CN203667694U - 真空等离子体表面处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种真空等离子体表面处理设备，其包括放卷仓、收卷仓及等离子体处理仓，其中：放卷仓内部设有放卷导辊和放卷张力辅助导辊，且放卷仓与等离子体处理仓连接的处设有开口，用于将卷绕材料由放卷仓穿入到等离子体处理仓；等离子体处理仓安装有支撑辅助导辊和上、下电极板，支撑辅助导棍用于支撑所述卷绕材料并所述防止材料垂落到所述上、下电极板，且支撑辅助导辊的上切面位于下电极板和上电极板的中心位置；收卷仓内部安装有纠偏系统、收卷张力辅助导辊和收卷导辊。本实用新型采用自动放卷收卷，在真空下自动完成卷绕材料的等离子体表面处理工序，大大提高了生产效率。

Description

真空等离子体表面处理设备

技术领域

本实用新型涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种真空等离子体表面处理设备。

背景技术

离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。在现有的真空等离子处理设备当中，大多数只能处理单片材料。对于卷绕材料，更多的必须加工成单片后才能利用现有的等离子处理设备进行处理。这不仅使得加工过程复杂，加工工序繁琐，生产效率低下，而且也大大地增加了生产成本。当前有极少部分能够做到真空下自动收放卷进行等离子体表面处理，但其由于正负电极板为垂直间隔放置且间距较小，导致绕卷材料的走料非常困难，效率不高，而且容易对材料和设备造成污染。而且其进气均匀性和等离子体隔离性能也有较大缺陷，对卷绕材料的处理效果和设备本身的保护都有不利影响。

综上可知，现有的真空等离子体表面处理设备，在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

实用新型内容

针对上述的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种真空等离子体表面处理设备，采用自动放卷收卷，在真空下自动完成卷绕材料的等离子体表面处理工序，可大大提高生产效率。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，其特征在于，所述处理设备包括放卷仓、收卷仓及连接在所述放卷仓和收卷仓之间的等离子体处理仓，其中：

所述放卷仓内部设有放卷导辊和放卷张力辅助导辊，且所述放卷仓与等离子体处理仓连接的处设有用于将所述卷绕材料由所述放卷仓穿入到所述等离子体处理仓的开口；

所述等离子体处理仓安装有支撑辅助导辊和上、下电极板，所述支撑辅助导棍用于支撑所述卷绕材料并防止所述材料垂落到所述上、下电极板，且所述支撑辅助导辊的上切面位于所述下电极板和上电极板的中心位置；

所述收卷仓内部安装有纠偏系统、收卷张力辅助导辊和收卷导辊。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述放卷导辊为两端支撑，且所述放卷导辊的一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述放卷导辊后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机连接。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述放卷张力辅助导辊为两端支撑，且所述放卷张力辅助导辊安装有用于检测放卷侧所述卷绕材料的张力的张力控制器。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述等离子体处理仓具有上门，所述下电极板通过绝缘部件连接到所述等离子体处理仓的内下面，所述上电极板通过绝缘部件连接到所述等离子体处理仓的上门。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述纠偏系统包括导向系统和纠偏传感器。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述纠偏传感器为U型结构，所述卷绕材料边缘从所述U型纠偏传感器的正中穿过。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述收卷导辊后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机链接，所述驱动电机可带动所述收卷导辊任意正反旋转。

根据本实用新型的真空等离子体表面处理设备，所述收卷张力辅助导辊为两端支撑，所述收卷张力辅助导辊装有用于检测收卷侧所述卷绕材料的张力的张力控制器；

所述收卷导辊为两端支撑，且所述收卷导辊的一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置，且所述收卷导辊为气涨轴结构。

本实用新型通过设置放卷仓、收卷仓及等离子体处理仓对卷绕材料进行处理，其中：放卷仓内部设有放卷导辊和放卷张力辅助导辊，且放卷仓与等离子体处理仓连接的处设有开口，用于将卷绕材料由放卷仓穿入到等离子体处理仓；等离子体处理仓安装有支撑辅助导辊和上、下电极板，支撑辅助导棍用于支撑所述卷绕材料并所述防止材料垂落到所述上、下电极板，且支撑辅助导辊的上切面位于下电极板和上电极板的中心位置；收卷仓内部安装有纠偏系统、收卷张力辅助导辊和收卷导辊，用于对发生偏离的所述卷绕材料的位置进行引导纠正。本实用新型采用自动放卷收卷，在真空下自动完成卷绕材料的等离子体表面处理工序，大大提高了生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的真空等离子体表面处理设备第一结构示意图；

