CN203678610U - 成膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种成膜装置。该成膜装置能够将所涂覆的膜准确地形成于基材。该成膜装置包括载物台、支架、涂覆构件、位移计以及膜厚控制机构，载物台用于放置基材；涂覆构件包括泵和与泵相连的喷嘴；涂覆构件以喷嘴对着载物台的方式支承在支架上，并能够在支架上调整位置；位移计用于检测喷嘴与从喷嘴涂覆于基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定膜的厚度；膜厚控制机构用于控制所涂覆的膜的厚度。

Description

成膜装置

技术领域

本实用新型涉及一种成膜装置，详细地说涉及一种用于将清漆涂覆在基材上来形成膜的成膜装置。

背景技术

以往，公知有各种用于将含有树脂的清漆涂覆在基材上来形成膜的装置。

例如，提出有一种缝模涂覆装置，该缝模涂覆装置具有形成有用于向涂覆基材供给涂覆液的狭缝的缝模，狭缝与涂覆基材相对，与涂覆基材相对的狭缝的剖面形成为在其两端部相对地抑制涂覆液的供给的形状（例如，参照下述专利文献1）。

在专利文献1的缝模涂覆装置中，在清漆为非牛顿流体的情况、或清漆与要被涂覆清漆的基材之间的亲和性较低的情况下，能够有效地抑制所涂覆的膜（涂膜）的两端部比中央部隆起的隆起部分的产生。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004－305955号公报

但是，在专利文献1所记载的缝模涂覆装置中，有时不能够将膜准确地形成于基材。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能够将所涂覆的膜准确地形成于基材的成膜装置。

本实用新型的成膜装置的特征在于，包括：载物台、支架、涂覆构件、位移计以及膜厚控制机构，所述载物台用于放置基材；所述涂覆构件包括泵和与所述泵相连的喷嘴；所述涂覆构件以所述喷嘴对着所述载物台的方式支承在所述支架上，并能够在所述支架上调整位置；所述位移计用于检测所述喷嘴与从所述喷嘴涂覆于所述基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定所述膜的厚度；所述膜厚控制机构用于控制所涂覆的所述膜的厚度。

根据该成膜装置，能够利用位移计检测喷嘴与从喷嘴涂覆于基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定膜的膜厚，并能够根据该距离和/或膜厚在支架上调整涂覆构件的位置，并且能够利用膜厚控制机构控制所涂覆的膜的厚度。

因此，能够将所涂覆的膜准确地形成于基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述位移计为激光位移计。

根据该成膜装置，能够利用激光位移计更准确地检测喷嘴与从喷嘴涂覆于基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定膜的膜厚，而且，能够在线检测、即连续地检测刚涂覆后的膜。

另外，优选的是，本实用新型的成膜装置还包括：标记形成装置，其用于在所述基材上形成对准标记；以及对准装置，其用于根据所述对准标记进行对准。

根据该成膜装置，能够利用对准装置根据对准标记将喷嘴对准基材。因此，能够将所涂覆的膜更准确地形成于基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述标记形成装置为冲头，所述冲头冲压所述基材形成所述对准标记；所述对准装置为照相机。

根据该成膜装置，能够利用标记形成装置简单地形成对准标记，并根据该对准标记，利用对准装置简单地将喷嘴对准基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述对准标记形成在所述基材的沿涂覆方向的两侧。

根据该成膜装置，能够根据对准标记高精度地调整膜的涂覆方向的长度。

另外，优选的是，本实用新型的成膜装置还包括测向装置，用于确认所述喷嘴的运行方向。

根据该成膜装置，能够利用测向装置检测喷嘴的运行方向，因此能够准确地调整喷嘴相对于基材的涂覆方向。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述测向装置为照相机。

根据该成膜装置，能够利用照相机简单地检测喷嘴的运行方向。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述载物台为吸附式载物台。

根据该成膜装置，如果在吸附式载物台上放置基材，并使吸附式载物台运行，则能够将基材可靠地固定于吸附式载物台。因此，能够将膜进一步准确地形成于基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述载物台的平坦度在1500mm的涂覆行程中保持在50μm以下。

根据该成膜装置，由于载物台的平坦度为上述上限以下，因此能够将喷嘴准确地相对于基材配置，由此，能够将膜高精度地形成于基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述泵为蛇形泵，所述混合器为静态混合器。

根据该成膜装置，能够利用作为蛇形泵的泵向混合器定量地供给用于构成膜的清漆，并且能够利用作为静态混合器的混合器静态地进行搅拌。因此，能够高精度地形成膜。

另外，本实用新型的成膜装置的特征在于，包括：载物台、支架、涂覆构件、标记形成装置以及对准装置，其中，所述载物台用于放置基材；所述涂覆构件包括泵和与所述泵相连的喷嘴，所述涂覆构件以喷嘴对着所述载物台的方式设置在所述支架上，并能够在所述支架上调整位置；所述标记形成装置用于在所述基材上形成对准标记；所述对准装置用于根据所述对准标记进行对准。

根据该成膜装置，能够利用标记形成装置在基材上形成对准标记，能够一边调整涂覆构件的位置，一边利用对准装置根据对准标记将喷嘴对准基材。因此，能够将所涂覆的膜准确地形成于基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述标记形成装置为冲头，所述冲头冲压所述基材形成所述对准标记；所述对准装置为照相机。

根据该成膜装置，能够利用标记形成装置简单地形成对准标记，并根据该对准标记，利用对准装置简单地将喷嘴对准基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述对准标记形成在所述基材的沿涂覆方向的两侧。

根据该成膜装置，能够根据对准标记高精度地调整膜的涂覆方向的长度。

另外，优选的是，本实用新型的成膜装置还包括测向装置，用于确认所述喷嘴的运行方向。

根据该成膜装置，由于能够利用测向装置检测喷嘴的运行方向，因此能够准确地调整喷嘴相对于基材的涂覆方向。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述测向装置为照相机。

根据该成膜装置，能够利用照相机简单地检测喷嘴的运行方向。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述载物台为吸附式载物台。

根据该成膜装置，如果在吸附式载物台上放置基材，并使吸附式载物台运行，则能够将基材可靠地固定于吸附式载物台。因此，能够将膜进一步准确地形成于基材。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述载物台的平坦度在1500mm的涂覆行程中保持在50μm以下。

