CN203776778U - 足浴装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种具备去除足部角质功能的足浴装置,特别是能够在进行足浴的同时去除足部角质的足浴盆。所述足浴装置包括圆桶形的本体,所述足浴装置还包括固定在所述本体的底面上的一个或多个角质去除结构,所述角质去除结构表面上具有凸起部,所述凸起部具有圆形的底部和具有十字形开口的顶部。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种足浴装置,特别是能够在进行足浴的同时去除足部角质的足浴盆。
背景技术
足浴疗法属足疗法中的一种,也同属中医外治法。在中医文化中,足浴疗法源远流长,是人们在长期的社会实践中的知识积累和经验总结,至今已有3000多年的历史传统。足浴能够促进血液循环,刺激足部的穴位、反射区和经络,因此对很多疾病的治疗具有很好的辅助作用。
角质,俗称死皮。足部角质是皮肤长期受压和磨擦所致的片状扁平角质增生,属保护性反应,一般不影响身体健康,其发病与机械性磨擦压迫有关,也与个体素质足形及某些职业有关,特别是由穿戴高跟鞋导致。足部角质不仅影响美观,还会使脚底神经萎缩、脚底反射降低,容易导致气血不畅、皮肤粗糙、面部出斑、肠胃不良及肾功能下降等。因此,去除足部角质不仅是为了美观,更是为了自身的健康。
目前,市场上已有大量具备附加功能的足浴装置,例如带有按摩功能的足浴盆,但尚未有具备去除足部角质功能的足浴装置。
实用新型内容
本实用新型涉及具备去除足部角质功能的足浴装置,所述足浴装置包括圆桶形的本体10,所述足浴装置还包括固定在所述本体10的底面上的一个或多个角质去除结构20,所述角质去除结构表面上具有凸起部,所述凸起部具有圆形的底部和具有十字形开口的顶部。
在本实用新型的一个优选的实施方案中,所述足浴装置中所述圆形的底部的直径为1mm,且所述具有十字形开口的顶部的长边长度为0.5mm。
在本实用新型的一个特别优选的实施方案中,所述足浴装置中所述凸起部的高度为0.5mm。
在本实用新型的一个特别优选的实施方案中,所述足浴装置中所述凸起部的分布密度为25个/cm2。
在本实用新型的一个优选的实施方案中,所述足浴装置还包括用于足部按摩的装置30。
本体10可以由任何已知的材料制成,例如木材、橡胶、塑料、金属等。
本体10的一个用途是容纳足浴介质。所述足浴介质可以为现有的任意足浴介质,例如水等,并且其中可以添加任何添加物,例如香料、用于去除角质的药物等。
本体10的另一个用途是放置足部及腿部。因此,根据具体应用,所述足浴装置的底部大小和顶部开口大小应足以容纳人的脚部和腿部。本领域技术人员应知晓足以容纳人的脚部和腿部的足浴装置的底部大小和顶部开口大小。在一个非限定性的实施方案中,所述足浴装置的底部大小为32cm且顶部开口大小为38cm。此外,根据具体应用,所述足浴装置的高度应足以容纳人的脚部和腿部。在一个非限定性的实施方案中,所述足浴装置仅用于足浴,其高度为28cm。在另一个非限定性的实施方案中,所述足浴装置用于足浴和小腿浴,其高度为45cm。
角质去除结构20可以为任何形状,例如带状、圆形或三角形。
角质去除结构20可以覆盖本体10的底面的一部分,或完全覆盖本体10的底面。
角质去除结构20可以由任何已知的材料制成,例如木材、橡胶、塑料、金属等。
用于足部按摩的装置30可以为任何常规的用于足部按摩的装置。例如电动喷水装置或电动按摩装置。
附图说明
图1为本实用新型的足浴装置的一个实施方案的俯视图。
图2为本实用新型的足浴装置的一个实施方案的正视图。
图3为本实用新型的足浴装置的一个实施方案中的角质去除结构20的局部示意图。
图4为本实用新型的足浴装置的一个实施方案中的角质去除结构20的局部示意图。
具体实施方式
图1为本实用新型的足浴装置的一个实施方案的示意图。所述足浴装置包括本体10以及固定在本体10底面上的角质去除结构20。本体10为自底部至顶部直径逐渐增加的圆桶形(如图1和2所示),其由木材制成。本体10的底部直径为32cm,顶部直径为38cm。角质去除结构20为沿本体10的底部的直径放置的带状装置,其由金属制成。角质去除结构20的宽度为5.5cm。角质去除结构20的表面上具有若干凸起部40,其由与角质去除结构20相同的金属制成。
图3和4为本实用新型的足浴装置的实施方案中的角质去除结构20的局部示意图,用于说明凸起部40的样式和排列方式。凸起部40具有圆形的底部和具有十字形开口的顶部,所述圆形底部的直径为1mm。所述具有十字形开口的顶部的十字形开口的长边长度为0.5mm。所述凸起部的高度为0.5mm。凸起部40的分布密度为25个/cm2。
以上实例仅用于说明本实用新型,而不应被理解为是对本实用新型的保护范围的限制。本实用新型的保护范围应以所附的权利要求为准。
Claims (5)
1.具备去除足部角质功能的足浴装置,所述足浴装置包括圆桶形的本体,其特征在于,所述足浴装置还包括固定在所述本体的底面上的一个或多个角质去除结构,所述角质去除结构表面上具有凸起部,所述凸起部具有圆形的底部和具有十字形开口的顶部。
2.如权利要求1所述的足浴装置,其中所述圆形的底部的直径为1mm,且所述具有十字形开口的顶部的长边长度为0.5mm。
3.如权利要求2所述的足浴装置,其中所述凸起部的高度为0.5mm。
4.如权利要求3所述的足浴装置,其中所述凸起部的分布密度为25个/cm2。
5.如权利要求1‐4之一所述的足浴装置,其还包括用于足部按摩的装置。
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2014
- 2014-03-26 CN CN201420141267.8U patent/CN203776778U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
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Granted publication date: 20140820 Termination date: 20160326 |