油回收利用，有效提高回收效率，同时处理后的废水可达到饮用级标准的高精度除硅设备。包括机架、以及设置在机架内的真空蒸馏罐、导流冷凝机构、冷却罐机构和硅油回收装置，其中：真空蒸馏罐的顶部连接导流冷凝机构、并在底部设置有排水阀；导流冷凝机构包括硅油导流管以及设置在硅油导流管外侧的第一冷却装置，硅油导流管的进口端和出口端分别与真空蒸馏罐和冷却罐机构相通；冷却罐机构包括硅油冷却罐以及设置在硅油冷却罐外侧的第二冷却装置；硅油回收装置包括与冷却罐机构相通的硅油箱。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种硅胶废水回收处理装置，尤其涉及一种高精度除硅设备。
背景技术
众所周知，硅胶生产过程中不可避免地会产生大量硅胶废水，硅胶废水的主要成分为硫酸钠，浓度可达到4％，另外还含有高含量的硅化合物(如硅油)、清洗剂、以及少量的氯离子、钙离子和镁离子；由于清洗剂在硅胶生产过程中可以回收利用，而硅化合物又具有一定的污染性，例如硅可沉积在水处理膜的表面引起膜分离性能下降，且生成的硅垢几乎没有办法去除，会对膜产生永久性的损伤，因而现有技术中对于硅胶废水的主要处理过程，主要是通过真空蒸馏的方式，将清洗剂真空蒸馏挥发出去以回收利用，然后剩下包括硫酸钠等离子型的沉淀以及硅化合物，即使进一步处理如过滤，将离子型沉淀除去，剩余的“处理水”中仍然存在较多的硅化物，难以达到纯净处理硅胶废水的目的；然而，在硅胶生产过程中产生的硅油，本身又具有较高的使用价值，现有技术中难以将处理水中的这一部分硅油回收利用。
有鉴于上述的缺陷，本设计人，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的高精度除硅设备，使其更具有产业上的利用价值。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种有效将处理水中的硅油回收利用，有效提高回收效率，同时处理后的废水可达到饮用级标准的高精度除硅设备。
本实用新型的高精度除硅设备，包括机架、以及设置在机架内的真空蒸馏罐、导流冷凝机构、冷却罐机构和硅油回收装置，其中：
所述真空蒸馏罐的顶部连接所述导流冷凝机构、并在底部设置有排水阀；
所述导流冷凝机构包括硅油导流管以及设置在硅油导流管外侧的第一冷却装置，所述硅油导流管的进口端和出口端分别与所述真空蒸馏罐和冷却罐机构相通；
所述冷却罐机构包括硅油冷却罐以及设置在硅油冷却罐外侧的第二冷却装置；
所述硅油回收装置包括与所述冷却罐机构相通的硅油箱。
进一步的，所述真空蒸馏罐的内部设置有温度传感器和气压传感器，所述真空蒸馏罐上还设置有加热装置和空压机，所述温度传感器与所述加热装置电连接、并用于控制所述加热装置的启闭，所述气压传感器与所述空压机电连接、并用于控制所述空压机的启闭，所述温度传感器的温度监控范围为95-110℃，所述气压传感器的气压监控范围为-0.08～-0.06mPa。
进一步的，所述温度传感器的温度监控范围为104±0.1℃，所述气压传感器的气压监控范围为-0.08mPa。
进一步的，所述加热装置包括设置在真空蒸馏罐罐壁上的热油加热管、通过热油循环管与所述热油加热管相连的热油加热箱、以及设置在所述热油加热箱内的电加热丝，所述热油循环管上设置有热油控制阀和热油泵。
进一步的，所述第一冷却装置包括缠绕在硅油导流管外侧的第一冷凝管、以及与第一冷凝管相通的第一冷却水循环装置，所述第二冷却装置包括缠绕在硅油冷却罐外侧的第二冷凝管、以及与第二冷凝管相通的第二冷却水循环装置。
进一步的，所述硅油箱与所述冷却罐机构之间还设置有溢流罐。
进一步的，所述真空蒸馏罐上通过母液循环泵还连通有储液罐，所述母液循环泵用于将所述储液罐中的含硅油的处理水泵入所述真空蒸馏罐中。
进一步的，所述真空蒸馏罐上还设置有视镜、上液位控制装置和下液位控制装置，所述视镜为透明视镜并设置在所述真空蒸馏罐的罐壁上，所述上液位控制装置和下液位控制装置与所述母液循环泵相连。
进一步的，所述真空蒸馏罐内部上方还设置有蒸汽导流板。
借由上述方案，本实用新型至少具有以下优点：将已经经过真空蒸馏、过滤等方式，去除清洗剂、硫酸钠等离子型沉淀的处理水，进一步采用本实用新型的高精度除硅设备进行真空蒸馏除硅，可以将处理水中的硅油蒸馏而出，剩下的水，可以达到饮用级标准，不仅使硅油得到了重复性的利用，同时提高了回收效果和回收产率。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1是本实用新型高精度除硅设备的主视图；