根据该成膜装置，由于载物台的平坦度为上述上限以下，因此能够将喷嘴准确地相对于基材配置，由此，能够将膜高精度地形成于基材。

另外，优选的是，本实用新型的成膜装置还包括夹设于所述泵与所述喷嘴之间的混合器。

根据该成膜装置，能够利用混合器有效地对从泵向喷嘴送出的、用于构成膜的清漆进行搅拌。

另外，在本实用新型的成膜装置中，优选的是，所述泵为蛇形泵，所述混合器为静态混合器。

根据该成膜装置，能够利用作为蛇形泵的泵向混合器定量地供给用于构成膜的清漆，并且能够利用作为静态混合器的混合器静态地进行搅拌。因此，能够高精度地形成膜。

根据本实用新型的成膜装置，能够将所涂覆的膜准确地形成于基材。

附图说明

图1表示具有本实用新型的成膜装置的一实施方式的片材制造装置的立体图。

图2是图1所示的片材制造装置的成膜装置的立体图，表示成膜准备工序。

图3是图1所示的片材制造装置的成膜装置的立体图，表示成膜处理工序。

图4表示图3所示的片材制造装置的涂覆构件的立体图。

图5表示图4所示的涂覆构件的俯视图。

图6表示图5所示的涂覆构件的静态混合器的局部缺口主视图。

图7表示图1的片材制造装置的脱泡区域的剖视图。

图8表示图1的片材制造装置的加热区域的剖视图。

图9表示图1的片材制造装置的冷却区域的剖视图。

图10表示图4所示的成膜装置的成膜处理工序的侧剖视图。

图11表示图4所示的成膜装置的成膜处理工序的主视剖视图。

附图标记说明

3、成膜部；7、脱模基材；11、载置台；12、支承构件；13、涂覆构件；14、泵；15、喷嘴；46、控制装置；56、混合器；60、冲头；64、圆孔；65、激光位移计；66、涂膜；70、第1照相机；75、第2照相机；L1、从激光位移计的下表面到脱模基材的上表面之间的距离；L2、从激光位移计的下表面到涂膜的上表面之间的距离；T、膜厚。

具体实施方式

在图1中，前后方向是第1方向，前侧是后述的单片片材的输送方向下游侧（第1方向一侧），后侧是单片片材的输送方向上游侧（第1方向另一侧）。与前后方向正交的方向是左右方向（第2方向），与前后方向以及左右方向正交的方向是上下方向（厚度方向、第3方向）。图2以后的各图中的方向以图1的箭头所示的方向为依据。

＜片材制造装置的结构＞

如图1所示，片材制造装置1是用于利用清漆制造单片片材2的制造装置，该单片片材2用于封装光半导体元件。

该片材制造装置1包括成膜部3和配置在成膜部3的前侧的后处理部4。另外，在片材制造装置1中，在成膜部3的后侧配置有输送载体容纳部（未图示），在后处理部4的前侧配置有回收部（未图示）。

在片材制造装置1中，沿着前后方向直列配置有成膜部3和后处理部4。在该片材制造装置1中，利用成膜部3将清漆成膜成单片片材2，从后方向前方输送所成膜而成的单片片材2，之后，利用后处理部4进行后处理。

输送载体容纳部配置在片材制造装置1的后侧。输送载体容纳部用于容纳多个输送载体6，构成为能够将输送载体6向成膜部3一个一个地输送。输送载体容纳部也可以是能够移动的台车。

输送载体6构成为能够在其上表面上载置作为基材的脱模基材7（后述）。具体地说，输送载体6形成为俯视大致矩形形状的平板。

＜成膜部＞

成膜部3包括成膜台5和成膜装置8。

成膜台5呈沿前后方向延伸的俯视大致矩形形状，并形成为箱状。

如图3和图5所示，成膜装置8是用于在配置于输送载体6的脱模基材7（后述）的表面涂覆清漆来形成膜的装置，包括轨道9、滑动构件10、作为载物台的载置台11、作为支架的支承构件12、涂覆构件13、冲头60、作为位移计的激光位移计65、作为对准装置的、作为照相机的第1照相机70、作为测向装置即照相机的第2照相机75以及控制装置46。

轨道9在成膜台5的上表面沿左右方向相互隔开间隔地设有1对，各个轨道9以沿前后方向延伸的方式形成在直线上。

滑动构件10安装在轨道9上而构成为使载置台11沿前后方向移动，滑动构件10由1对引导件构成。各个引导件在主视状态下形成为向下方开口的大致コ字形状，以能够滑动的方式安装于轨道9。

载置台11固定于1对滑动构件10的上表面，构成为能够载置输送载体6。具体地说，载置台11在俯视状态下以包括输送载体6在内的方式形成为大致矩形形状的平板。

在载置台11的左右方向中央部形成有沿前后方向贯穿载置台11的通孔。在该通孔内嵌合有滚珠丝杠48。滚珠丝杠48形成为其轴线沿前后方向延伸，构成为能够使载置台11沿前后方向移动。具体地说，在滚珠丝杠48的后端，借助于联轴器（轴承）（未图示）安装有马达67。

载置台11例如是真空吸附式载物台。真空吸附式载物台是能够利用真空力在其表面上产生吸附力的真空吸附板。

支承构件12在成膜台5的上表面上配置于前后方向中央，呈向下方开口的主视大致コ字状。支承构件12设置为不与载置台11所移动的轨迹重叠。支承构件12包括从成膜台5的上表面向上方延伸并在左右方向上隔着载置台11彼此相对配置的1对支承棒17和以架设1对支承棒17的上端的方式被固定的架设棒18。在架设棒18上，以能够沿左右方向滑动的方式安装有以下说明的上下移动构件62和滑动构件63。

涂覆构件13是带喷嘴的分配器，该涂覆构件13支承于架设棒18。如图4和图5所示，具体地说，涂覆构件13包括罐55、泵14、混合器56、喷嘴15以及上下移动构件62。

在罐55内储存有清漆。在罐55的下端部连接有配管61。

泵14配置在涂覆构件13的上部。在泵14的上端部连接有配管61，而且，泵14配置在罐55的后侧。泵14构成为向混合器56供给清漆。具体地说，泵14只要是能够对静态混合器56施加压力而将储存在罐55内的清漆向喷嘴15喷出的泵，就不特别限定，例如，可列举蛇形泵（具体地说，作为HEISHIN蛇形泵（兵神装备公司制造）在市场上销售的泵等）等。若是蛇形泵，就不会使清漆脈动，而能够向混合器56定量地喷出清漆。

混合器56配置为沿着上下方向延伸。混合器56配置在泵14的下侧，具体地说，与泵14的下端部相连。作为混合器56，例如可列举像修订六版化学工学便览的第453页所记载的那样的、Kenics mixer型、Sulzer SMV型、SulzerSMX型、Tray Hi－mixer型、Komax mixer型、Lightnin mixer型、Ross ISG型、Bran＆Lube mixer型的静态混合器56。优选的是，可列举图6所示的Kenicsmixer型。只要是静态混合器56，就能够有效地对清漆进行搅拌。

