CN203636571U - 一种新型抛光底座 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型抛光底座，包括底座本体，和设于底座本体上的抛光治具，所述的抛光治具为板状体，其上表面设有四边形的凹槽；所述凹槽内嵌设有环形挡圈，环形挡圈内构成用于放入玻璃的四边形凹腔；环形挡圈的上端面低于玻璃的上表面0.3-0.35mm；四边形凹腔内至少设有一个真空吸气孔。本实用新型由于环形挡圈的阻挡作用，在对玻璃进行抛光处理时，杜绝了玻璃四周侧边厚度超出公差这一缺陷的发生。其中，环形挡圈高于治具表面的高度等于玻璃板被抛光之后侧边的高度。不同厚度的玻璃板可以更换不同高度的环形挡圈。本实用新型也可以用于其它产品的抛光，比如塑胶制品。

Description

一种新型抛光底座

技术领域

本实用新型涉及一种抛光用的底座结构，更具体地说是指一种新型抛光底座。

背景技术

目前针对玻璃板进行抛光加工中，首先用赛钢板（POM，聚甲醛）材料，加工出承放玻璃的治具，玻璃装入治具型腔，放在抛光机的底座上，用地毯进行抛光。这种抛光方法，玻璃边缘处理不均匀，特别是玻璃四周的斜边磨下去太多，超出规定的限度，导致产品报废。

因此，有必要开发出一种新的底座结构。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种新型抛光底座，可以防止玻璃板的边角处被过度地抛光而导致产品报废。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种新型抛光底座，包括底座本体，和设于底座本体上的抛光治具，所述的抛光治具为板状体，其上表面设有四边形的凹槽；所述凹槽内嵌设有环形挡圈，环形挡圈内构成用于放入玻璃的四边形凹腔；环形挡圈的上端面低于玻璃的上表面0.3-0.35mm；四边形凹腔内至少设有一个真空吸气孔。

其进一步技术方案为：所述的环形挡圈宽度为1.5-2.5mm，凹槽的深度为3-5mm。

其进一步技术方案为：所述的环形挡圈为不锈钢圈。

其进一步技术方案为：被抛光的玻璃为0.7mm的厚度；环形挡圈高于底座本体表面0.35mm。

其进一步技术方案为：所述抛光治具为四个，对称分布于底座本体上。

其进一步技术方案为：所述的底座本体与抛光设备的机座旋转联接。

本实用新型与现有技术相比的有益效果是：本实用新型由于环形挡圈的阻挡作用，在对玻璃进行抛光处理时，杜绝了玻璃四周侧边厚度超出公差这一缺陷的发生。归纳起来，其优点如下：1）加工玻璃整体厚度均匀；2）玻璃四角厚度满足客户公差要求；3）弧形边缘，手感好，晶莹剔透，视觉效果极佳。其中，环形挡圈高于治具表面的高度等于玻璃板被抛光之后侧边的高度。不同厚度的玻璃板可以更换不同高度的环形挡圈。本实用新型也可以用于其它产品的抛光，比如塑胶制品。

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步描述。

附图说明

图1为本实用新型一种新型抛光底座具体实施例的立体示意图；

图2为图1中的左上角的局部放大图；

图3为图1实施例中玻璃板装入抛光治具内，未开始抛光时的局部剖视图；

图4为图1实施例中玻璃板装入抛光治具内，抛光结束时局部剖视图。

附图标记

10     底座本体    20    抛光治具

200    凹槽        30    环形挡圈

300    四边形凹腔  40    玻璃

具体实施方式

为了更充分理解本实用新型的技术内容，下面结合具体实施例对本实用新型的技术方案进一步介绍和说明，但不局限于此。

如图1至图4所示的具体实施例，本实用新型一种新型抛光底座，包括底座本体10，和设于底座本体10上的抛光治具20，抛光治具20为板状体，其上表面设有四边形的凹槽200（环形结构，即凹槽形成一个封闭的环形凹槽）；凹槽200内嵌设有环形挡圈30，环形挡圈30内构成用于放入玻璃的四边形凹腔300；环形挡圈30的上端面低于玻璃40的上表面0.35mm；四边形凹腔300内设有一个真空吸气孔（以实现真空吸附玻璃板）。

本实施例中，环形挡圈宽度为2mm，凹槽的深度为3mm。环形挡圈为不锈钢圈材料做成。被抛光的玻璃40为0.7mm的厚度；环形挡圈30高于底座本体10的上表面0.35mm。

本实施例中，抛光治具20为四个，对称分布于底座本体10上。底座本体10与抛光设备的机座旋转联接。

于其它实施例中，在同一底座上，抛光治具可以是一个、二个或六个等不同的数量。于其它实施例中，环形挡圈也可以采用铝合金之类的材料。

于其它实施例中，环形挡圈可以设有缺口，以便通过一个条状的金属体绕制而成，该缺口可以焊接在一起。

于其它实施例中，为了考虑到环形挡圈的更换（长期使用会有磨损），因此，环形挡圈与凹槽的配合为有微量过盈量的过盈配合，同时为了防止环形挡圈从凹槽中脱落，在凹槽底部设有与真空吸气孔相连通的细孔；以形成真空吸力，防止环形挡圈从凹槽中脱落出来或向上移动。

综上所述，本实用新型由于环形挡圈的阻挡作用，在对玻璃进行抛光处理时，杜绝了玻璃四周侧边厚度超出公差这一缺陷的发生。归纳起来，其优点如下：1）加工玻璃整体厚度均匀；2）玻璃四角厚度满足客户公差要求；3）弧形边缘，手感好，晶莹剔透，视觉效果极佳。其中，环形挡圈高于治具表面的高度等于玻璃板被抛光之后侧边的高度。不同厚度的玻璃板可以更换不同高度的环形挡圈。本实用新型也可以用于其它产品的抛光，比如塑胶制品。

上述仅以实施例来进一步说明本实用新型的技术内容，以便于读者更容易理解，但不代表本实用新型的实施方式仅限于此，任何依本实用新型所做的技术延伸或再创造，均受本实用新型的保护。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。

Claims (6)

1.一种新型抛光底座，包括底座本体，和设于底座本体上的抛光治具，其特征在于所述的抛光治具为板状体，其上表面设有四边形的凹槽；所述凹槽内嵌设有环形挡圈，环形挡圈内构成用于放入玻璃的四边形凹腔；环形挡圈的上端面低于玻璃的上表面0.3-0.35mm；四边形凹腔内至少设有一个真空吸气孔。

2.根据权利要求1所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的环形挡圈宽度为1.5-2.5mm，凹槽的深度为3-5mm。

3.根据权利要求2所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的环形挡圈为不锈钢圈。

4.根据权利要求3所述的一种新型抛光底座，其特征在于被抛光的玻璃为0.7mm的厚度；环形挡圈高于底座本体表面0.35mm。

5.根据权利要求4所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的抛光治具为四个，对称分布于底座本体上。

6.根据权利要求4所述的一种新型抛光底座，其特征在于所述的底座本体与抛光设备的机座旋转联接。

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