CN203561594U - 工业无损检测设备 - Google Patents
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Abstract
一种工业无损检测设备,其包括X光机、线阵或平板探测器以及防护铅房,其中,还包括:工作台,用于承载工件;第一平台,沿X方向可移动地设于工作台上方;第二平台,沿Y方向可移动地设于第一平台下表面,X光机设于第二平台下表面;第三平台,沿X方向可移动地设于工作台下方;第四平台,沿Y方向可移动地设于第三平台上表面,线阵或平板探测器设于第四平台上表面;驱动系统,设于第一平台、第二平台、第三平台和第四平台,以驱动第一平台、第二平台、第三平台和第四平台移动;其中,X方向、Y方向为在投影在同一水平面中的相互垂直的两个方向。本实用新型可以精确查找并定位缺陷、瑕疵点;提高工件适应能力;改变X射线设备适用行业局限性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种工业检测设备,尤其涉及一种利用X射线的工业无损检测设备。
背景技术
工业用X射线检测设备原理是:通过X射线透照工件,由成像器转换成数字信号,再经计算机软件还原成影像图档后,进行判图、标注、储存等作业。
但是,目前的X射线检测设备基本是行业(或按工件)定制,一般只能满足特定产品或特定行业的品质检测及研判,适用范围较为狭窄,不能适应工件的规格、形状、材质(密度)等因素的改变,受此局限,如果导入新制程、新工件,则需另行购置新的设备,采购和制造、管理及维护成本均随之增加,且占用场地和空间;另外,现有的X射线检测设备只能平面成像,不能准确的定位并显示缺陷、瑕疵点(或区域)的立体位置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种工业无损检测设备,以解决现有技术存在的不能三维成像、不能观看剖视图、不能定位几何位置、适用行业存在局限性、只适应同质工件等问题。
为了解决上述问题,本实用新型提供一种工业无损检测设备,其包括用于发射X射线的X光机、用于接收X射线的线阵或平板探测器以及用于设置所述X光机、线阵或平板探测器的防护铅房,其中,还包括:工作台,用于承载工件;第一平台,沿X方向可移动地设于所述工作台上方;第二平台,沿Y方向可移动地设于所述第一平台下表面,所述X光机设于所述第二平台下表面;第三平台,沿X方向可移动地设于所述工作台下方;第四平台,沿Y方向可移动地设于所述第三平台上表面,所述线阵或平板探测器设于所述第四平台上表面;驱动系统,设于所述第一平台、第二平台、第三平台和第四平台,以驱动所述第一平台、第二平台、第三平台和第四平台移动;其中,所述X方向、Y方向为在投影在同一水平面中的相互垂直的两个方向。
优选地,所述工作台可移动地设于所述防护铅房中,所述防护铅房的侧面设有供所述工作台进出的进出口,所述进出口上设有用于启闭所述进出口的防护铅门。
优选地,所述工作台呈L型的板状结构,且所述工作台的一端下表面设有第一滑块,所述防护铅房中设有第一导轨,所述第一滑块设于所述第一导轨上。
优选地,所述工作台的另一端下部设有滚轮。
优选地,所述防护铅房顶壁下表面设有沿X方向延伸的第二导轨,所述第一平台的上表面设有第二滑块,所示第二滑块设于所述第二导轨上。
优选地,所述第一平台下表面设有沿Y方向延伸的第三导轨,所述第二平台的上表面设有第三滑块,所述第三滑块设于所述第三导轨上。
优选地,所述防护铅房中设有底座;所述底座的上表面设有沿X方向延伸的第四导轨,所述第三平台的下表面设有第四滑块,所述第四滑块设于所述第四导轨上。
优选地,所述第三平台上表面设有沿Y方向延伸的第五导轨,所述第四平台的下表面设有第五滑块,所述第五滑块设于所述第五导轨上。
由上分析,本实用新型可视需求选择二维或三维成像,精确查找并定位缺陷、瑕疵点(或区域)的几何位置,影像研判更精准、直观;可以大幅提高X射线设备工件适应能力;可以改变X射线设备适用行业局限性。
附图说明
图1为本实用新型实施例的主视结构示意图;
图2为本实用新型实施例内部的右视示意图;