Kenics mixer型的静态混合器56包括沿上下方向延伸的直管68和容纳于直管68的扭转叶片57。

扭转叶片57包括：右扭转叶片58，其随着朝向喷出方向下游侧去而顺时针（右旋）扭转了180度；以及左扭转叶片59，其随着朝向喷出方向下游侧去而逆时针（左旋）扭转了180度。右扭转叶片58和左扭转叶片59分别设有多个（在图6中为9个），沿着喷出方向交替配置。另外，右扭转叶片58的喷出方向下游侧端缘与左扭转叶片59的喷出方向上游侧端缘以在沿喷出方向投影时正交的方式相接合。另外，右扭转叶片58的喷出方向上游侧端缘与左扭转叶片59的喷出方向下游侧端缘以在沿喷出方向（上下方向）投影时正交的方式相接合。

静态混合器56的尺寸可适当地设定，例如，管长例如为10mm以上，优选为30mm以上，而且，例如为400mm以下，优选为350mm以下。另外，内径例如为3mm以上，优选为5mm以上，而且，例如为30mm以下，优选为15mm以下。另外，管长/内径比例如为3以上，优选为5以上，而且，例如为30以下，优选为25以下。而且，在静态混合器56为Kenics mixer型的情况下，各个右扭转叶片58和各个左扭转叶片59的喷出方向长度例如为3mm以上，优选为5mm以上，而且，例如为50mm以下，优选为30mm以下。

如图4所示，喷嘴15配置在涂覆构件13的下端。喷嘴15是缝模涂覆器，具体地说，喷嘴15形成为沿左右方向和上下方向延伸的箱状，而且，在喷嘴15的下端部形成于用于喷出清漆的开口部（未图示）。开口部（未图示）形成为沿左右方向延伸的狭缝状。开口部的前后方向长度例如为0.1mm以上，优选为0.5mm以上，而且，例如为3mm以下，优选为2mm以下。另外，开口部的左右方向的长度例如为5mm以上，优选为15mm以上，而且，例如为200mm以下，优选为70mm以下。

上下移动构件62构成为能够使泵14、混合器56以及喷嘴15沿上下方向移动。另外，如图2和图3的箭头所示，上下移动构件62构成为能够在支承构件12的架设棒18的前表面上沿左右方向滑动（Slide）。由此，喷嘴15构成为能够沿上下方向和左右方向移动。而且，上下移动构件62构成为能够调整喷嘴15的方向，更具体地说，能够调整喷嘴15的下端面相对于脱模基材7的上表面的角度。

具体地说，上下移动构件62构成为能够旋转，以使得泵14能够沿左右方向稍微转动。上下移动构件62构成为能够根据来自CPU44的与喷嘴15的下端部的位置和方向（朝向或者取向）相关的信息调整喷嘴15的下端部的位置和方向。

滑动构件63设置于架设棒18的后表面，构成为能够在架设棒18上沿左右方向滑动（Slide）。滑动构件63形成为沿左右方向延伸的平板状。

如图2和图3所示，冲头60固定于滑动构件63的后表面中的右端部，形成为沿上下方向延伸的大致圆柱形状。冲头60的下端部构成为能够相对于上端部沿上下方向进退。具体地说，冲头60装备有缸机构，该缸机构具有能够沿上下方向进退的缸。由此，冲头60构成为能够使其下端部沿上下方向移动。在冲头60的下端部形成有仰视大致圆形形状的刃79，由此，冲头60构成为能够在脱模基材7上形成作为对准标记的圆孔64。

激光位移计65与冲头60隔开间隔地设置在冲头60的左侧，固定于滑动构件63的后表面中的左右方向中途部。激光位移计65呈沿前后方向延伸的大致箱形形状，其前表面固定于滑动构件63。另外，在激光位移计65的后端部的下表面配置有激光照射口78（参照图5的虚线引出线）。激光位移计65构成为能够测定（检测）从激光位移计65的后端部的下表面到脱模基材7的上表面之间的距离L1（参照图2）以及从激光位移计65的后端部的下表面到涂膜66的上表面（被涂覆面）之间的距离L2（参照图3）。而且，激光位移计65构成为通过从上述距离L1中减去距离L2而能够测定（检测）涂膜66的膜厚T（参照图4）。

如图3和图5所示，第1照相机70支承于架设棒18。第1照相机70与激光位移计65相邻地设置在激光位移计65的左侧，固定于滑动构件63的后表面中的左端部。第1照相机70呈大致箱形形状，其前表面固定于滑动构件63。另外，在第1照相机70的下表面配置有镜头（未图示）。第1照相机70构成为能够检测圆孔64的位置。第1照相机70构成为能够向存储器45输入与圆孔64的位置相关的信息。

第2照相机75设置于成膜台5的上表面。具体地说，第2照相机75与支承构件12隔开间隔地配置在支承构件12的后侧，具体地说，当沿左右方向投影时，第2照相机75配置于1对轨道9的后侧。第2照相机75构成大致箱形形状，其下端面固定于成膜台5的上表面。在第2照相机75的前表面配置有镜头77。第2照相机75构成为能够检测喷嘴15的开口部的方向。第2照相机75构成为能够向存储器45输入与喷嘴15的位置相关的信息。

控制装置46包括存储器45和与存储器45相连的CPU44。具体地说，存储器45分别与马达67、激光位移计65、第1照相机70以及第2照相机75相连。另外，CPU44与上下移动构件62相连。控制装置46构成为在利用CPU44根据需要对被输入到存储器45中的信息进行运算之后使CPU44向上下移动构件62输出该运算后的信息。控制装置46构成用于对单片片材2的所涂覆的膜厚T进行控制的膜厚控制机构。

＜其他结构1＞

另外，在片材制造装置1中，在输送载体容纳部与成膜部3之间设有第1输送机器人（未图示）。第1输送机器人构成为能够向载置台11输送被容纳于输送载体容纳部中的输送载体6。

＜后处理部＞

后处理部4具有沿前后方向延伸的后处理台47，在该后处理台47的上表面上直列地划分有供给区域23、脱泡区域24、静止区域和加热区域25、冷却区域26以及排出区域27。

后处理台47呈俯视大致矩形形状，并形成为箱状。

供给区域23被划分于后处理台47的后部的上表面。供给区域23是用于暂时载置利用成膜部3成膜而成的单片片材2、并调整脱泡处理的开始时刻的调整区域。供给区域23在俯视状态下被以能够将暂时载置的1个输送载体6包含在内的方式划分为大致矩形形状。