图2是本实用新型高精度除硅设备的侧视图；
图3是本实用新型高精度除硅设备的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
参见图1至图2所示，一种本实用新型的高精度除硅设备，包括机架1、以及设置在机架内的真空蒸馏罐2、导流冷凝机构3、冷却罐机构4和硅油回收装置5，其中：真空蒸馏罐2的顶部连接导流冷凝机构3、并在底部设置有排水阀6，真空蒸馏罐2用于减压蒸馏含硅油的处理水、并将硅油蒸馏为硅油蒸汽排入至导流冷凝机构3；导流冷凝机构3包括硅油导流管31以及设置在硅油导流管外侧的第一冷却装置32，硅油导流管31的进口端和出口端分别与真空蒸馏罐2和冷却罐机构4相通，硅油导流管31用于一级冷却硅油蒸汽、并将硅油蒸汽冷却为高温硅油液体；冷却罐机构4包括硅油冷却罐41以及设置在硅油冷却罐41外侧的第二冷却装置42，硅油冷却罐41用于将高温硅油液体冷却为低温硅油液体、并排入至硅油回收装置5；硅油回收装置5包括与冷却罐机构相通的硅油箱51，硅油箱51用于储存被蒸馏出的硅油。为了有效地控制真空蒸馏罐内的温度和气压，真空蒸馏罐的内部设置有温度传感器和气压传感器，真空蒸馏罐上还设置有加热装置和空压机，温度传感器与加热装置电连接、并用于控制加热装置的启闭，气压传感器与空压机电连接、并用于控制空压机的启闭，温度传感器的温度监控范围为95-110℃，气压传感器的气压监控范围为-0.08～-0.06mPa。
本实用新型的工作原理如下：将已经过真空蒸馏、过滤等方式，去除了清洗剂、硫酸钠等离子型沉淀的处理水，进一步采用本实用新型的高精度除硅设备进行真空蒸馏除硅，可以将处理水中的硅油蒸馏而出，剩下的水，可以达到饮用级标准，不仅使硅油得到了重复性的利用，同时提高了回收效果和回收产率；与真空蒸馏清洗剂不同的是，不同物质的蒸馏温度和气压有所区别，本实用新型中，为了有效地将硅油蒸馏而出，采用真空蒸馏的方式，其中温度监控范围为95-110℃，气压传感器的气压监控范围为-0.08～-0.06mPa，最优的，将温度恒定的控制在104℃，气压控制在-0.08mPa，这样可以最大程度地将硅油蒸馏而出。
为了稳定地控制真空蒸馏罐内的温度，防止温度波动过大，采用加热油间接加热的方式，即，加热装置包括设置在真空蒸馏罐罐壁上的热油加热管、通过热油循环管与热油加热管相连的热油加热箱、以及设置在热油加热箱内的电加热丝，热油循环管上设置有热油控制阀和热油泵。
为了有效地实现二次冷却硅油蒸汽，同时实现硅油与水蒸气的分离，第一冷却装置包括缠绕在硅油导流管外侧的第一冷凝管、以及与第一冷凝管相通的第一冷却水循环装置，第二冷却装置包括缠绕在硅油冷却罐外侧的第二冷凝管、以及与第二冷凝管相通的第二冷却水循环装置，第一冷凝管与第二冷凝管的温度可以不一致，同时第一冷却水循环装置与第二冷却水循环装置可以相互连通，也可单独设置。
另外，高温硅油液体的温度可达70-80℃，低温硅油液体的温度还是相对较高，可达30-40℃，为了有效降温，硅油箱51与冷却罐机构4之间还设置有溢流罐52，溢流罐用于储存低温硅油液体、并将其静置降温至室温，然后溢流至硅油箱中。
为了及时补充处理水，真空蒸馏罐上通过母液循环泵7还连通有储液罐，母液循环泵7用于将储液罐中的含硅油的处理水泵入真空蒸馏罐2中，当真空蒸馏罐2中的处理水水量不足时，母液循环泵7将储液罐中的处理水泵入至真空蒸馏罐中；由于真空蒸馏罐中的液体体积对于真空蒸馏的效果有一定影响，真空蒸馏罐上还设置有视镜8、上液位控制装置9和下液位控制装置10，视镜8为透明视镜并设置在真空蒸馏罐的罐壁上，上液位控制装置9和下液位控制装置10与母液循环泵7相连，上液位控制装置和下液位控制装置用于监测真空蒸馏罐中含硅油的处理水的液位状况、并通过电路控制母液循环泵的启闭；这样，可以将真空蒸馏罐中的液体量稳定在一定水平，提高蒸馏的效果。
另外，真空蒸馏罐内部上方还设置有蒸汽导流板11，蒸汽导流板11与硅油蒸汽在真空蒸馏罐2内的上升方向相垂直，蒸汽导流板的作用在于稳定蒸汽气流，同时防止过多的水蒸气随着硅油蒸汽一起排出，进而提高真空蒸馏的效果。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，并不用于限制本实用新型，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (9)
1.一种高精度除硅设备，其特征在于：包括机架、以及设置在机架内的真空蒸馏罐、导流冷凝机构、冷却罐机构和硅油回收装置，其中：