图2是本实用新型的真空等离子体表面处理设备第二结构示意图；

图3是本实用新型的真空等离子体表面处理设备第三结构示意图；

图4是本实用新型的真空等离子体表面处理设备第四结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

参见图1～图4，本实用新型提供了一种真空等离子体表面处理设备，其用于对卷绕材料的表面处理。该处理设备包括整体机架1、放卷仓2、收卷仓3及连接在所述放卷仓2和收卷仓3之间的等离子体处理仓4，其中：

所述放卷仓2内部设有放卷导辊21和放卷张力辅助导辊22，且所述放卷仓2与等离子体处理仓4的连接处设有开口，用于将卷绕材料由放卷仓2穿入到所述等离子体处理仓4。

所述等离子体处理仓4安装有支撑辅助导辊41、上电极板43和下电极板42。所述支撑辅助导棍41用于支撑所述卷绕材料并防止材料垂落到所述上、下电极板，以更好的保护材料和设备本身，所述支撑辅助导辊41的上切面位于所述下电极板42和上电极板43的中心位置。

所述收卷仓3内部安装有纠偏系统31、收卷张力辅助导辊32和收卷导辊33。纠偏系统31用于对发生偏离的所述卷绕材料的位置进行引导纠正。

本实用新型处理的卷绕材料最大宽度为500mm，对卷绕材料的处理速度为0.1-3m/min，并且所有腔体和电极板包括但不限于由铝合金材料构成。本实用新型极板采用单向连续放置，且上极板能够移动或打开，工人走料时只需将卷绕材料单向拉过即可，避免材料污染，增强了实用性。

需要说明的，图示中的等离子体处理仓4在此处只示出两个，但本实用新型可以根据实际工作需要，可对等离子体处理仓相应增加或减少处理，但最少需保留一个。

本实用新型的一实施例中，放卷仓2有两个门，分别位于顶部和远离等离子体处理仓4的一侧，侧门用于将卷绕材料装卸到放卷导辊，顶门用于方便工人布料、走料。

放卷导辊21为两端支撑，一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置，锁紧装置放开时，放卷导辊21以固定端为圆心，可以横向旋转，方便装卸卷材。优选的，所述放卷导辊21为气涨轴结构，用于锁紧卷材卷心，防止其随意滑动。并且放卷导辊21后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机链接，可以通过电机带动导辊任意正反旋转，借此实现收放卷的快速启停。

放卷张力辅助导辊22为两端支撑，其中一端装有张力控制器，用于检测放卷侧卷绕材料的张力，保证卷绕材料的张紧力度，防止材料拉伤或拖坠，起到保护材料的作用。

等离子体处理仓4的顶部为可开门设计，上门44可以安装合页后向后上方打开，也可以垂直提升。同时，如果等离子体处理仓4的上门44较重，本实用新型可以加装液压杆或气缸来辅助开关和提升。进一步的，等离子体处理仓4两端各有细长开口，用于卷绕材料穿过。

优选的，每个等离子体仓4内支撑辅助导辊41的数量为三个或四个，起到支撑卷绕材料，并防止材料垂落到极板的作用。

优选的，支撑辅助导辊41上切面位于下电极板42和上电极板43的中心位置。

另外，一个等离子体处理仓4内有下电极板42和上电极板43，分别连接到等离子电源的高低电平。且下电极板42通过绝缘部件连接到等离子体处理仓4的内下面，上电极板43通过绝缘部件连接到等离子体处理仓4的上门44。当上门44打开时，上电极板43随上门44一起提升，将支撑辅助导辊41完全露出，方便工人布料、走料，同时也便于维修、安装。