脱泡区域24在后处理台47的上表面上被与供给区域23连续地划分于供给区域23的前侧。脱泡区域24在俯视状态被下以能够将所脱泡处理的1个输送载体6包含在内的方式划分为大致矩形形状。脱泡区域24构成为能够排出单片片材2内部所含有的气泡和/或存在于单片片材2与脱模基材7之间的界面中的气泡。具体地说，如图7所示，脱泡区域24包括第1吸附底板29和真空腔室28。

第1吸附底板29形成为俯视大致矩形板状，构成为能够将输送载体6吸附于第1吸附底板29的上表面。具体地说，在第1吸附底板29的上表面形成有与真空泵P相连的多个孔30。

真空腔室28形成为在其周端缘与第1吸附底板29相接触时产生密闭空间，在俯视状态下呈比第1吸附底板29小的大致矩形形状，而且，呈剖视大致コ字状。在真空腔室28上也连接有真空泵P，构成为能够将密闭空间设定在真空（或减压）下。

如图1所示，在后处理台47的上表面上划分有多个（3个）加热区域25。多个加热区域25被与脱泡区域24连续地划分于脱泡区域24的前侧，在前后方向上直列配置。即，多个加热区域25包括与脱泡区域24相邻地配置在脱泡区域24的前侧的第1加热区域25a、与第1加热区域25a相邻地配置在第1加热区域25a的前侧的第2加热区域25b以及与第2加热区域25b相邻地配置在第2加热区域25b的前侧的第3加热区域25c。

各个加热区域25（即，第1加热区域25a、第2加热区域25b以及第3加热区域25c的每一者）在俯视状态下以能够将1个输送载体6包含在内的方式形成为大致矩形形状。在后处理台47的与各个加热区域25相对应的上表面上设有热板31，构成为对单片片材2进行加热。具体地说，如图8所示，加热区域25包括热板31、第2吸附底板33以及保温罩32。

热板31配置为与后处理台47的上表面相接触。热板31在俯视状态下以能够将1个输送载体6包含在内的方式形成为大致矩形板状，构成为内置有加热器31a而能够对输送载体6进行加热。

第2吸附底板33配置为与热板31的上表面相接触。第2吸附底板33在俯视状态下形成为与热板31相同的大致矩形板状，构成为能够将输送载体6吸附于第2吸附底板33的上表面。具体地说，在第2吸附底板33的上表面形成有与真空泵P相连的多个孔34。第2吸附底板33由导热性材料形成，作为该导热性材料，可列举例如铝、铁、铜、不锈钢、上述金属的合金等金属、或者陶瓷。

保温罩32形成为在其周端缘与第2吸附底板33相接触时产生密闭空间（保温空间），在俯视状态下呈比第2吸附底板33小的大致矩形形状，而且，呈剖视大致コ字状。

如图1所示，冷却区域26在后处理台47的上表面上被与加热区域25连续地划分于加热区域25的前侧。冷却区域26在俯视状态下以能够将所冷却处理的1个输送载体6包含在内的方式划分为矩形形状，构成为能够对单片片材2进行冷却。具体地说，如图9所示，冷却区域26包括冷却板36和第3吸附底板35。

冷却板36配置为与后处理台47的上表面相接触。冷却板36在俯视状态下以能够将所冷却处理的1个输送载体6包含在内的方式形成为大致矩形板状。冷却板36内置有供冷却水等制冷剂循环的冷却循环通路36a，构成为能够对输送载体6进行冷却。

第3吸附底板35配置为与冷却板36的上表面相接触。第3吸附底板35在俯视状态下形成为与冷却板36相同的形状，构成为能够将输送载体6吸附于第3吸附底板35的上表面。具体地说，在第3吸附底板35的上表面形成有与真空泵P相连的多个孔37。第3吸附底板35由导热性材料形成，作为该导热性材料，可列举例如铝、铁、铜、不锈钢、上述金属的合金等金属、或者陶瓷。

如图1所示，排出区域27在后处理台47的上表面上被与冷却区域26连续地划分于冷却区域26的前侧。排出区域27是用于暂时对在冷却区域26中冷却后的单片片材2进行载置的区域。排出区域27在俯视状态下以能够将所暂时载置的1个输送载体6包含在内的方式划分为大致矩形形状。

在后处理台47中，在其左端设有槽39和第1输送机构38。

槽39在后处理台47的左端形成为从供给区域23到排出区域27沿前后方向直线地延伸。槽39形成为能够容纳臂支承板41（后述）。

第1输送机构38包括1对臂40和用于支承1对臂40的臂支承板41。

1对臂40在前后方向上相互隔开间隔地相对配置。各个臂40形成为沿左右方向延伸，各个臂40的左端固定于臂支承板41的上端缘。各个臂40的左右方向长度形成为比输送载体6的左右方向长度长。各个臂40包括两个吸盘42。

吸盘42构成为能够吸附/脱附输送载体6。两个吸盘42在左右方向上相互隔开间隔地设于臂40的下表面。其间隔配置为稍微短于输送载体6的左右方向长度。

臂支承板41呈平板状，构成为能够使臂40沿上下方向和前后方向移动。臂支承板41以其上端自槽39暴露的方式容纳于槽39。臂支承板41与容纳于后处理台47内的缸机构（未图示）及带轮机构（未图示）相连结。

缸机构具有与臂支承板41相连结的、能够沿上下方向进退的气缸，构成为能够使臂支承板41沿上下方向移动。

带轮机构在槽39的下方沿着前后方向设置。带轮机构包括在前后方向上隔开间隔配置的两个带轮和卷绕于这两个带轮之间的环带。缸机构的气缸固定于环带。

在第1输送机构38上连接有用于对吸盘42的吸附解除动作和臂支承板41的上下前后移动进行控制的CPU44。

＜其他结构2＞

片材制造装置1在成膜部3与后处理部4之间具有第2输送机构19。第2输送机构19构成为能够将被输送到成膜部3的后端的输送载体6向供给区域23输送。

第2输送机构19包括：杆20，其固定于支承架（未图示），该支承架设置在成膜部3与后处理部4之间附近；气缸22，其以能够沿前后方向滑动的方式安装于杆20上，能够沿上下方向伸缩；以及俯视大致矩形板状的吸附移动板21，其安装于气缸22的下端。在吸附移动板21的四角设有4个吸盘43。