所述真空蒸馏罐的顶部连接所述导流冷凝机构、并在底部设置有排水阀；
所述导流冷凝机构包括硅油导流管以及设置在硅油导流管外侧的第一冷却装置，所述硅油导流管的进口端和出口端分别与所述真空蒸馏罐和冷却罐机构相通；
所述冷却罐机构包括硅油冷却罐以及设置在硅油冷却罐外侧的第二冷却装置；
所述硅油回收装置包括与所述冷却罐机构相通的硅油箱。
2.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐的内部设置有温度传感器和气压传感器，所述真空蒸馏罐上还设置有加热装置和空压机，所述温度传感器与所述加热装置电连接、并用于控制所述加热装置的启闭，所述气压传感器与所述空压机电连接、并用于控制所述空压机的启闭，所述温度传感器的温度监控范围为95-110℃，所述气压传感器的气压监控范围为-0.08～-0.06mPa。
3.根据权利要求2所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述温度传感器的温度监控范围为104±0.1℃，所述气压传感器的气压监控范围为-0.08mPa。
4.根据权利要求2所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述加热装置包括设置在真空蒸馏罐罐壁上的热油加热管、通过热油循环管与所述热油加热管相连的热油加热箱、以及设置在所述热油加热箱内的电加热丝，所述热油循环管上设置有热油控制阀和热油泵。
5.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述第一冷却装置包括缠绕在硅油导流管外侧的第一冷凝管、以及与第一冷凝管相通的第一冷却水循环装置，所述第二冷却装置包括缠绕在硅油冷却罐外侧的第二冷凝管、以及与第二冷凝管相通的第二冷却水循环装置。
6.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述硅油箱与所述冷却罐机构之间还设置有溢流罐。
7.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐上通过母液循环泵还连通有储液罐。
8.根据权利要求7所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐上还设置有视镜、上液位控制装置和下液位控制装置，所述视镜为透明视镜并设置在所述真空蒸馏罐的罐壁上，所述上液位控制装置和下液位控制装置与所述母液循环泵相连。
9.根据权利要求1所述的高精度除硅设备，其特征在于：所述真空蒸馏罐内部上方还设置有蒸汽导流板。
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| CN201420389224.1U CN203946907U (zh) | 2014-07-14 | 2014-07-14 | 高精度除硅设备 |
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| CN104129823A (zh) * | 2014-07-14 | 2014-11-05 | 江苏三鼎水处理设备有限公司 | 高精度除硅设备 |
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2014
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Owner name: CHANGZHOU SANDING ENVIRONMENTAL PROTECTION TECHNOL Free format text: FORMER NAME: JIANGSU SANDING WATER-PROCESSING EQUIPMENT CO., LTD. |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
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Granted publication date: 20141119 Effective date of abandoning: 20150805 |
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