图3为本实用新型实施例的工作台伸出防护铅房时的结构示意图;
图4为本实用新型实施例的操控台的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细说明。
如图1和图2所示,本实用新型实施例包括用于发射X射线的X光机31、用于接收X射线的线阵或平板探测器32以及用于设置或者容纳X光机31、线阵或平板探测器32运行的防护铅房1。为了扩大适用范围和提高成像质量,本实施例还包括工作台5、第一平台21、第二平台22、第三平台41、第四平台42以及驱动系统。
工作台5检测工件时位于防护铅房1中,用于承载工件,也即,工件定位于工作台5上表面上。第一平台21沿X方向可移动地设于工作台5上方,在图1和图3中,X方向即为防护铅房1的长度方向;第二平台22沿Y方向可移动地设于第一平台22下表面,X光机31设于第二平台22下表面,Y方向即为防护铅房1的宽度方向;第三平台41沿X方向可移动地设于工作台5下方;第四平台42沿Y方向可移动地设于第三平台41上表面,线阵或平板探测器32设于第四平台42上表面。
在本实施例中,X方向、Y方向为在投影在同一水平面中的相互垂直的两个方向,并非在同一平面中。
驱动系统包括控制机构、操控机构、动力输出机构、传动机构、管道或线缆机构等,由于对本领域技术人员来说,利用动力输出机构,如伺服电机、气缸、油缸驱动一平台水平移动,可以轻易推知具有实现方式,在此不再一一赘述,为了简化附图,附图也未显示大多驱动系统的部件。在本实施例中,各平台利用伺服电机驱动,第一平台21、第二平台22、第三平台41、第四平台42上设有相应的伺服电机及相应的传动机构,例如丝杠螺母机构、齿轮传动机构等,各伺服电机的控制器PLC等位于图4所示的操控台上,各伺服电机与操控台协同驱动第一平台21、第二平台22、第三平台41、第四平台42沿着设定的方向移动。
在本实施例中,X光机31、线阵或平板探测器32的数量并不局限于一组,可以根据需要设置多组,以便进行三维成像。或者适用于形状较为不同的工件,例如较大的工件。
为了使得本实施例更灵活,工作台5可移动地设于防护铅房1中,防护铅房1的侧面设有供工作台5进出的进出口10,进出口10上设有用于启闭进出口10的防护铅门11。如图3,工作台5推出时,防护铅门11提升,打开进出口10。如图1,应用时,防护铅门11下落,关闭进出口10。
优选地,如图1和图3,工作台5呈L型的板状结构,且工作台5的一端下表面设有第一滑块53,防护铅房1中设有第一导轨51,第一滑块53设于第一导轨51上。工作台5的另一端下部设有滚轮54,以便于移动工作台5。工作台5可以通过人工移动,也可以设置驱动机构。
为了简单而性能稳定地实现各平台的移动,防护铅房1顶壁下表面设有沿X方向延伸的第二导轨211,第一平台21的上表面设有第二滑块212,第二滑块212设于第二导轨211上。第一平台21下表面设有沿Y方向延伸的第三导轨221,第二平台22的上表面设有第三滑块222,第三滑块222设于第三导轨221上。
如图1-图3所示,防护铅房1中设有底座6,其沿防护铅房1的长度延伸,并位于工作台5下方。底座6的上表面设有沿X方向延伸的第四导轨411,第三平台41的下表面设有第四滑块412,第四滑块412设于第四导轨411上。第三平台41上表面设有沿Y方向延伸的第五导轨421,第四平台42的下表面设有第五滑块422,第五滑块422设于第五导轨421上。
在上述各个导轨和滑块中,导轨可以为类似于工字钢结构的型材,相应地,滑块可以为设在导轨两侧的凹槽中的两个滑轮,例如图2所示的第二导轨211和第二滑块212。导轨还可以为方钢或圆钢等,相应地,滑块可以为套设于其上的直线轴承等,不一而足。
如图4所示,本实施例的驱动系统的操控台包括机箱71、操控面板72、远距作业显示屏73、成像显示屏74、PLC控制器及监控视频控制器75、计算机工控机箱76。此设计不但易于控制各平台的移动,而且便于控制X设备的运动,同时还可以实时观察防护铅房1内部的图像。
由上可知,本实施例具有以下特点:
独立屏蔽房(防护铅房),X射线成像系统及主要机械构件均安装于屏蔽房内,远距、可视化操作,扫描作业时人员无需接近X射线源;加装多重联锁保护装置,杜绝作业人员受到射线辐射伤害。
工件车(工作台)由伺服电机驱动,加装联排从动轮,工件车经过屏蔽房铅门下沉豁口时,保持1排或1排以上从动轮平面、水平运行,减低工件车震动,使之平稳进出屏蔽房加载或卸载工件。
采用1套或多套X射线和成像系统,使之获得二维或三维影像,精准定位缺陷、瑕疵几何位置。
工件可放置于工件车上,亦可加装夹治具,以适应不同工件的形状、扫描角度等需求。
多轴联动、多自由度调节,按需获取最佳视角和高品质影像。
还可以采用高宽容度X射线系统,20~320kv电压、0~4mA电流可调节,以适应不同材质、密度工件。
综上,本实用新型可以适应大部分不同形状和材质的工件,有效避免因新工件形状、材质等因素的变化,无需另行购置新设备。影像剖视图可以精准查找缺陷、瑕疵,降低工件修复成本。屏蔽房单边开口进出工件车,减少设备长度30~40%,节省占地面积。
由技术常识可知,本实用新型可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此,上述公开的实施方案,就各方面而言,都只是举例说明,并不是仅有的。所有在本实用新型范围内或在等同于本实用新型的范围内的改变均被本实用新型包含。
Claims (8)
1.一种工业无损检测设备,包括用于发射X射线的X光机、用于接收X射线的线阵或平板探测器以及用于设置所述X光机、线阵或平板探测器的防护铅房,其特征在于,还包括:
工作台,用于承载工件;
第一平台,沿X方向可移动地设于所述工作台上方;
第二平台,沿Y方向可移动地设于所述第一平台下表面,所述X光机设于所述第二平台下表面;
第三平台,沿X方向可移动地设于所述工作台下方;
第四平台,沿Y方向可移动地设于所述第三平台上表面,所述线阵或平板探测器设于所述第四平台上表面;
驱动系统,设于所述第一平台、第二平台、第三平台和第四平台,以驱动所述第一平台、第二平台、第三平台和第四平台移动;
其中,所述X方向、Y方向为在投影在同一水平面中的相互垂直的两个方向。
2.根据权利要求1所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述工作台可移动地设于所述防护铅房中,所述防护铅房的侧面设有供所述工作台进出的进出口,所述进出口上设有用于启闭所述进出口的防护铅门。
3.根据权利要求2所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述工作台呈L型的板状结构,且所述工作台的一端下表面设有第一滑块,所述防护铅房中设有第一导轨,所述第一滑块设于所述第一导轨上。
4.根据权利要求3所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述工作台的另一端下部设有滚轮。
5.根据权利要求1所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述防护铅房顶壁下表面设有沿X方向延伸的第二导轨,所述第一平台的上表面设有第二滑块,所示第二滑块设于所述第二导轨上。
6.根据权利要求5所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述第一平台下表面设有沿Y方向延伸的第三导轨,所述第二平台的上表面设有第三滑块,所述第三滑块设于所述第三导轨上。
7.根据权利要求1所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述防护铅房中设有底座;
所述底座的上表面设有沿X方向延伸的第四导轨,所述第三平台的下表面设有第四滑块,所述第四滑块设于所述第四导轨上。
8.根据权利要求7所述的工业无损检测设备,其特征在于,所述第三平台上表面设有沿Y方向延伸的第五导轨,所述第四平台的下表面设有第五滑块,所述第五滑块设于所述第五导轨上。
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