回收部是在后处理部4中构成为能够容纳被后处理后的单片片材2的台车。

在片材制造装置1中，在后处理部4与回收部之间设有第2输送机器人（未图示）。第2输送机器人构成为能够将载置于排出区域27的输送载体6向回收部输送。

与脱泡区域24、加热区域25以及冷却区域26相连的真空泵P是共同的。

＜片材的制造方法＞

接着，说明使用该片材制造装置1连续地制造由涂膜66构成的单片片材2的方法。该制造方法包括准备工序、按批次实施将清漆成膜于单片片材2的成膜处理的成膜工序、以及对单片片材2实施加热处理的后处理工序。具体地说，在该制造方法中，依次实施成膜处理、调整处理、脱泡处理、加热处理以及冷却处理。

＜准备工序＞

首先，在成膜工序和后处理工序之前实施准备工序。准备工序包括调制清漆的组成物调制工序（清漆调制工序）、将在上表面载置有脱模基材7的输送载体6容纳于输送载体容纳部的容纳工序、以及将加热区域25和冷却区域26的温度调整为规定温度的温度调整工序。

（组成物调制工序（清漆调制工序））

组成物调制工序将清漆调制为片材组成物。

清漆含有固化型树脂。作为固化型树脂，可列举1阶段固化型树脂或两阶段固化型树脂，优选列举两阶段固化型树脂。

两阶段固化型树脂具有两个阶段的反应机构，是在第1阶段的反应中B阶段化（半固化）、并在第2阶段的反应中C阶段化（完全固化）的固化性树脂。

另外，B阶段是两阶段固化型树脂在液状的A阶段与完全固化的C阶段之间的状态，是稍微进行固化和凝胶化、且压缩弹性模量比C阶段的弹性模量小的状态。

作为两阶段固化型树脂，例如可列举通过加热而固化的两阶段固化型热固化性树脂、例如通过活性能量射线（例如紫外线、电子线等）的照射而固化的两阶段固化型活性能量射线固化性树脂等。优选列举两阶段固化型热固化性树脂。

具体地说，作为两阶段固化型热固化性树脂，例如可列举硅酮树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、酚醛树脂、尿素树脂、三聚氰胺树脂、不饱和聚酯树脂等。优选的是，出于透光性和耐久性的观点而列举硅酮树脂。

作为硅酮树脂，例如可列举具有缩合反应和加成反应这两个反应系的缩合反应·加成反应固化型硅酮树脂等。

固化型树脂的混合比例相对于清漆例如为30质量%以上，优选为40质量%以上，更优选为50质量%以上，而且，例如为98质量%以下，优选为95质量%以下，更优选为90质量%以下。

另外，在清漆中，根据需要，也能够含有荧光体和/或填充剂。

荧光体具有波长转换功能，例如可列举能够将蓝色光转换为黄色光的黄色荧光体、能够将蓝色光转换为红色光的红色荧光体等。

荧光体的混合比例相对于固化型树脂100质量份例如为0.1质量份以上，优选为0.5质量份以上，而且例如为80质量份以下，也优选为50质量份以下。

填充剂例如可列举硅粒子等有机微粒子、例如二氧化硅、滑石、氧化铝、氮化铝、氮化硅等无机微粒子。

填充剂的混合比例相对于固化型树脂100质量份例如为0.1质量份以上，优选为0.5质量份以上，而且，例如为70质量份以下，优选为50质量份以下。

在调制清漆时，具体地说，在罐55中混合上述各种成分，接下来，使用被内置于罐55内的搅拌机（未图示）将上述成分混合（预混合）。

清漆在25℃、1个大气压条件下的粘度例如为1000mPa·s以上，优选为4000mPa·s以上，而且，例如为1000000mPa·s以下，优选为100000mPa·s以下。另外，粘度是通过将清漆的温度调节为25℃、并使用E型锥形粘度计以转速99s^-1来进行测定的。

（容纳工序）

在容纳工序中，将在上表面载置有脱模基材7的输送载体6容纳于输送载体容纳部。

作为输送载体6的材料，例如可列举铝、铁、铜、不锈钢、上述金属的合金等金属、陶瓷、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂等树脂等。出于加热处理和冷却处理中的导热效率的观点，优选列举金属，更优选列举铝、不锈钢、铜或者上述金属的合金、陶瓷。

输送载体6呈俯视大致矩形形状，其前后方向长度例如为200mm～400mm，左右方向长度例如为200mm～400mm。

具体地说，脱模基材7例如可列举聚乙烯片材、聚酯片材（PET等）、聚苯乙烯片材、聚碳酸酯片材、聚酰亚胺片材等聚合物片材、例如陶瓷片材、例如金属箔等。也能够对脱模基材7的上表面实施氟处理等剥离处理。脱模基材7的前后方向长度设定为比输送载体6的前后方向长度短且脱模基材7的左右方向长度设定为比输送载体6的左右方向长度短。即，脱模基材7形成为在载置于输送载体6的上表面时在俯视状态下包含于输送载体6内的尺寸。

然后，在容纳工序中，在输送载体6的上表面上载置脱模基材7，之后，将上述输送载体6和脱模基材7在输送载体容纳部内沿上下方向堆叠多个。

（温度调整工序）

在温度调整工序中，将加热区域25和冷却区域26的温度预先调整为规定温度。具体地说，将热板31和冷却板36预先设定为规定温度。

在固化型树脂为两阶段固化型树脂的情况下，热板31的温度例如是能够使液状（A阶段）的单片片材2半固化（B阶段化）的温度，例如为80℃以上，优选为130℃以上，而且，例如为150℃以下，优选为140℃以下。

冷却板36的温度是能够对通过加热处理而被加热的半固化状态的单片片材2进行冷却的温度，在固化型树脂为两阶段固化型树脂的情况下，冷却板36的温度是能够维持半固化状态的温度，例如为10℃以上，优选为13℃以上，而且，例如为20℃以下，优选为15℃以下。

以下，说明按批次、即每次对1个输送载体6实施成膜工序和后处理工序的方法。

＜第1个批次中的制造方法＞

说明第1个批次（第1批次：1个周期中的最初的批次）中的片材的制造。

（从输送载体容纳部到载置台11之间的输送：第1批次的制造开始）

将在上表面载置有脱模基材7的第1片输送载体6（以下，也称作“输送载体”或“第1输送载体。）从输送载体容纳部输送到载置台11的上表面。

具体地说，通过使第1输送机器人的臂沿上下方向和前后方向移动，从而把持输送载体6，并从输送载体容纳部输送至载置台11的上表面。

（成膜工序）

成膜工序包括成膜准备工序、成膜处理工序以及涂膜检查工序。

[成膜准备工序]

