CN203917065U - 一种浸渍提拉镀膜设备 - Google Patents

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CN203917065U CN201420325053.6U CN201420325053U CN203917065U CN 203917065 U CN203917065 U CN 203917065U CN 201420325053 U CN201420325053 U CN 201420325053U CN 203917065 U CN203917065 U CN 203917065U
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程江
张洪涛
王祺
杨鑫
柳红东
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Chongqing Fuyuan New Material Technology Co ltd
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Chongqing University of Arts and Sciences
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Abstract

本实用新型公开了一种浸渍提拉镀膜设备,包括带有底座(1)的箱体(2),在底座(1)上设置有控制面板(3),在所述箱体(2)内设置有带轴承(4)的滚珠丝杠(5)、滑块(6)、液槽(7)和基片(8),所述滚珠丝杠(5)的一端与设置在箱体(2)顶部上的电机(9)连接,所述滑块(6)与轴承(4)连接,所述基片(8)与所述液槽(7)相对应,在所述箱体(2)内还设置有用于对基片(8)上的溶质进行蒸发和热处理的加热器。本实用新型采用它无需反复多次取下和装载基片,实现了全自动化操作,不仅能有效避免操作者差异造成的低重复性问题,能精确地控制薄膜厚度和微观外貌,还能有效避免产品的污染,提高了产品的质量。

Description

一种浸渍提拉镀膜设备
技术领域
本实用新型涉及一种对平板样品进行提拉镀膜领域,特别是一种浸渍提拉镀膜设备。
背景技术
浸渍提拉技术是以具有一定粘度溶胶、溶液或悬浮乳液作为原料,在平板、柱状体制备出质量较好的薄膜的这么一项技术,该技术无需真空,因此具有设备及生产低成本低的优势,相比旋转涂覆法,该技术基本不受样品尺寸约束,可制备大面积薄膜,因此,国内外不少高校和科研院所采用该技术制备薄膜材料,但是,在制造过程中,许多高校和科研院所采用手动提拉进行制造,导致薄膜的均匀性和厚度难以控制,且重复性差。
为了解决这一问题,目前市面上也出现了采用电机和丝杆导轨进行精密控制提拉的浸渍提拉镀膜机。在CN103736623A中公开了一种名称为“一种浸渍提拉镀膜设备以及浸渍提拉镀膜方法”的发明专利,它包括全自动多参数控制系统、驱动电仪、仪器外壳、样品夹持机构和精密直线传动装置,所述驱动电机带动所述精密直线传动装置,所述仪器外壳保护各部件,并在全自动多参数控制系统的控制下,由样品夹持机构待镀膜样品对样品提拉镀膜,它是通过设备保持溶液不动,控制载体提拉达到精密控制提拉速率的效果。在CN102451810B中公开了一种名称为“一种数控提拉式镀膜机”的发明专利,它包括机架和旋转平台,旋转平台对应四个工位设置,其中第三工位为提拉镀膜工位,机架上设有与第三工位匹配的溶液提拉装置,溶液提拉装置设有提升进给单元,提升进给单元上连接有拖板,拖板上设有固定溶液容器的料筒架,提升进给单元还连接有驱动机构。它利用设备以保持载体不动,控制溶液容器下降更能有效避免提拉过程中的晃动。虽然这两个专利所述的设备均能够进行浸渍提拉镀膜,但是,由于浸渍提拉技术中的溶剂蒸发和热处理过程对薄膜的质量具有重要影响,通常要多次进行提拉-干燥-热处理的重复过程,而上述设备因不具有蒸发和热处理的功能,因此溶剂蒸发和热处理过程一般在烘箱和退火炉中进行,若需多次提拉则过程繁琐,容易造成二次污染,对薄膜的质量造成了影响。
实用新型内容
本实用新型的目的就是提供一种能够进行热干燥和热处理的浸渍提拉镀膜设备。
本实用新型的目的是通过这样的技术方案实现的,一种浸渍提拉镀膜设备,包括带有底座的箱体,在底座上设置有控制面板,在所述箱体内设置有带轴承的滚珠丝杠、滑块、液槽和基片,所述滚珠丝杠的一端与设置在箱体顶部上的电机连接,所述滑块与轴承连接,所述基片与所述液槽相对应,在所述箱体内还设置有用于对基片上的溶质进行蒸发和热处理的加热器。
其中,本实用新型的具体结构可以是这样:所述加热器位于滑块与液槽之间,所述加热器包括陶瓷支撑板和金属加热板,所述金属加热板设置在所述陶瓷支撑板的一端上,所述陶瓷支撑板的另一端与所述滑块连接,且该端通过连接板与所述液槽连接,所述基片通过悬杆与箱体顶部的内壁连接。
本实用新型的具体结构也可以是这样:所述加热器包括固定支架、陶瓷支撑板和金属加热板,所述固定支架固定在底座上,所述金属加热板设置在陶瓷支撑板的一端上,陶瓷支撑板的另一端与固定支架连接,所述液槽位于滑块与固定支架之间且固定在底座上,所述基片通过悬杆与滑块连接。
为了提高加热效率,缩短加热时间,所述金属加热板为两块,且上下并排设置在陶瓷支撑板上。
为了能够调节金属加热板,在所述陶瓷支撑板上竖向设置有一对一字型螺孔,所述金属加热板通过螺钉与一字型螺孔连接。
由于采用了上述技术方案,本实用新型具有结构设计简单、安装方便的优点,采用它无需反复多次取下和装载基片,实现了全自动化操作,不仅能有效避免操作者差异造成的低重复性问题,能精确地控制薄膜厚度和微观外貌,还能有效避免产品的污染,提高了产品的质量。
附图说明
本实用新型的附图说明如下:
图1为本实用新型的第一种结构的主视图;
图2为图1的左侧视图;
图3为本实用新型的第二种结构的主视图;
图4为图3的左侧视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明,但本实用新型并不局限于这些实施方式,任何在本实施例基本精神上的改进或替代,仍属于本实用新型权利要求所要求保护的范围。
实施例1:如图1、2所示,一种浸渍提拉镀膜设备,包括带有底座1的箱体2,在底座1上设置有控制面板3,在所述箱体2内设置有带轴承4的滚珠丝杠5、滑块6、液槽7和基片8,所述滚珠丝杠5的一端与设置在箱体2顶部上的电机9连接,所述滑块6与轴承4连接,所述基片8与所述液槽7相对应,在所述箱体2内还设置有用于对基片8上的溶质进行蒸发和热处理的加热器,所述加热器位于滑块6与液槽7之间,所述加热器包括陶瓷支撑板10和金属加热板11,所述金属加热板11设置在所述陶瓷支撑板10的一端上,所述陶瓷支撑板10的另一端与所述滑块6连接,且该端通过连接板12与所述液槽7连接,所述基片8通过悬杆13与箱体2顶部的内壁连接。
本实施例的设备是这样操作的:电机9带动滚珠丝杠5转动,转动的滚珠丝杠5通过轴承4带动滑块6向上移动,同时,向上移动的滑块6带动液槽7向上移动,对基片8进行浸没,浸没完成后,在滚珠丝杠5的作用下,带动轴承4、滑块6和液槽7向下移动,此时,位于陶瓷支撑板10上的金属加热板11达到与基片8对应的位置,对基片8上的溶质进行加热,溶质在基片8上成核、结晶,金属板加热板11在基片处停留一定时间后,液槽7上升至初始位置,基片8重新浸没于液槽7内,重复数次以上过程,基片8上沉积有一定厚度的薄膜。
实施例2:如图3、4所示,一种浸渍提拉镀膜设备,包括带有底座1的箱体2,在底座1上设置有控制面板3,在所述箱体2内设置有带轴承4的滚珠丝杠5、滑块6、液槽7和基片8,所述滚珠丝杠5的一端与设置在箱体2顶部上的电机9连接,所述滑块6与轴承4连接,所述基片8与所述液槽7相对应,在所述箱体2内还设置有用于对基片8上的溶质进行蒸发和热处理的加热器,所述加热器包括固定支架14、陶瓷支撑板10和金属加热板11,所述固定支架14固定在底座1上,所述金属加热板11设置在陶瓷支撑板10的一端上,陶瓷支撑板10的另一端与固定支架14连接所述液槽7位于滑块6与固定支架14之间且固定在底座1上,所述基片8通过悬杆13与滑块6连接。
实施例2与实施例1不同之处在于,实施例1中的液槽7随着滑块6进行上下移动,而实施例2是液槽7是固定不动的,而基片8随着滑块6进行上下移动,其工作原理基本相通。液槽7的固定不动,能够控制载体的提拉达到精密控制提高速率的效果。
为了提高成膜速度,缩短加热时间,形成不同的加热范围,所述金属加热板11为两块,且上下并排设置在陶瓷支撑板10上。
为了使得金属加热板11与金属加热板11之间、金属加热板11与液槽7之间的距离进行适当调节,调制出不同的温场,在所述陶瓷支撑板10上竖向设置有一对一字型螺孔15,所述金属加热板11通过螺钉与一字型螺孔15连接。通过调节,不但能够在基片上制备多种结晶习性不同的多晶薄膜材料,而且还能够制备部分单晶薄膜材料。