本实用新型的实施例中，收卷仓3有两个门，分别位于顶部和远离等离子体处理仓4的一侧。侧门用于将卷绕材料装卸到放卷导辊，顶门用于方便工人布料、走料。

收卷仓3在与等离子体处理仓4连接的部分有小开口，用于将卷绕材料穿入到等离子体处理仓4。

收卷仓3的纠偏系统31包括导向系统和纠偏传感器。纠偏传感器为U型结构，卷绕材料边缘从此U型正中穿过，纠偏传感器通过感应红外或超声波等技术来判断卷绕材料的位置，借此控制导向系统偏转方向，将卷绕材料引导回到既定位置，其控制精度可达±1mm。

收卷张力辅助导辊32为两端支撑，其中一段装有张力控制器，用于检测收卷侧卷绕材料的张力，保证卷绕材料的张紧力度，防止材料拉伤或拖坠，起到保护材料的作用。

收卷导辊33为两端支撑，一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置，锁紧装置放开时，导辊以固定端为圆心，可以横向旋转，方便与装卸卷材。收卷导辊33可以为气涨轴结构，可以锁紧卷材卷心，防止其随意滑动。另外，收卷导辊33后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机链接，可以通过电机带动导辊任意正反旋转，借此实现收放卷的快速启停。

综上所述，本实用新型通过设置放卷仓、收卷仓及等离子体处理仓对卷绕材料进行处理，其中：放卷仓内部设有放卷导辊和放卷张力辅助导辊，且放卷仓与等离子体处理仓连接的处设有开口，用于将卷绕材料由放卷仓穿入到等离子体处理仓；等离子体处理仓安装有支撑辅助导辊和上、下电极板，支撑辅助导棍用于支撑所述卷绕材料并所述防止材料垂落到所述上、下电极板，且支撑辅助导辊的上切面位于下电极板和上电极板的中心位置；收卷仓内部安装有纠偏系统、收卷张力辅助导辊和收卷导辊，用于对发生偏离的所述卷绕材料的位置进行引导纠正。本实用新型采用自动放卷收卷，在真空下自动完成卷绕材料的等离子体表面处理工序，大大提高了生产效率。

当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，其特征在于，所述处理设备包括放卷仓、收卷仓及连接在所述放卷仓和收卷仓之间的等离子体处理仓，其中：

所述放卷仓内部设有放卷导辊和放卷张力辅助导辊，且所述放卷仓与等离子体处理仓连接的处设有用于将所述卷绕材料由所述放卷仓穿入到所述等离子体处理仓的开口；

所述等离子体处理仓安装有支撑辅助导辊和上、下电极板，所述支撑辅助导棍用于支撑所述卷绕材料并防止所述材料垂落到所述上、下电极板，且所述支撑辅助导辊的上切面位于所述下电极板和上电极板的中心位置；

所述收卷仓内部安装有纠偏系统、收卷张力辅助导辊和收卷导辊。

2.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放卷导辊为两端支撑，且所述放卷导辊的一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置。

3.根据权利要求2所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放卷导辊后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机连接。

4.根据权利要求3所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述放卷张力辅助导辊为两端支撑，且所述放卷张力辅助导辊安装有用于检测放卷侧所述卷绕材料的张力的张力控制器。

5.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述等离子体处理仓具有上门，所述下电极板通过绝缘部件连接到所述等离子体处理仓的内下面，所述上电极板通过绝缘部件连接到所述等离子体处理仓的上门。

6.根据权利要求1所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述纠偏系统包括导向系统和纠偏传感器。

7.根据权利要求6所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述纠偏传感器为U型结构，所述卷绕材料边缘从所述U型纠偏传感器的正中穿过。

8.根据权利要求7所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述收卷导辊后部通过磁粉离合器与带有刹车装置的驱动电机连接，所述驱动电机可带动所述收卷导辊任意正反旋转。

9.根据权利要求8所述的真空等离子体表面处理设备，其特征在于，所述收卷张力辅助导辊为两端支撑，所述收卷张力辅助导辊装有用于检测收卷侧所述卷绕材料的张力的张力控制器；

所述收卷导辊为两端支撑，且所述收卷导辊的一端固定，另一端可以滑开并配有锁紧装置，且所述收卷导辊为气涨轴结构。

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