在成膜准备工序中，如图2所示，在脱模基材7上形成圆孔64（参照图3），并且对脱模基材7的平坦度进行评价。

1.圆孔的形成

在成膜准备工序中，如图2的箭头所示，通过马达67的驱动使滚珠丝杠48旋转，使载置台11向前侧移动，并且使滑动构件63在架设棒18上向左侧滑动，从而使冲头60的刃79沿上下方向与脱模基材7相对地配置于脱模基材7的后端部的左右方向中央部。之后，利用缸机构（未图示）下压冲头60的刃79，由此，刃79对脱模基材7进行冲裁（冲压），在脱模基材7上形成圆孔（第1对准标记）64（参照图3）。圆孔64形成为贯穿脱模基材7的通孔。

之后，利用缸机构（未图示）自脱模基材7上拉冲头60的刃79，之后，通过马达67的驱动使滚珠丝杠48旋转，使载置台11向后侧移动，使冲头60的刃79沿上下方向与脱模基材7相对地配置于脱模基材7的前端部的左右方向中央部。之后，利用缸机构（未图示）下压冲头60的刃79，由此，刃79对脱模基材7进行冲裁（冲压），在脱模基材7上形成圆孔（第2对准标记）64。由此，在脱模基材7上沿前后方向隔开间隔地设置1对圆孔64。之后，利用缸机构（未图示）自脱模基材7上拉冲头60的刃79。

2.平坦度的评价

在形成1对圆孔64之后，对脱模基材7的上表面中的位于1对圆孔64之间的部位的平坦程度（平坦度）进行评价。在该片材制造装置1中，脱模基材7的平坦度被调整为当喷嘴15沿前后方向在脱模基材7上涂覆了1500mm时、前端部和后端部的上下方向的位置之差例如保持在50μm以下、优选25μm以下。另外，脱模基材7通常在左右方向和前后方向上形成为均匀的厚度，因此脱模基材7的平坦度与载置台11的平坦度同义。具体地说，通过马达67的驱动使滚珠丝杠48旋转，使载置台11沿前后方向移动，从而测定脱模基材7的上表面中的位于1对圆孔64之间的部分的平坦度。另一方面，通过使滑动构件63沿左右方向滑动，从而也测定左右方向上的脱模基材7的上表面的平坦度。然后，将由第1照相机70获得的脱模基材7的平坦度从第1照相机70输入并存储于存储器45。另外，在控制装置46中，CPU44从存储器45中获取脱模基材7和载置台11的平坦度，并且确认平坦度是否处于上述期望的范围内。

[成膜处理工序]

在成膜处理工序中，如图3所示，将清漆成膜于脱模基材7的上表面，将单片片材2形成为涂膜66。

具体地说，如图4和图5所示，首先，通过马达67的驱动使滚珠丝杠48旋转，并使载置台11向后方移动。由此，将输送载体6向后方输送。

并且，在输送载体6通过架设棒18的下方时，如图3所示，从喷嘴15喷出的清漆被涂覆于脱模基材7的上表面（表面）。即，在输送载体6通过架设棒18时，喷嘴15以与脱模基材7隔开极小的距离（间隙）CL（参照图10和图11）来接近的方式向下方移动，并利用泵14的运行使清漆从喷嘴15的开口部向脱模基材7喷出。另外，在从开口部向脱模基材7喷出清漆之后，将输送载体6向前方输送规定距离（即，作为目标的单片片材2的前后方向长度），之后使泵14停止，并且使喷嘴15向上方移动，使开口部与脱模基材7分开。由此，形成由清漆构成的单个单片片材2（涂膜66）。

此时，利用第1照相机70检测脱模基材7中的1对圆孔64的位置，将与圆孔64的位置相关的信息输入到存储器45中，并利用CPU44进行运算，根据从CPU44输出的喷嘴15的位置信息，上下移动构件62使喷嘴15对准脱模基材7。具体地说，根据1对圆孔64调整喷嘴15的前后方向的位置和左右方向的位置。

另外，为了使单片片材2成为期望的膜厚T而利用CPU44与清漆的粘度等相对应地预先运算上述间隙CL，并将喷嘴15的上下方向位置从CPU44输入到上下移动构件62。然后，以上下移动构件62位于喷嘴15的期望的上下方向位置的方式调节喷嘴15的高度，从而设定间隙CL。

另外，随着输送载体6通过架设棒18的下方，控制装置46根据输入到存储器45中的载置台11的前后方向的平坦度和脱模基材7的前后方向的平坦度，更具体地说，如图10所示，控制装置46根据随着脱模基材7朝向前后方向一侧（例如，后方）去而上升那样的倾斜（或者下降那样的倾斜）来改变喷嘴15的高度（具体地说，使喷嘴15上升或下降。）。

进而，利用第2照相机75检测喷嘴15的开口部的方向（朝向）。即，控制装置46根据输入到存储器45中的载置台11的左右方向的平坦度和脱模基材7的左右方向的平坦度，更具体地说，如图11所示，控制装置46根据随着脱模基材7朝向左右方向一侧（例如，右方）去而下降那样的倾斜（或者上升那样的倾斜）来调整喷嘴15的方向，以使喷嘴15的下端面与脱模基材7的上表面平行。即，上下移动构件62以使喷嘴15转动的方式旋转。

即，根据脱模基材7的平坦度、具体地说、脱模基材7的上表面的倾斜程度与沿后方行进的脱模基材7相应地改变喷嘴15的高度，而且使喷嘴15的下端面倾斜。

而且，如图3所示，利用第2照相机75在线（inline）连续地测定刚涂覆后的涂膜66的膜厚T。

之后，在将单片片材2成膜于脱模基材7之上后，使滚珠丝杠48旋转，使载置台11向成膜部3的前端部移动。

（将输送载体6从成膜部3的前端部向供给区域23输送）

接着，将输送载体6从成膜部3的前端部向供给区域23输送。

具体地说，预先使吸附移动板21移动到第2输送机构19的后端部、即成膜部3的前端部的上方。

接着，在将输送载体6输送到成膜部3的前端部之后，使气缸22伸长，即，使吸附移动板21下降，使4个吸盘43与输送载体6的上表面的四角相接触。接下来，利用4个吸盘43的吸附动作吸附输送载体6。