Claims (5)

1.一种浸渍提拉镀膜设备,包括带有底座(1)的箱体(2),在底座(1)上设置有控制面板(3),在所述箱体(2)内设置有带轴承(4)的滚珠丝杠(5)、滑块(6)、液槽(7)和基片(8),所述滚珠丝杠(5)的一端与设置在箱体(2)顶部上的电机(9)连接,所述滑块(6)与轴承(4)连接,所述基片(8)与所述液槽(7)相对应,其特征是:在所述箱体(2)内还设置有用于对基片(8)上的溶质进行蒸发和热处理的加热器。
2.如权利要求1所述的浸渍提拉镀膜设备,其特征是:所述加热器位于滑块(6)与液槽(7)之间,所述加热器包括陶瓷支撑板(10)和金属加热板(11),所述金属加热板(11)设置在所述陶瓷支撑板(10)的一端上,所述陶瓷支撑板(10)的另一端与所述滑块(6)连接,且该端通过连接板(12)与所述液槽(7)连接,所述基片(8)通过悬杆(13)与箱体(2)顶部的内壁连接。
3.如权利要求1所述的浸渍提拉镀膜设备,其特征是:所述加热器包括固定支架(14)、陶瓷支撑板(10)和金属加热板(11),所述固定支架(14)固定在底座(1)上,所述金属加热板(11)设置在陶瓷支撑板(10)的一端上,陶瓷支撑板(10)的另一端与固定支架(14)连接,所述液槽(7)位于滑块(6)与固定支架(14)之间且固定在底座(1)上,所述基片(8)通过悬杆(13)与滑块(6)连接。
4.如权利要求2或3所述的浸渍提拉镀膜设备,其特征是:所述金属加热板(11)为两块,且上下并排设置在陶瓷支撑板(10)上。
5.如权利要求4所述的浸渍提拉镀膜设备,其特征是:在所述陶瓷支撑板(10)上竖向设置有一对一字型螺孔(15),所述金属加热板(11)通过螺钉与一字型螺孔(15)连接。
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