接下来，使气缸22缩短，即，使吸附移动板21上升，上拉输送载体6。

接下来，使气缸22沿着杆20移动至杆20的前端部、即供给区域23的上方。

接下来，使气缸22伸长，即，使吸附移动板21下降，下拉输送载体6。

接下来，在使吸附移动板21下降至输送载体6的下表面与供给区域23相接触之后，利用吸盘43的吸附解除动作将输送载体6载置于供给区域23的上表面。

（在供给区域23中进行的调整处理）

接着，使输送载体6在供给区域23中待机规定时间（调整处理）。供给区域23中的输送载体6的调整时间例如为1秒以上，而且，例如为30秒以下，优选为10秒以下。

（将输送载体6从供给区域23向脱泡区域24输送）

接着，将输送载体6从供给区域23向脱泡区域24输送。

首先，使第1输送机构38向供给区域23移动。具体地说，利用带轮机构使臂40移动至输送载体6的上侧。

接下来，利用缸机构使臂支承板41下降，由此，使1对臂40下降，使4个吸盘42与输送载体6的四角相接触。

接下来，利用吸盘42的吸附动作吸附输送载体6。

接下来，利用缸机构使臂支承板41上升，由此，使臂40上升，上拉输送载体6。

接下来，在上拉了输送载体6的状态下，利用带轮机构使臂支承板41向前方移动，由此，将输送载体6向前方输送，使输送载体6到达脱泡区域24的上方。

接下来，利用缸机构使臂支承板41下降，由此，使臂40下降，使输送载体6与脱泡区域24的上表面相接触。

接下来，利用吸盘42的吸附解除动作，将输送载体6载置于脱泡区域24的上表面。

接下来，使第1输送机构38向前方或后方移动而使其自脱泡区域24退避。

（脱泡处理）

接着，在脱泡区域24中实施对单片片材2进行脱泡的脱泡处理。

具体地说，使真空泵P运行，使输送载体6吸附于第1吸附底板29。

接下来，如图7所示，关闭真空腔室28，利用真空腔室28与第1吸附底板29密闭脱泡区域24，形成密闭空间。

接下来，使与真空腔室28相连的真空泵P运行，使密闭空间成为真空（或减压）。

由此，去除单片片材2内部所含有的气泡和存在于单片片材2与脱模基材7之间的界面中的气泡。

真空度例如为100Pa以下，优选为10Pa以下。

该脱泡处理所需的时间例如为30秒以上，优选为60秒以上，而且，例如为180秒以下，优选为120秒以下。

（将输送载体6从脱泡区域24向第1加热区域25a输送）

接着，将载置有被脱泡处理后的单片片材2的输送载体6从脱泡区域24向第1加热区域25a输送。

具体地说，解除密闭空间的减压和输送载体6的吸附，打开真空腔室28。之后，使第1输送机构38与从供给区域23向脱泡区域24的输送同样地运行，将输送载体6从脱泡区域24向第1加热区域25a输送。

（加热处理）

接着，在第1加热区域25a中实施对单片片材2进行加热的加热处理。

具体地说，使真空泵P运行，使输送载体6吸附于第2吸附底板33。

接下来，如图8所示，关闭保温罩32，利用保温罩32与第2吸附底板33密闭第1加热区域25a，形成密闭空间。

由此，热板31的热量经由第2吸附底板33和输送载体6向单片片材2传导，其结果，单片片材2被加热。另外，也利用密闭空间的高温空气对单片片材2进行加热。

加热时间例如为120秒以上，优选为180秒以上，而且，例如为1500秒以下，优选为1200秒以下。

（将输送载体6从第1加热区域25a向冷却区域26输送）

接着，将载置有被加热处理后的单片片材2的输送载体6从第1加热区域25a向冷却区域26输送。

具体地说，解除密闭空间的减压和输送载体6的吸附，打开保温罩32。之后，使第1输送机构38与从供给区域23向脱泡区域24的输送同样地运行，将输送载体6从第1加热区域25a向冷却区域26输送。

（冷却处理）

接着，在冷却区域26中实施对单片片材2进行冷却的冷却处理。

具体地说，如图5所示，使真空泵P运行，使输送载体6吸附于第3吸附底板35。在冷却板36中，在冷却循环通路36a内流通有制冷剂。

由此，冷却板36隔着第3吸附底板35和输送载体6对单片片材2进行冷却。

冷却时间例如为30秒以上，优选为45秒以上，而且，例如为120秒以下，优选为60秒以下。

（将输送载体6从冷却区域26向排出区域27输送）

接着，将载置有被冷却处理后的单片片材2的输送载体6从冷却区域26向排出区域27输送。

具体地说，解除输送载体6的吸附，之后，使第1输送机构38与从供给区域23向脱泡区域24的输送同样地运行，将输送载体6从冷却区域26向排出区域27输送。

（将输送载体6从排出区域27向回收部输送）

接着，将输送载体6从排出区域27向回收部输送。

具体地说，通过使第2输送机器人的臂沿上下方向和前后方向移动，从而把持输送载体6，并从排出区域27向回收部输送。之后，回收部将输送载体6回收到内部。

＜第2个批次中的制造方法＞

在第2个批次（第2批次）中，除了单片片材2在第2加热区域25b中被加热处理以外，与第1个批次（第1批次）同样地制造单片片材2。

＜第3个批次中的制造方法＞

在第3个批次（第3批次）中，除了单片片材2在第3加热区域25c中被加热处理以外，与第1个批次（第1批次）同样地制造单片片材2。

＜第4次以后的批次中的制造方法＞

在第4次以后的批次中，与上述第1个批次～第3个批次（第1批次～第3批次）同样地制造单片片材2。

[作用效果]

并且，根据该片材制造装置1，能够利用激光位移计65检测喷嘴15与从喷嘴15涂覆的涂膜66的上表面（被涂覆面）之间的距离L2（参照图3）以及涂膜66的膜厚T，并根据该距离L2和/或膜厚T（参照图4）在支承构件12的架设棒18上调整涂覆构件13的喷嘴15的位置，同时利用控制装置46控制涂膜66的膜厚T。

因此，能够将涂膜66（单片片材2）准确地形成于脱模基材7。

另外，根据该片材制造装置1，能够利用激光位移计65更准确地检测喷嘴15与从喷嘴15涂覆到脱模基材7上的涂膜66的上表面（被涂覆面）之间的距离L2（参照图3）、和/或测定涂膜66的膜厚T，而且，能够利用激光位移计65在线检测、即连续地检测刚被涂覆后的涂膜66。

根据该片材制造装置1，能够利用第1照相机70根据圆孔64使喷嘴15对准脱模基材7。因此，能够将涂膜66更准确地形成于脱模基材7。

另外，根据该片材制造装置1，能够利用冲头60简单地形成圆孔64，并根据该圆孔64利用第1照相机70简单地使喷嘴15对准脱模基材7。

另外，根据该片材制造装置1，由于将圆孔64形成在脱模基材7的沿前后方向的两侧，因此能够根据1对圆孔64高精度地调整涂膜66的涂覆方向的长度。

另外，根据该片材制造装置1，能够利用第2照相机75简单地检测喷嘴15的运行方向，因此能够准确地调整喷嘴15相对于脱模基材7的涂覆方向。

另外，根据该片材制造装置1，只要载置台11的平坦度为上述上限以下，就能够将喷嘴15准确相对于脱模基材7配置，由此，能够将涂膜66高精度地形成于脱模基材7。

另外，根据该片材制造装置1，能够利用混合器56有效地对从泵14向喷嘴15送出的、含有荧光体和/或填充剂的清漆进行搅拌。

另外，根据该片材制造装置1，能够利用作为蛇形泵的泵14向混合器56定量地供给用于构成涂膜66的清漆，并且能够利用作为静态混合器的混合器56静态地进行搅拌。因此，能够高精度地形成涂膜66。

根据该片材制造装置1，能够利用冲头60在脱模基材7上形成圆孔64，并一边在支承构件12的架设棒18上调整涂覆构件13的喷嘴15的位置，一边利用第1照相机70根据圆孔64使喷嘴15对准脱模基材7。因此，能够将涂膜66准确地形成于脱模基材7。

另外，根据该片材制造装置1，能够利用冲头60简单地形成圆孔64，并根据该圆孔64利用第1照相机70简单地使喷嘴15对准脱模基材7。

[变形例]

在上述实施方式中，将单片片材2形成为单层，但是也能够沿上下方向（厚度方向）层叠地形成多个涂膜66。在该情况下，在形成第2层（上层）涂膜66时，利用第1照相机70检测圆孔64，并向控制装置46输入，接下来，CPU44计算出第1层（下层）涂膜66的位置，并根据该第1层涂膜66的位置确定第2片涂膜66的位置，将两片涂膜66的涂覆预定位置向上下移动构件62输出。

在上述实施方式中，作为本实用新型的位移计，例示了激光位移计65，但是，例如也可以采用分光干涉式、静电电容式等非接触式的位移计。

在上述实施方式中，作为对准标记形成了圆孔64，但是其形状并不特别限定，具体地说，也能够形成为大致多边形状、大致X字形状、大致V字形状等合适的形状。

另外，将本实用新型的对准标记形成为贯穿脱模基材7的圆孔64（通孔），但是，例如，虽未图示，例如也能够在脱模基材7的上表面上将对准标记形成为凹部。

在上述实施方式中，将1对圆孔64在前后方向上与单片片材2隔开间隔地设置在了脱模基材7上，但是例如，虽未图示，但也能够将1对圆孔64在左右方向上与单片片材2隔开间隔地进行设置。

在上述实施方式中，将脱模基材7隔着输送载体6载置在了载置台11上，但是，例如，虽未图示，但也能够将脱模基材7直接载置于载置台11的上表面。

在上述实施方式中，在各个批次中，通过清漆的涂覆形成了单个单片片材2，但是，例如，也能够通过涂覆清漆同时并列形成多个单片片材2。

在上述实施方式中，由成膜部3和后处理部4构成了片材制造装置1，但是例如，也能够仅由成膜部3构成片材制造装置1。在该情况下，涂膜66由未固化的清漆构成。

在上述实施方式中，在片材制造装置1中使混合器56夹设于泵14与喷嘴15之间。但是，虽未图示，也可以不在片材制造装置1中设置混合器56，而是直接或者借助配管连接喷嘴15和泵14。在该情况下，例如，也可以不含有荧光体和/或填充剂地调制清漆。

在上述实施方式中，将载置台11作为真空吸附式载物台进行了说明，但是，例如，也能够将载置台11构成为静电吸附式载物台。静电吸附式载物台是通过向静电吸附式载物台流动电流而能够在其表面产生吸附力的静电吸附板。这样的载置台11例如能够采用与第1吸附底板29同样的结构。

另外，作为本实用新型的例示的实施方式提供了上述技术方案，但是上述技术方案只不过是单纯的例示，不能限定性地进行解释。对于该技术领域的技术人员来说显而易见的本实用新型的变形例包含于后述的权利要求书中。

Claims (20)

1.一种成膜装置，其特征在于，包括：

载物台、支架、涂覆构件、位移计以及膜厚控制机构；

所述载物台用于放置基材；

所述涂覆构件包括泵和与所述泵相连的喷嘴；

所述涂覆构件以所述喷嘴对着所述载物台的方式支承在所述支架上，并能够在所述支架上调整位置；

所述位移计用于检测所述喷嘴与从所述喷嘴涂覆于所述基材的膜的被涂覆面之间的距离，和/或测定所述膜的厚度；

所述膜厚控制机构用于控制所涂覆的所述膜的厚度。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述位移计为激光位移计。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括：

标记形成装置，其用于在所述基材上形成对准标记；以及

对准装置，其用于根据所述对准标记进行对准。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述标记形成装置为冲头，所述冲头冲压所述基材形成所述对准标记；

所述对准装置为照相机。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

所述对准标记形成在所述基材的沿涂覆方向的两侧。

6.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括测向装置，用于确认所述喷嘴的运行方向。

7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，所述测向装置为照相机。

8.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述载物台为吸附式载物台。

9.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述载物台的平坦度在1500mm的涂覆行程中保持在50μm以下。

10.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括夹设于所述泵与所述喷嘴之间的混合器。

11.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，所述泵为蛇形泵，所述混合器为静态混合器。

12.一种成膜装置，其特征在于，包括：

载物台、支架、涂覆构件、标记形成装置以及对准装置，其中，

所述载物台用于放置基材；

所述涂覆构件包括泵和与所述泵相连的喷嘴，所述涂覆构件以喷嘴对着所述载物台的方式设置在所述支架上，并能够在所述支架上调整位置；

所述标记形成装置用于在所述基材上形成对准标记；

所述对准装置用于根据所述对准标记进行对准。

13.根据权利要求12所述的成膜装置，其特征在于，所述标记形成装置为冲头，所述冲头冲压所述基材形成所述对准标记；

所述对准装置为照相机。

14.根据权利要求12或13所述的成膜装置，其特征在于，所述对准标记形成在所述基材的沿涂覆方向的两侧。

15.根据权利要求12或13中任一项所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括测向装置，用于确认所述喷嘴的运行方向。

16.根据权利要求15所述的成膜装置，其特征在于，所述测向装置为照相机。

17.根据权利要求12或13所述的成膜装置，其特征在于，所述载物台为吸附式载物台。

18.根据权利要求12或13所述的成膜装置，其特征在于，所述载物台的平坦度在1500mm的涂覆行程中保持在50μm以下。

19.根据权利要求12或13所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜装置还包括夹设于所述泵与所述喷嘴之间的混合器。

20.根据权利要求19所述的成膜装置，其特征在于，所述泵为蛇形泵，所述混合器为静态混合器。

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